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炉(ガス) - 企業と製品の一覧

更新日: 集計期間:2025年04月02日~2025年04月29日
※当サイトの各ページの閲覧回数を元に算出したランキングです。

製品一覧

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真空はんだリフロー炉 HVRシリーズ

ボイドレス・フラックスフリーに対応したインライン型真空はんだリフロー炉です。

昨今パワー半導体や先端パッケージングの進化つれて、高品質なはんだ接合が求められています。そのため、ボイド(気泡)抑制やフラックスを使わないはんだリフローが必須となっています。HVRシリーズは、チャンバー内を真空引き(減圧)することで、溶融はんだ内からボイドを逃がしボイド率を1%未満に低減させることが可能です。また、還元効果ガスとしてギ酸を用いることでフラックスフリーはんだに対応しています。 HVRシリーズの特徴として、はんだリフロープロセス(還元・はんだ溶融・冷却)は1チャンバーで連続処理され、製品搬送はロボットにより完全自動化されています。本コンセプトにより、インラインでの製品投入・回収が可能となり、ユニット連結することで生産性が向上します。 デモ機を用意しておりますので、実機見学やはんだ接合デモをご希望の方はお気軽にお問合せ下さい。

  • はんだ付け装置

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ストランド炉(線材光輝焼鈍炉) 

一つの炉で径の異なる線材の熱処理が可能です。また、角型、丸型、楕円型など様々な形状にも対応できます。

サンファーネスでは連続式の『ストランド炉(線材光輝焼鈍炉)』を得意としています。ヒータ交換や定期メンテナンス作業の簡略化、焼鈍管の炉内への出し入れがスムーズに行えるような築炉構成をいたします。 【課題解決】こんな課題を解決してきました ■炉内に体積する酸化スケールの清掃、点検を簡単に行いたい ■コ炉の電力コストの抑制、作業効率を上げたい ■焼鈍管交換を簡単に行いたい 制御盤のプログラムの工夫により電力コスト削減や作業効率を上げることも可能です。 小ロット生産 ・ 熱処理試験・ 少量サンプル製造などご相談ください。 ​ ※詳しくはお問い合わせ、またはPDFをダウンロードしてください。

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  • 工業炉

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省エネ型高温炉

今の焼成技術に満足していますか?環境に配慮した新技術と従来の技術を融合した省エネ型高温炉

『省エネ型高温炉』は、独自に開発した特殊炉材により1700℃仕様まで 省エネが可能です。 燃料原単位を53.4%、CO2排出量を37.0%削減(納入炉の実績値)。 高効率熱回収が可能な熱交換器を導入しており、既設高温炉の 省エネ仕様への改造が可能です。 【特長】 ■燃料原単位を53.4%、CO2排出量を37.0%削減(納入炉の実績値) ■独自に開発した特殊炉材により1700℃仕様まで省エネが可能 ■高効率熱回収が可能な熱交換器を導入 ■既設高温炉の省エネ仕様への改造が可能 ※詳しくは関連リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • 工業炉

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連続炉『電気加熱高温・真空ロータリキルン(特殊雰囲気・大気)』

独自開発した気密構造!安定した雰囲気制御が可能な高温・真空ロータリキルン

『電気加熱高温・真空ロータリキルン(特殊雰囲気・大気)』は、高砂の独自開発した気密構造により、安定した雰囲気制御が可能な連続炉です(特許取得済み)。 石英・特殊金属などのレトルトの使用により、金属では出来ない高温処理が可能です。 各種粉体原料、金属系材料、その他の用途に適しています。 【特長】 ○キルンタイプ:外熱式ロータリキルン ○回転攪拌による均一、短時間加熱が可能 ○窒素、水素、酸素、その他各種雰囲気ガスの利用に対応可能 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

  • 工業炉
  • 電気炉

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水素雰囲気コンベア炉(還元雰囲気連続熱処理装置)

豊富な実績を誇るベストセラータイプ、高温半田付やペースト焼成・金属粒子燒結接合工程を実績のソフトと信頼性の高いハードでサポート

炉内を水素還元雰囲気置換。N2による不活性雰囲気では実現できない低酸素濃度と還元雰囲気処理をコンベア炉による連続処理で実現。 水素雰囲気の還元効果を応用し、通常のリフローでは対応できない高い信頼性を求められる高温半田付や連続還元雰囲気処理熱処理に対応。 各種ペーストの焼成にも実績豊富。 300mmウェハ対応のCtoCタイプでシステムLSIのウェハバンプのリフロー工程もカバー 従来の半田付・ロー付・ペースト焼成工程だけでなく次世代接合材(金属ナノペースト)の燒結接合にも実績対応。 デモ機を常設し各用途の初期テストから量産まで確実にサポート。

  • リフロー装置
  • アニール炉
  • 電気炉

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真空装置 真空溶解炉 非消耗アーク溶解炉

真空装置&真空ポンプのことならお任せください!

