更新日： 集計期間:2025年10月15日～2025年11月11日
※当サイトの各ページの閲覧回数を元に算出したランキングです。
更新日： 集計期間:2025年10月15日～2025年11月11日
※当サイトの各ページの閲覧回数を元に算出したランキングです。
更新日： 集計期間:2025年10月15日～2025年11月11日
※当サイトの各ページの閲覧回数を元に算出したランキングです。
211～225 件を表示 ／ 全 230 件
前処理なしでかざすだけ！瞬時に質量分析可能な大気圧直接イオンソースのご紹介
『DART』は、前処理なく質量分析ができる大気圧直接イオンソースです。 固・液・気体、サンプルの形状を問わずかざすだけ。 連続的に測定することで変化の瞬間をモニタリングできます。 さらに、前処理なく測定できるため溶解する必要がありません。 【特長】 ■固・液・気体、サンプルの形状を問わずかざすだけ ■リアルタイム分析なため変性する前に測定可能 ■前処理なく測定できるため溶解する必要がない ■APCIベースのソフトイオン化で塩の影響を受けにくい ■プロトン化分子、脱プロトン化分子が生成されやすい ■連続的に測定することで変化の瞬間をモニタリングできる ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
揮発性成分の高感度分析イオンソース LCMSに簡単接続、ppt感度の直接イオン源
Plasmion社が開発した「SICRIT」は大気圧質量分析は初となるフロースルーソフトイオン化技術を有したイオンソースユニットです。MSの試料導入部に直接取り付け、独自形状のコールドプラズマを使用して導入部へ引き込まれた分子をイオン化します。プラズマは導入部直前で生成するため、透過率ひいては感度が大幅に向上します。LCおよびGCと接続が可能です。 【特長】 ■堅牢で高感度。幅広く使えるイオンソース ■pptオーダーの高感度な分析が可能 ■各メーカーのLC-MSシステムへ簡単に取り付けられすぐに使用可能 ■LCやGCで使用。ダイレクトSPME-MSでppqオーダーの分析も ■サンプル前処理やイオン化調整は不要 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
多彩なバリエーションでお応えする真空チャンバ設計システム
『Free Chamber Order System』は、当社が蓄積した、 数々のノウハウを柔軟に組み合わせる事を前提として企画された 真空チャンバ設計システムです。 数々のテクニカルソースを組み合わせる事で、より安価且つ短納期での ご提供を可能にします。 【装置（一部抜粋）】 ■排気系 ・ロータリポンプ ・ターボ分子ポンプ ■成膜源 ・スパッタリングカソード ・電子ビーム蒸発源 ■その他機構 ・試料ステージ回転上下機構（自動・手動） ・シャッタ機構付覗窓 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問合せください。
時間管理や最大効率が求められる製作や大規模な研究用途向けに設計されました。
Innovative Technology, Inc.社のPureLab HE は高性能の不活性ガス精製装置付グローブボックスで、特に時間管理や最大効率が求められる製作や大規模な研究用途向けに設計されました。 すべてのPureLabブランドは品質保証手段に基づいて製作され、スウェージロック社のバルブ及び取り付け具、エドワード社のポンプ、アレンブラッドリー社のPLC制御を使用しています。 PureLab HE グローブボックスシステムはモジュラー方式のシステムですので、目的に応じて後から拡張することも可能です。 追加のアンティチャンバー、冷蔵庫、真空オーブン、炉、その他様々なアクセサリー類をご用意しております。 PureLab HEガス精製装置は大気に敏感なアプリケーションに必要とされる不活性雰囲気を作り水分・酸素共に1ppm以下に致します。
試料交換室は、w230×d230×H230mm！クリアな視覚を提供
『OSK 55MU50』は、広い作業スペースとクリアな視覚を提供し、 試料交換室がついた卓上型のPVC製グローブボックスです。 試料交換室とサイドドアを装備。 透明なPVCチャンバーなのでどの角度からも視界を確保出来、 内部は滑らかでクリーニングが容易です。 【特長】 ■試料交換室とサイドドアを装備 ■透明なPVCチャンバーなのでどの角度からも視界を確保 ■内部は滑らかでクリーニングが容易 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
試料交換室、作業チャンバー内の真空度を保てる！不活性ガス環境を提供
『OSK 55MU60』は、ステンレス製本体に不活性ガス環境を 提供できるステンレス製グローブボックスです。 試料交換室を装備しており、不活性ガス環境での作業が可能。 試料交換室が径200×L260mmの「SS550」 や、 径240×L260mmの「SS780」をご用意しております。 【特長】 ■試料交換室を装備 ■試料交換室、作業チャンバー内の真空度を保つことが可能 ■不活性ガス環境での作業が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
多種多様な変形加工、穴あけ、切断が可能
技術と品質に自信あり！板硝子・鏡の加工でお悩みの方、ぜひご相談ください 伊川板硝子鏡工業所は、ガラス加工の機械化と量産化を行い、 また機械設備の充実に注力しております。 加工界の若手として時代に適合したガラス加工業のあり方を模索するうちに、 産業用ガラスの加工分野で一角を占めるようになりました。 特にNC機による高付加価値加工や、業界全体として手薄になっているといわれる 変形面取り加工でも次々とNC機を導入、量産姿勢を貫いています。 ※詳しくはお問い合わせください。
