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重ね合わせ装置やシール剤塗布装置と窒素置換容器、特型GBの設計・制作
半導体・各種産業向けの蒸着装置、スパッタ装置、ＣＶＤ装置等の成膜装置の設計・製作を行っております。装置完成後の現地搬入・立ち上げ、稼動後の保守を含めたトータルでのサービスが可能な体制となっております。排気セット等のユニット単位での設計製作も行っております。また、各種実験補助設備の設計や真空設計の応用に豊富な経験があり、仕様検討の段階よりお手伝いさせていただきます。
パイルなど微細物を静電気で帯電させて、接着剤を塗布した基材に一瞬で付着！
『均一塗膜形成装置』は、パイルやガラスビーズなどを静電気で帯電させて 接着剤を塗布した紙や布に付着させる装置。 小型高電圧電源「GTシリーズ」と組み合わせて使用します。 接着剤塗布済みの基材を上の電極板に、付着させたい微細物を下の電極板に設置。 上下の電極間に高電圧を印加することで均一に付着させます。 サンプル品を送っていただければ、付着テストも可能です。 【特長】 ■一瞬で付着完了 ■単層の塗膜を形成できる ■各種粒子やパイル、ガラスビーズに対応 ※詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。 ＜無償デモ 受付中＞ グリーンテクノへご来社頂ければ、無償にて実機デモを承ります。 「ラインナップを見てみたい」「実機でテスト／検証したい」という方は、 下記【お問い合わせ】よりご連絡ください。 ※高電圧電源の 受託生産 も承っております。まずはお問い合わせ下さい。
導電性カーボン薄膜をスパッタリングで形成。低温（４００℃以下）で不活性ガスとカーボンターゲットのシンプルプロセスで安定成膜
独自高密度スパッタ法 アーク放電型マグネトロンスパッタリング法（ＡＤＭＳ法）によりメタル成膜と同等のプロセスで導電性カーボン薄膜を形成。 従来のスパッタカーボン薄膜に比べて格段に緻密で高い密着性が特徴。 導電特性と膜の安定性よりエネルギー・バイオセンサーなどの新分野に対応 導電性カーボン薄膜は硬度や表面の平滑性に優れており、金属への高い密着性より機械部品の表面処理（トライボロジー用途）への応用も可能です。
本装置は、露光工程後ロールtoロールで連続して各種フィルム上のレジスト膜を現像処理する設備です
ご不明な点がございましたら、お気軽にお問合せ下さい。
真空薄膜形成装置。新しい発想のイオンアシスト蒸着装置
【特長】 ●新型制御システムによるオペレータ負荷の軽減 ●排気・成膜速度向上による生産時間の短縮 ●新型光学膜厚計と新型モニターガラス機構により、 膜再現性が向上 ●コンパクトな配置を実現
従来の陽極酸化装置をさらに応用したポーラスシリコン形成装置。使用薬液・電流密度により多孔質シリコンウエハーが形成されます。
陽極酸化装置は従来、電流を流し酸化膜を形成させる装置でしたが、さらに応用したポーラスシリコン形成装置は使用薬液・電流密度を変えることで多孔質シリコンを形成する装置です。 ※詳しくはPDF（カタログ）をダウンロードいただくか、お気軽にお問い合わせください
取り外し・自動運転が可能な強力排気と粉末分離システム！
SPD薄膜形成装置KM-300は、300mm角基板に対応しており、短時間で均一な成膜をするために、 特別なスキャニングパターンを持つ三つのスプレーノズルを使用しています。 下方向への強力排気と粉末分離システムで、取り外して洗浄、または自動運転が可能です。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをダウンロードして下さい。
ニーズに合った創造的で付加価値の高い製品づくりに挑戦いたします！
株式会社SPD研究所は、SPD薄膜形成装置などの製造販売をはじめ、 次世代薄膜太陽電池の開発などを行っている会社です。 当社では、化学的薄膜形成技術に関連する装置の製作と合わせて、 この技術によって作製した各種薄膜を部材とするエネルギー供給と、 環境保全に役立つ新規色素増感太陽電池システムの開発を目指しています。 エネルギーと環境分野において、ニーズに合った創造的で付加価値の 高い製品づくりに挑戦し、お客様と共に社会にも貢献いたします。 【事業紹介】 ■SPD薄膜形成装置、DSC及びPSC試作装置、FTO透明導電膜等の製造販売 ■次世代薄膜太陽電池の開発 ■薄膜応用デバイスに関する試作・調査研究の受託 ■DSC連続生産システムの開発 詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