水冷銅鋳型を用いイナートガス(Ar.He)雰囲気での溶解のため、試料は酸化、窒化することなく、また、るつぼからの汚染がないので極めて良好な溶解ができます。 【特徴】 ○耐熱材料のるつぼと反応する金属では絶対欠くことのできない溶解法の一つです。 ○排気から溶解まで僅か数分で作業が完了し、熟練者でなくても操作が簡単にできます。 ○アークの安定領域7×10-3Pa以上の、大気圧より減圧下での溶解は脱ガス作用があります。 ○電極はユニバーサルシールを介し、上下前後左右に動かすことができます。  従って試料の攪拌が十分に行うことができ、均一な合金を得ることができます。 ○アークスターターにより点火が容易でW電極によるピックアップはほとんどありません。 ○鋳型の交換により任意の大きさ、形状の試料が得られます。 ○水冷ジャケットタイプのチャンバを使用しているため連続溶解を行ってもチャンバが熱くならず安全です。 ※詳しくはPDFダウンロード、またはお問い合わせください。

  • 真空機器
  • 電気炉

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高温熱処理炉『TOR-14』

炉内温度分布の均一性が特長!試料着脱は簡易蓋開閉方式及び試料昇降機構によります

『TOR-14』は、加熱温度2000℃(Max.)、1800℃(Nor.)の高温熱処理炉です。 省スペース、省電力、省冷却水によるエコ設計。 排気系はターボ分子ポンプ又はDPに変更が出来ます。 オプションとして、ルツボ形状選択や、真空排気ユニット取付、冷却水チラー取付をご用意しております。 【特長】 ■炉体、制御部一体化によるコンパクト設計 ■試料着脱は簡易蓋開閉方式及び試料昇降機構による ■炉内温度分布の均一性 ■省スペース、省電力、省冷却水によるエコ設計 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

  • 加熱装置

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6インチ用縦型VGF製造炉『MAT-200VGFHQ』

容易に欠陥(EPD)の少ない結晶を得ることが可能な炉体移動式のVGF炉です

『MAT-200VGFHQ』は、石英管式炉体移動型の炉構造であるVGF製造炉です。 ヒ素圧1atm中で育成するので、容易に欠陥(EPD)の少ない結晶を得ることが 可能。常用温度は1200℃、最高温度は1300℃です。 また、育成後のGaAsインゴットとPBN坩堝は、液体に浸漬することで分離します。 さらにPBNるつぼと石英アンプルは、再使用が可能です。 【特長】 ■育成後のGaAsインゴットとPBN坩堝は、液体に浸漬することで分離 ■PBNるつぼと石英アンプルは、再使用が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

  • 工業炉

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マッフル炉『OSK75YU IGM12/IGM14/IGM17』

最高温度は1 200℃、1 400℃、1 700℃!30セグメントのPID自動制御により温度管理を行います

『OSK75YU IGM12/IGM14/IGM17』は、30セグメントのPID自動制御により 温度管理を行うガス置換マッフル炉です。 材料の出し入れが便利なボックス構造を採用。また、炉の外部に触れても 安全な空冷ファン付きの二層鉄骨構造となっています。 オプションとして”LCDタッチスクリーンコントロール”や”コンピューター 接続用プログラム ソフトウェア”もご用意しておりますので、ご用命の際は お気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■最高温度1 200℃、1 400℃及び1 700℃の3タイプから選択可能 ■材料の出し入れが便利なボックス構造を採用 ■炉の外部に触れても安全な空冷ファン付きの二層鉄骨構造 ■30セグメントのプログラマブルPID自動制御 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • 電気炉

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横型雰囲気管状炉『OSK 75YU HTシリーズ』

二層強制空冷構造、表面温度を60℃未満に保つ!「時間温度曲線」を任意に設定可能

『OSK 75YU HTシリーズ』は、炉心管に高純度石英管またはアルミナ管を 使用した横型雰囲気管状炉です。 SCR(シリコン制御整流器)を介したPID自動制御、位相角始動、 電流制限抵抗による電力制御。 オプションで複数加熱ゾーンの選択、タッチスクリーンコントロール、 50セグメントPID自動制御機械式ポンプ、混合ガスタンク、 KF整形ベローズがございます。 【標準付属品(一部)】 ■真空フランジ×1 ■断熱ブロック×2 ■Oリング×4 ■フック棒×1 ■熱電対×1 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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ストランド式炉(線材光輝焼鈍炉) 