頑丈でスケーリング可能な設計！高エネルギーで強く集束されたビーム
『LION』は前処理と表面改質に適したコンポーネントです。 アルゴン処理で炭化水素を除去し、必要なら酸素追加が可能。イオンビームは 強く収束され、高エネルギー化しています。 物理的エッチングを必要とするインライン製膜システムに理想的なデバイスで、 シンプルで頑丈な設計のため、イオンソーズは容易にスケールアップ可能。 メインアプリケーションは、大面積ガラス製膜と金属箔製膜です。 【特長】 ■アルゴン処理で炭化水素を除去し、必要なら酸素追加が可能 ■仰角調節可能な外付けバージョン、フランジ取付けバージョン提供可能 ■頑丈でスケーリング可能な設計 ■高エネルギーで強く集束されたビーム ■様々な種類の基板材料の前処理 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
半導体製造装置業界に認められた加工技術
NC旋盤、マシニングセンタ、複合加工機等多くの加工機を保有、TIG溶接工程、表面処理工程、リークテスト工程も備え一貫した製品製造が可能です。 事業内容: 真空技術をコアとして、真空部品製作、精密機械加工、真空機器販売の3大柱を軸に事業展開しています。 主要加工内容: 精密切削加工/溶接加工 主な製品: 真空配管/真空機器部品/真空ポンプ用部品/医療機器用チャンバー 加工材質: ステンレス、ハステロイ、アルミなど難削材の精密切削加工に強み 得意分野: 真空機器部品・配管 半導体製造装置用ステンレス/アルミ製部品・配管製作
小径ウェハ（４インチ）や化合物半導体のニッチプロセスに対応。結晶プロセスにもウェハプロセス（合金化や電極アニール）にも対応。
化合物半導体のエピタキシャル層や研磨後のＳｉウェハのアニールなど特殊な用途に対応した専用アニール装置。 高真空排気後に大気圧まで水素のみで雰囲気置換を実施、高純度還元雰囲気中で高温（１０００℃）均一加熱
高密度プラズマスパッタで結晶性ＡｌＮ膜を形成、立体形状への全面コーティングに対応。全自動量産型装置ラインナップ。
独自開発の高密度プラズマスパッタ ADMS法（アーク放電型マグネトロンスパッタリング法）により従来に無い緻密なＡｌＮ膜を立体形状基板に成膜。 従来の10倍のイオン量の高密度プラズマスパッタを実現。他には無い高反応性スパッタで結晶性ＡｌＮを５００℃以下の低温で形成 電子デバイスから機械部品まで新たな表面機能を生み出す新薄膜形成装置
グローブ交換時等再立ち上げ時間の短縮が可能！
『GBJV120』は、メインボックス、パスボックス共に真空ガス置換できる タイプのグローブボックスです。 有害物質の除去、大きな物品の出し入れ後、グローブ交換時等再立ち上げ 時間を短縮することが出来ます。 また、不活性ガス循環精製装置と接続することにより、より良い雰囲気下で 作業をすることが出来ます。 【特長】 ■メインボックス・パスボックス共に真空置換できるタイプ ■グローブ交換時等再立ち上げ時間の短縮が可能 ■不活性ガス循環精製装置と接続することでより良い雰囲気下で作業できる ※画像は、真空型グローブボックス『GBJV080』です。 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
酸素と水分をシャットアウト！音声発信・認識機能により、手を触れずに音声操作が可能
グローブボックス 『オーダーメイド製品を実現』 お客様の研究に寄り添える装置を設計・製作しています。 『グローブボックス』（弊社製品名「ピュアボックス」）は、気密性の高いステンレス製の容器にグローブを取付け、空気中で扱えない試料をグローブを使用して取扱い、作業することができる製品です。 グローブボックス・ガス循環精製装置の「製作」による環境提供はもちろん、日々装置の進化を目指し『独自の開発』に取り組んでおります。 例えば、装置自身の振動・騒音を抑えてほしいとのお客様の声より、サイレンサの独自開発を行い製品化し、お客様の装置に取付けて評価を頂いております。 他にも、音声認識機能が付いており、グローブから手を抜かずに音声で操作が可能です。音声を認識し、運転・停止ができ、操作内容・異常内容などを音声にてお知らせします。（※音声操作は、一定の操作に限ります。）
耐プラズマ性に優れたイットリア（Ｙ２Ｏ３）膜をＰＶＤ法で形成。 新開発イオンプレーティング法で厚膜（１０μｍ）を実現
新開発アークフィラメント型イオンプレーティング法により緻密な酸化膜の厚膜（１０μｍ）を低温で形成 半導体製造装置部品に対応した優れた耐プラズマ性をもつイットリア膜の成膜に対応。 イオンプレーティング法によるシンプルなプロセスで緻密な膜質を実現。 イットリア膜だけでなくＳｉＣやＴｉＣ、ＣｒＮなどの各種反応膜を固体金属材料より形成可能。 独自開発イオンプレーティング法により表面処理の新たな用途を開拓
大気圧水素雰囲気中で均一加熱、。薄膜・ウェハ・化合物・セラミック基板、豊富な経験と実績を柔軟なハード対応とサンプルテストで提供
水素の還元力を最大限に活用し従来に無い薄膜・基板表面の高品位化を実現 デリケートな化合物デバイスや誘電体基板の熱処理（べーく・アニール）に最適。 実績と経験に支えられた信頼性の高いハード構成で安全性も確保 電極・配線膜の高品質化に、高融点金属膜の抵抗値・応力制御に研磨後のウェハの終端処理に、特殊用途の熱処理に多くの実績を元に初期段階からテストを含めて対応
