更新日： 集計期間:2025年03月26日～2025年04月22日
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「極薄膜」「複合積層」「薬液に依存しない無機物」を表面処理加工できます！！
【出来る事】 「極薄膜」 最薄 数nm～から可能 「複合積層」 複数物質を積層可能（最大50層程度） 「非浸食」 母材表面を非浸食で表面処理可能 その他、メッキ処理などでは得られない特殊条件で加工致します 【検討依頼の流れ】 ◎お客様 実現したいこと/依頼内容をお知らせください 守秘義務契約等も都度対応致します ◎弊 社：加工条件可否。不足情報の確認を致します その上で、お見積り申し上げます ◎お客様：発注可否をいただきます ◎弊 社：ご発注の場合、加工実施して製品を納入 【実績】 素材メーカー様の分析用サンプル製作 金属メーカー様の鋼材表面処理加工 分析目的や材料工学分野等のご相談が多くございます －－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－ ご興味を持たれた方は、ぜひ一度お問合せください メール頂ければ、サンプル・資料にてご提案申し上げます。 h-kato@taisyou-op.co.jp 加藤まで。
超硬基材上のTi系PVD膜除膜サービス。超硬基材のコバルトを溶出させることなく除膜できるので容易に除膜・再コートが可能に！
従来まで、超硬基材上にコーティングしたTi系被膜を除膜すると、 超硬基材中のコバルトが溶出してしまうため、表面が大きく荒れ、基材そのものの性能が低下するなどの問題がありました。 『T-surf Decoat』は、超硬基材のコバルトを溶出させることなく、Ti系PVD膜を除膜できるサービスです。 したがって、表面を荒らすことなく、Ti系PVD膜を除膜できるので、容易に除膜・再コートが可能となりました。 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、 お気軽にお問い合わせください。
Y5O4 F7膜は表面フッ素量変化が小さいのでエッチング装置のエージング時間を大幅に短縮できます。透過率特性も優れています。
半導体製造工程の一つであるドライエッチングプロセスにおいてウェハ処理を行うと、プロセスガス自体からの生成物やエッチング時の副生成物がチャンバ内壁やチャンバ内のパーツ表面に付着するといった現象が発生すします。これら堆積物の付着によってプロセスの初期と処理後のチャンバ内表面状態が変化することにより、プロセス条件の変動が発生します。このようなプロセス条件の変動を緩和するため、従来技術では製品処理前に類似ウェハを処理して堆積物をコーティングすることによってチャンバ内表面状態を安定させる手法（エージング）が適用されていました。Y5O4 F7膜はY2O3膜に比べてプラズマ処理前後の表面フッ素量変化が小さいのでエッチング装置のエージング時間を大幅に短縮し、装置稼働時間を上げることに寄与します。
優れた光学特性をもつレアメタルを用いない透明電極
■酸化亜鉛（ＺｎＯ）で希少金属の代替■ 資源が豊富な酸化亜鉛（ZnO）を使った透明導電膜。レアメタルを用いない透明電極を実現します。 当社では、GaをドープしたGZO、AlをドープしたAZOなど、透明性、表面平坦性に優れた酸化亜鉛（ZnO）系透明導電膜を提供しています。
単分子膜などの走査型プローブ顕微鏡での観測用の基板として最適な Au 蒸着膜
簡単な処理で、大気圧中で安定かつ方位が揃った平滑なテラスが揃った表面構造を作製可能
DLCコーティング*をベースに各種特性を付与した当社オリジナルの表面処理膜です
『JCコート(TM)』は印刷用マスクや食品製造機器、産業機器に ご使用いただいている製品です。 電子部品製造で培ってきた表面処理技術をもとに誕生。 *DLCコーティング…ダイヤモンドライクカーボンの略、一般的な特長は、硬質、潤滑性、耐摩耗性、化学的安定性、表面平滑性、離型性など。機械材料、工具、電子機器の低摩擦・耐摩耗コーティングとして適応範囲が大きく拡大している。 ステンレスなどの導電性基材全般に対応可能ですが、不向きなものもございます (亜鉛、銅など)。エンボス加工品やパンチング板などへの成膜も可能ですので、 その他の母材につきましては、ご相談くださいませ。 下記の関連リンクより、当製品の効果を動画でご紹介しております。 【製品リスト(抜粋)】 ■JCコート P(撥液) ・食品生産ライン、機器製造ラインパーツ等の洗浄性を改善させる 撥水撥油性コーティング ■JCコート PH(低凝着 耐摩耗) ・生産工程内トレイ・切断ブレードへの低凝着性・耐磨耗性コーティング ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
ＩＣＦコーティング 高機能・高性能カーボン膜