水冷パイプや冷却管の交換も可能。

サンファーネスでは連続式の『ストランド式炉(線材光輝焼鈍炉)』を得意としています。加熱パイプの交換はもちろんのこと、水冷パイプや冷却管の交換も可能です。また冷却帯(水槽)にもシール機構を組み込むことで1本単位で交換することも可能です。 【製品例】ストランド式炉でつくられる身近な製品例 ■ステープル ■眼鏡フレーム材 ■CPUヒートパイプ ■釣針 ■ばね用線材 ■ボルト・ナット用線材 ■金網 ■カテーテル用マーカーパイプ ■補償導線素材 ■溶接棒材 ■熱電対素線 制御盤のプログラムの工夫により電力コスト削減や作業効率を上げることも可能です。 小ロット生産 ・ 熱処理試験・ 少量サンプル製造などご相談ください。 ​ ※詳しくはお問い合わせ、またはPDFをダウンロードしてください。

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焼成炉『高温シャトルキルン』『ファイバーシャトルキルン』

炉内雰囲気(酸素濃度)の再現性を実現!構成材の軽量化により低燃費・迅速焼成

『シャトルキルン』は、製品を積載した台車を炉内へ装入し、所定の温度で 処理する形式の炉です。 生産量の調整と、焼成温度のパターン変更が容易。 自社開発のバーナー(スーペリオバーナー)と温度制御システムにより、 約100℃から2℃/hの精密な温度コントロールと均一焼成を実現します。 【特長】 ■約100℃から2℃/hの精密な温度コントロールと均一焼成を実現 ■炉内雰囲気(酸素濃度)の再現性を実現 ■荷姿や限られた設置スペースに応じた好適な燃焼方式をご提案 ■特殊な炉材構成によるメンテナンスが軽減 ■セラミックスファイバー等、構成材の軽量化により低燃費・迅速焼成を実現 流量制御システムでは、空燃比をコントロールしながら温度を制御するため、 炉内雰囲気の再現性を確立します。 ※詳しくは関連リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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新真空熱処理炉『HV9』

型式:TITANH6!IoT制御システムや閉鎖型冷却システムなど搭載

当社の『HV9』をご紹介いたします。 リモート、クラウドを経由した遠隔監視、遠隔制御システムの「Vacuprof」や、 クラウドサーバー対応予測保全システム「PdMetrics」を搭載。 CCコンポジット炭素繊維強化複合材料により放射効率を向上し、 4層グラファイトフェルトによる高断熱構造。効率的な昇温、冷却が可能です。 【特長】 ■閉鎖型冷却システム ・冷却水を閉鎖循環とし、炉体の腐食の予防とポンプ制御による省エネルギーの実現 ■冷却ファンインバータ制御 ・冷却ファンを真空下からインバータ制御し、省エネルギーを達成 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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連続式ストランド炉(線材光輝焼鈍炉) 

ステンレスや非鉄金属など多種多様な材質の熱処理に対応可能

サンファーネスでは連続式の『連続式ストランド炉(線材光輝焼鈍炉)』を得意としています。ステンレス鋼線をはじめ、チタン合金などの非鉄金属などの材質の線材の熱処理にも対応可能です。処理量やワークサイズ、用途、前後工程などご要望をお聞きし、周辺領域も含めて最適なストランド炉をご提案いたします。 【製品例】ストランド式炉でつくられる身近な製品例 ■ステープル ■眼鏡フレーム材 ■CPUヒートパイプ ■釣針 ■ばね用線材 ■ボルト・ナット用線材 ■金網 ■カテーテル用マーカーパイプ ■補償導線素材 ■溶接棒材 ■熱電対素線 制御盤のプログラムの工夫により電力コスト削減や作業効率を上げることも可能です。 小ロット生産 ・ 熱処理試験・ 少量サンプル製造などご相談ください。 ​ ※詳しくはお問い合わせ、またはPDFをダウンロードしてください。

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真空・加圧リフロー炉『VPF300』《2023年モデル》

【技術資料付き】最大0.4MPaの加圧で、ボイド率を大幅低減。急速冷却でプロセス効率化。フラックスレスはんだ付けにも対応

『VPF300』は、チャンバー内を真空(減圧)状態にできるだけでなく、気圧を0.4MPaまで加圧できるため、はんだ内部のボイド率を大幅に低減、高品質なはんだ付けを実現する真空・加圧リフロー炉です。 チャンバー内の圧力や加熱温度など、ワーク毎にプロセス条件を設定でき、独自の急速冷却機能により、効率的な加熱・冷却が可能。 また、ギ酸還元リフロー、フォーミングガスリフローに対応しており、 フラックスレスのはんだ付けプロセスを構築することもできます。 2023年モデルは冷却機構を改良し、メンテナンス性を向上しました。 【特長】 ■300×300mmとワイドな有効加熱エリア ■最大加熱温度は450℃ ■真空チャンバーは観察用窓を装備 ■直感的に操作できるタッチパネルGUIを採用 ※「PDFダウンロード」より製品資料をご覧いただけます。  テストをご希望の方はお気軽にお問い合わせください。

  • はんだ付け装置

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