ウェーブフォーマによる3次元ソリッドウェーブ構造！よりしなやかで多彩な機能を再現
『WaveFormer』は、上下に配置された多数の分割ギヤーロールの 嚙み合わせにより、連続的に不織布素材に安定したジャバラ状の ウェーブを形成し、クッション性と表面積の拡大を同時に行えます。 上下動する多数の分割ギヤーロールと可動式ガイドバーの採用により ギヤーロールの交換をすることなく折り幅のある程度の範囲が調整可能。 樹脂製ギヤーロールと熱風のみによる加工でケミカルフリー金属フリーです。 【特長】 ■調整可能な折り幅変更 ■ダブルウェーブ加工 ■ウェーブ密度の設定 ■エコフレンドリー設計 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
驚くほど緻密で平滑な反応膜を実現した『アーク放電型マグネトロンスパッタリング装置』
当社で取り扱う、『アーク放電型マグネトロンスパッタ装置』をご紹介します。 マグネストロンスパッタ機構の前面に低電圧大電流のアーク放電機構を付加 したことで、基板に入射するイオン量が一般的な装置に比べて10倍多くなり、 緻密で硬い、平滑な反応膜を工業レベルで形成できるようになりました。 また、コーティング面の仕上げ研磨が不要になったことで、耐久性も向上し、 省エネルギーに貢献しています。 【特長】 ■マグネストロンスパッタ機構の前面に低電圧大電流のアーク放電機構を付加 ■基板に入射するイオン量が一般的な装置に比べて10倍多い ■緻密で硬い、平滑な反応膜を工業レベルで形成 ■コーティング面の仕上げ研磨が不要 ■耐久性も向上し、省エネルギーに貢献 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
材料の脆性破壊で生じた破面をそのまま保護！破面の各種分析を行う事が可能
『破面蒸着保護膜形成装置』は、各種金属、合金材料などを極高真空中 （X10-9Pa）で低温（～100K）にして機械的衝撃により破断させた後直ぐに 破面にNi等の真空蒸着を行う為に開発された装置です。 これに、材料の脆性破壊で生じた破面をそのまま保護することが出来るため 3次元アトムプロープ観察等による破面の各種分析を行う事ができます。 ご用命の際はお気軽にお問い合わせください。 【構成】 ■メインチャンバー ■試料交換室 ■真空排気系 ■極高真空計 ■Kセルタイプ蒸発源 ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
真空薄膜形成や装置についてまとめた小冊子、差し上げます。
この資料は、真空薄膜形成装置を利用して薄膜を作製する方々を対象に、 ■真空とはどのようなものか ■真空を利用した薄膜形成技術にはどのようなものがあるのか ■薄膜とはどのようなものか ■薄膜形成に用いる装置はどのようなものか ■真空装置を使用するにあたって注意すること ■日常のメンテナンスについて 等 真空薄膜形成をする上での基本事項が書かれています。 この資料をお読みいただき、真空薄膜形成装置の性能を 最大限に活用していただければ幸いです。 〜資料をご希望の方は 「資料請求」 からお願い致します〜 ※シンクロンの真空薄膜形成装置ラインナップについては 「ダウンロード」 からご確認下さい。
室温・大気圧環境でガラス薄膜を形成！
室温、大気圧環境でガラス薄膜の形成が可能となりました。 携帯電話の保護フィルムからガラスまで、幅広い対象物へ処理可能です。 少ない塗料でも効率のいい塗装も可能！
熱ダメージもなく、nm単位の膜厚を高い再現性で成膜できる！
オスミウムコータ(導電被膜形成)設備の紹介とその観察例について 解説いたします。 試料表面の導電被膜形成処理として、金属オスミウム(Os)の 極薄膜コーティングを行います。 また、試料表面に膜由来の形状が現れず、表面形状観察やEBSD測定への 前処理に用いることが可能です。 【特長】 ■チャージアップのない極薄膜の形成 ■再現性の高い膜厚制御 ■粒状性のない膜 ■熱ダメージのない成膜 ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
蒸着,スパッタでは困難な 高曲率レンズ，ボールレンズへの成膜に最適
光学薄膜プロセスでは一般的な蒸着，スパッタとは異なるALD（Atomic Layer Deposition）の手法を用いることにより、これまで困難とされてきたボールレンズや高曲率レンズなどの基板に対し、 付き廻りに優れかつ高品質な薄膜の形成が可能となっております。 【概要】 ○φ10 インチ基板 最大50枚一括処理（25枚×2軸） ※基板形状や条件により異なります。 ○基板回転機構付属