膜表面が滑らかで、摩擦係数が低く（μ＝０．１）、自己潤滑性があるため、 軟質金属の成形時に、金型への金属凝着を防いだり、金型鏡面部を保護する 『ＩＣＦコーティング 高機能・高性能カーボン膜』 ■□■特徴■□■ ■ＩＣＦ膜はアモルファス（非昌質）カーボン膜で、 グラファイトとダイヤモンドの中間の構造に位置する ※ＩＣＦ膜（Ｉｎｔｒｉｎｓｉｃ Ｃａｒｂｏｎ Ｆｉｌｍ）は、 ＤＬＣを含む高機能・多機能を持つカーボン膜の総称 ■ＩＣＦ膜を油代わりとし、オイルレス化やメンテナンスフリーを実現 ■アモルファス構造のため結晶粒界を持たないため窒化チタンなどの 多結晶構造の硬質薄膜と比べて非常に平滑な表面をしている ■硬度：２，０００〜２，２００ＨＶ ■摩擦係数：μ＝０．１ ■膜厚：標準 １μｍ ０．１μｍ以下の超薄膜も対応可 ■適応材質 超硬合金・ＳＫＨ・ＳＫＤ・ＳＵＪ２・アルミ合金・ベリリウム銅など
ガラスに高耐久の透明導電膜をコーティング。冷蔵ショーケース、発熱ガラス、ソーラーパネル、タッチスクリーンなど用途多彩
『NSG TEC』とは、Transparent Electrically Conductive glass（電気を通す透明なガラス）です。 ガラス製造工程での熱分解を活用したオンラインCVD製法で、ガラス表面に金属の導電性薄膜(TCO)をコーティングした製品です。 金属薄膜は、フッ素を添加した酸化スズ膜であり、FTO、SnO2:Fとも呼ばれています。 【News】ガラス厚み0.7mmの開発に成功しました（※従来は1mm～8mm） 【特長】 ■熱反応成膜(高温600℃以上)による高い耐久性 ■通常のガラスと同様の取り扱いが可能 ■強化、曲げ、合わせガラスなどの後処理が可能 ■強固な密着性(ガラス表面に膜組成が結合) ■表面抵抗は、7～1100Ω/□（各種抵抗を選択可能） ■ニュートラル(無色)な色調と高い透過率 ※詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。
光学部品の表面に何層も重ねることで、反射した光や透過した光が干渉します！
誘電体多層膜(コーティング)の原理は、光の干渉によって反射率や 透過率をコントロールすることです。 光は波の性質を持っているので、同じ方向に進む二つの光が重なる ときには、波の山と山が合わさって強くなったり、波の山と谷 が合わさって消えたりします。これを干渉と言います。 誘電体はその物質により屈折率が異なるので、光学部品の表面に 何層も重ねることで、反射した光や透過した光が干渉します。 【特長】 ■干渉を利用して、特定の色だけを強く反射したり透過したりすることが可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
低温成膜可能な高硬度薄膜。低表面エネルギー、低粘着性
MiCCはFCVA法によりコーティングしたCrN膜です。 半導体パッケージ用金型や、射出成型用金型の離型膜として好適。 低温でコーティングを行っているため、基板材料の変形、変質がありません。 金属膜（MiCC）だけでなく、水素フリーDLC(TAC)膜のコーティングも可能です。 【MiCCの特長】 ■ 低い表面エネルギー（離型性向上） ■ 低温合成 (＞150℃) ■ 高硬度 (~20GPa) ■ 優れた密着性 (臨界荷重 >80N @ 200um tip) ■ 低い摩擦係数 【適用分野】 ■ 半導体封止パッケージ金型 ■ 射出成型用金型 ■ ゴム成型金型 詳しくは弊社Web siteをご参照下さい。
摩擦係数μ＝0.2以下！アモルファス構造で表面が滑らかなコーティング
当社のDLC膜は、アモルファス構造で表面が滑らかです。 潤滑性、摺動性に優れたイオンプレーティング膜です。 また、離型性がよく、摩擦係数が非常に低いのが大きな特長で、 酸及びアルカリに強い特性を持っています。 お客様のニーズに合わせて膜厚、硬度調整が可能です。 【特性】 ■比重(g/cm3)：2 ■硬度(GPa)：10～30 ■抵抗率(Ω・cm)：10E2～10E12 ■屈折率：2.3～2.4 ■摩擦係数：0.15 ■熱伝導率(w・cm・k)：2 ■化学反応性：酸及びアルカリに強い ■最高使用温度：300℃ ※詳しくはPDF資料や関連リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
高い離型性で凝着も防止。耐食性に優れ、効果も長期持続！
自社開発装置により離型性・耐食性を徹底的に高めた超緻密アモルファス膜。 『AS-Fコート』は、優れた離型性と耐食性で、ゴム成形、粉末成形金型や樹脂成形部品などの 成形トラブル解決に多数貢献しております。 長寿命に必要な高い密着力を発揮するよう設計された専用炉を使用。 膜厚は1μm～20μmまで実績あります。 【特長】 ■超緻密表面状態による高離型性・高耐食性 ■専用炉とノウハウによる高い密着力（耐久性） ■最大長1980mmに対応した長尺専用炉も用意 ■低温処理で母材負荷がなく、銅・アルミに対しても成膜が可能 ※詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。
高効率な光選択吸収膜
1994年に創設、本社はイスラエルのキリヤットガットにあり、子会社を日本とドイツにもつ。 独自の真空成膜技術を用い、ナノレベルでの表面構造の制御、再現性に成功し、紫外、可視、赤外波長帯で99％以上の光を吸収する光吸収膜を開発した。本光吸収膜は無公害で、世界中の企業で、光学機器、IRセンサ、航空宇宙システム、太陽熱吸収などに使われている。
