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一体式の構造で交換時の液漏れを防止！チェックバルブにより薬液がこぼれることなく安全な作業が可能
『RK12シリーズ』は、特殊なカプセル構造で、フィルター交換を 簡単にする事ができる製品です。 システムのダウンタイムを大幅に削減。フィルター交換時に、直接薬液に 触れることが無く、毒性・刺激性のある薬液のろ過に適しています。 また、多本入りの製造ライン向け特別仕様の自動ベントは、人手による 排気作業が不要になり、排気効果も大幅に向上します。 【特長】 ■特殊なカプセル構造 ■システムのダウンタイムを大幅に削減 ■交換時の液漏れを防止 ■フィルターの交換時間を短縮することが可能 ■液ロス低減 ■多様な構成対応 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
接着剤や界面活性剤を一切使用しない為、溶出が極めて低いメンブレンフィルター！
『LPFPEシリーズ』は、ろ材にろ過精度の高いPTFE膜、構成部材に HDPEを使用しており、有機溶剤に優れた耐薬品性を持つフィルターです。 接着剤や界面活性剤を一切使用しない為、溶出が極めて低く、 フォトレジスト・レジスト原料・現像液・エッチング液など、 高純度薬液のろ過に適しています。 特にレジスト中のゲル状異物を効果的にろ過できます。 【特長】 ■ろ材にろ過精度の高いPTFE膜、構成部材にHDPEを使用 ■有機溶剤に優れた耐薬品性を持つ ■高純度薬液のろ過に適している ■特にレジスト中のゲル状異物を効果的にろ過できる ■全品出荷前に完全性試験を行う ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
【脱メタル】フォトケミカルの安定性に配慮！様々な要求レベルの金属低減を実現！キレートタイプや非イオン交換型Purifierを追加
イオン交換型Purifierにおける薬液精製では酸の発生によるリスクが懸念として残っていました。これらは化学増幅型レジストの品質を劣化させるリスクのある問題点です。 第1弾として液-液交換による金属除去メカニズムを持つNylon基膜に官能基を修飾したNylonpolarを発表しましたが、第二弾としてキレート構造による金属除去とイオン交換による発生した酸を即座に除去する機構を持つ金属除去Purifierを開発、上梓しました。 Cobetterでは、メタル除去に関する幅広いソリューションをユーザー様に提供すべく、新たな視点での金属除去機構を兼ね備えたPurifierを引き続き開発していきます。 メタル低減がうまく達成できない、イオン交換による酸発生の悪影響で薬液安定性に対する懸念が払拭できないなど、薬液精製に新しいソリューションを適用されたい方は必見です。 全ての金属に万能な金属除去性能を発揮するPurifierを探すことは至難の業ですが、ソリューションの引き出しを多く持っておくことを強く推奨いたします。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
長時間安定のろ過が可能！効率を確保した上で、流量を大きくして、寿命を長くすることができます
『RK12-130シリーズ』は、膜面積を大きくした大流量フィルターです。 膜面積は通常のRK12フィルターの2倍以上であるためフィルターの交換頻度を 減らし、薬液のロスを抑え、長時間安定なろ過を可能にしています。 特に大流量、長時間塗工のろ過工程に適しています。ロール+プリーツの 特許構造(PRF-HCのみ)は、効率を確保した上で、流量を大きくして、寿命を 長くすることができます。 【特長】 ■膜面積は通常のRK12フィルターの2倍以上 ■フィルターの交換頻度を低減 ■薬液のロスを抑える事が可能 ■特に大流量、長時間塗工のろ過工程に適している ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
用途に応じた幅広い孔径（1nm相当の微細孔径も）と清浄度を有するポリエチレンフィルタ
Cobetter Photopexシリーズは、最先端1nm相当から5μｍ相当まで幅広い孔径を有する高Retentionのフィルタであり、半導体製造プロセスのLithography工程を初めとする厳しい要求にMeetする清浄度を有します。 この高い清浄度のため、高いShedding性能を示し、フィルタからの抽出を低減しております。 また、用途に応じて膜面積も選択することが可能であります。
様々なろ材・孔径を取り揃えており、納期の短縮・サプライチェーンの安定化に寄与します。
納期遅延等にお困りのお客様！ 製薬業界で使用される代表的な材質（PES・PVDF・PTFE・NYLON・PP）を取り揃えており他社からの切り替えに最適です。 膜・カートリッジ・カプセルなどのサンプル提供も可能です。 お気軽にお問い合わせください。
半導体製造工程に使用される材料の精製から、デバイス製造工程に使用される材料やガスに対して幅広く高性能な商品のラインナップ
開発から生産、販売までの一貫体制を採用し、多様な製品ラインナップと高品質の技術力で、顧客のNEEDSに迅速に対応し、品質工場するフィルトレーションソリューションを提供します。 特に半導体製造工程用フィルタに対しては、最先端デバイス適用に向けた除去効率が高く、フィルタの清浄度の高いものまでご用意しております。
一般的なイオン交換型金属除去膜から半導体アプリケーションに特化した金属除去膜まで幅広いラインナップ。
Iongard SL purifier イオン交換型有機溶剤向け金属除去 Nylonpolar Purifier Cobetterオリジナルの金属除去膜。表面修飾型ナイロン基膜を使用。酸を発生させないため、Lithography用材料に最適 Iongard Polar Purifier 極性有機溶剤に有効な金属除去 Cemdeion Purifier 表面修飾型テフロン基膜。最終洗浄液として使用されるIPAや、耐薬品性を要求する有機溶剤に対して使用可能
