プラズマイオン注入成膜装置 PBII-R1000
生産機としても使用でき、多くのユーザー様で採用されております。
プラズマイオン注入・成膜装置(Plasma Based Ion Implantation & Deposition:PBII&D)とは株式会社栗田製作所と産業技術総合総合研究所関西センター殿と共同で開発し、特許を取得特許第3555928号)した全く新しいプラズマイオン注入技術です。DLCコーティングも可能です。取扱いが容易な為、生産機としても使用でき、多くのユーザー様で採用されております。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。
- Company:株式会社栗田製作所 本社・京都事業部
- Price:応相談