更新日： 集計期間:2025年09月24日～2025年10月21日
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オープンな環境でクリーン空間が実現！ ベンチタイプクリーンゾーン装置
KOACH T 500-Fは、卓上空間をより簡便に高清浄化できるクリーンゾーン形成装置です。 (FERENA搭載/オリジナル超精密フィルター) 研究・検査機関に多くの導入実績があります。 プッシュフードを対抗させるという発想の転換から誕生。周りを囲うことも仕切ることもないオープンクリーンゾーンが実現しました。移設、レイアウト変更が簡単です。 【特徴】 ○フレキシブルホースにより 機器周辺などの局所気流の状態も可視化できる ○コンタミネーション対策に、室内の必要な箇所のみ、 局所クリーン化できる ○対向型気流によって周囲の空気の誘引が抑制されるため、吹き出し面 から離れた位置でもゾーン内の清浄度の低下はほとんど見られない ○スイッチを入れた110秒後、いつでもどこにでも ISOクラス1のオープンスーパークリーンゾーンを形成 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
蒸着,スパッタでは困難な 高曲率レンズ，ボールレンズへの成膜に最適
光学薄膜プロセスでは一般的な蒸着，スパッタとは異なるALD（Atomic Layer Deposition）の手法を用いることにより、これまで困難とされてきたボールレンズや高曲率レンズなどの基板に対し、 付き廻りに優れかつ高品質な薄膜の形成が可能となっております。 【概要】 ○φ10 インチ基板 最大50枚一括処理（25枚×2軸） ※基板形状や条件により異なります。 ○基板回転機構付属
少額装置と小面積工場で製造可能！アライメントずれも発生しない優れた工法を実現
当社の技術『FSNIP(Free Substrate material Narrow pitch Imprinted Process)』 をご紹介いたします。 導電ペーストをインプリント工法で基板上に転写することで40μmピッチ以下、 最小10μmピッチの配線・バンプを同時形成。 転写配線のため、少額装置と小面積工場で製造することができ、また配線・バンプ 同時形成のため、アライメントずれも発生しない優れた工法を実現しました。 【特長】 ■導電ペーストをインプリント工法で基板上に転写 ■40μmピッチ以下、最小10μmピッチの配線・バンプを同時形成 ■少額装置と小面積工場で製造することができる ■アライメントずれも発生しない ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
長年培った真空技術！真空機器関連及び理化学機器における製品ラインアップ！
真空機器・装置、理化学機器・装置においてグローバルな視野を持ち、 常に時代の先端を見つめ、新しい技術と商品ニーズを先取りし、 ユーザー様の役に立つ製品を提供し続けている、株式会社パスカルの 総合カタログです。 従来のイオン散乱表面分析装置では不可能だった、絶縁体表面の極性判別や 構造解析、元素同定、さらに電場・磁場中での【その場分析】を可能にした 飛行時間型原子散乱表面分析装置「TOFLAS-3000」をはじめ、 「真空薄膜形成装置」や「表面分析装置」などをラインアップしています。 【掲載内容 抜粋】 ■真空装置、コンポーネント ■表面分析装置 ■低温関連機器 ■アジレント社製真空機器(旧バリアン) ■その他真空関連製品 ほか ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
お客様のご仕様に合わせて各種スタッドバンプ加工の対応を行います。
スタッドバンプ加工は、フリップチップ実装技術では、必要なものです。 弊社では、ウエハー1枚からでもスタッドバンプを形成いたします。2段バンプの加工も可能です。 レベリングの対応を行います。 ウエハーサイズは最大12インチまで対応可能です。 個片チップ、ベアウエハー、テープマウントウエハー、リコンストラクトウエハーの対応を行います。
