グローブボックスのメーカーや取扱い企業、製品情報、参考価格、ランキングをまとめています。
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グローブボックス - メーカー・企業74社の製品一覧とランキング | イプロスものづくり

更新日: 集計期間:2026年01月14日~2026年02月10日
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グローブボックスのメーカー・企業ランキング

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  1. 神港精機株式会社 東京支店 東京都/産業用機械
  2. 万善工機株式会社 東京都/試験・分析・測定
  3. 株式会社アイビック・リサーチ 茨城県/試験・分析・測定
  4. 4 アールエムテック株式会社 東京都/光学機器
  5. 5 株式会社UNICO   東京技術センター(T.T.C) 東京都/製造・加工受託

グローブボックスの製品ランキング

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  1. 粉末 人工胃液 人口腸液 BioWise 株式会社アイビック・リサーチ
  2. 実験・研究開発用途 受託成膜サービス『ALD(原子層堆積)装置』 ワッティー株式会社
  3. グリッドイオンソース 仕様詳細 アールエムテック株式会社
  4. 4 水素アニール装置(電子デバイス用、サンプルテスト対応中) 神港精機株式会社 東京支店
  5. 5 ALNコーティング装置(高密度プラズマスパッタADMS装置) 神港精機株式会社 東京支店

グローブボックスの製品一覧

1~30 件を表示 / 全 225 件

表示件数

絶対湿度露点温度計/ 品番 MI1T-3321

温湿度計MI1T-3321は、一台で温度、湿度、絶対湿度、露点温度、湿球温度を測定できる高精度多機能型のデジタル温度湿度計です。

最新式の高精度抵抗式湿度センサーにより湿度を素早く表示します。

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  • その他電子計測器
  • グローブボックス

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露点制御式ドライグローブボックス 「ユーフォニーエース」

不活性ガスタイプに替わる超低露点ドライエアー式グローブボックス

露点制御式ドライグローブボックス 「ユーフォニーエース」は、1台の装置で広い露点範囲の試験環境を正確に作り出します。 研究段階の超低露点環境から、実用的な低コスト生産環境まで品質評価ができます。 また±1.5℃以内の露点制御精度を長期間安定して維持できるため、信頼性の高い実験データが得られます。 【特徴】 ○低価格、低ランニングコストで安心 ○低騒音で研究室内でも安心 ○乾き空気を使用するため安全安心 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

  • グローブボックス
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多目的スパッタリング装置

研究開発から量産までサポート!

信頼性の高い標準型のハードウェアと豊富な実績に支えられ、神港精機は1967年に1号機を世に送り出して以来、多くの分野で活躍しています。柔軟で先進的なソフトウェアにより常に最先端を切り開く最新型の装置の装置を提供しています。

  • スパッタリング装置
  • プリント基板
  • その他半導体
  • グローブボックス

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アニール装置『可変雰囲気熱処理装置』

ウェハやガラス等の多種基板の処理可能 幅広い用途対応した可変雰囲気熱処理装置 (O2orH2雰囲気アニールサンプルテスト対応)

当社では、真空・酸素雰囲気(常圧)・還元雰囲気(常圧)の雰囲気での 処理が選択できる急昇降温型の「横型アニール装置」を取り扱っています。 6インチまでの各種基板(ウェハ、セラミック、ガラス、実装基板)の処理に 対応しており、薄膜やウェハのアニール、ナノ金属ペーストの焼成、 有機材のキュアなど多くの用途に実績を持っています。 御評価をご希望の方はサンプルテストをお受けしております。 仕様詳細や対応可能なテスト内容などにつきましてはお問い合わせください。 【特長】 ■各種雰囲気(真空、N2、O2、H2)での均一な加熱処理(~900℃) ■加熱炉体の移動による急速冷却 ■石英チューブによるクリーン雰囲気中処理 ■幅広い用途への対応 ※詳しくは、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • その他理化学機器
  • 加熱装置
  • グローブボックス

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ICPメタルエッチング装置

Al系やCrなどの金属膜の微細パターンのエッチングに対応!デモ機常設!装置見学、サンプルテスト対応中

『ICPメタルエッチング装置』は、先端薄膜プロセスに対応した 金属膜対応の高密度プラズマエッチング装置です。 半導体、MEMSなどの汎用デバイスだけでなく露光用マスクや金属基板の 表面処理などの特殊プロセスにも積極対応いたします。 独自のチャンバ内構造により抵パーティクルのメタルエッチング (nmレベル)を実現しており、高い歩留りと稼働率が特長です。 【特長】 ■nmレベルのメタル膜の精密エッチング ■独自機構による抵パーティクルプロセス ■メタル膜、化合物半導体基板など幅広い用途へのプロセス対応 ■ナノインプリントモールド用「SERIO」の基本構成を生かした  高いハードの信頼性 ■ウェハだけでなく特殊材質、形状基板への積極対応 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • エッチング装置
  • プラズマ表面処理装置
  • グローブボックス

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バッチタイププラズマリフロー装置(フラックスリフロー)

微細ウェハバンプのフラックスレスリフロー装置 サンプルテスト対応 省エネ・短タクトプロセスを実現 リフロー動画掲載

高密度プラズマ(SWP)による強還元性H2ラジカルによりフラックスフリーのバンプリフローを実現。 フラックスの塗布・洗浄工程を削減。リフロー前後のウェット工程を削減。ウェット装置のスペース・処理・ユーティリティーを削減する省エネ・省スペース・クリーンプロセス。 300mmウェハ対応の処理ステージによる最先端量産プロセスをバッチタイプのハードで小径基板のニッチデバイスに対応 短タクトのバッチ処理で多品種少量生産やR&D用途に対応

  • その他半導体製造装置
  • グローブボックス

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バッチ式真空半田付装置(フラックスレスリフロー 真空リフロー)

パワーモジュールからウェハバンプまでフラックスレス・ボイドレスリフローを実現。新型登場でグレードUP! ※サンプルテスト対応中

高信頼性半田付を実現するバッチ式真空半田付装置 真空排気による低酸素雰囲気での高速・均一半田付。真空・常圧・各種雰囲気(還元・不活性)の組合せにより高いレベルのボイドレス半田付を実現。車載用高信頼性パワーモジュールの標準プロセスの基本型。 処理量&性能UPの新型登場。 新型機を工場に設置。装置見学およびサンプルテスト積極対応 前処理のプラズマクリーニングも含めボイドレス・フラックスレス半田付テスト実施 ★ネプコン・ジャパン2020へ出展します! ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さいませ。

  • リフロー装置
  • はんだ付け装置
  • 電気炉
  • グローブボックス

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ポリイミドキュア装置(300mmウェハ対応 クリーンベーク装置)

300mmウェハ対応ポリイミドキュア、ベーキング、低温アニール、多層基板にも対応。先端電子デバイス量産用熱処理装置

真空置換後の低酸素雰囲気(N2)中で高均一性熱風加熱。300mm ウェハをカセット単位で加熱処理。システムLSIポリイミドキュア、フレキシブルプリント基板キュア・アニールに対応。300mmウェハカセット単位のキュアリングで高品質化と量産化を両立

  • アニール炉
  • グローブボックス

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標準バッチタイプスパッタリング装置(SRVシリーズ)

多機能・コンパクト・フレキシブル対応、実績と信頼の標準型ラインナップ

コンパクトな筐体に3元のカソードを組み込んだ標準バッチタイプスパッタリングシリーズ。広い膜厚分布均一範囲と自動制御機構によって各種電子デバイスや関連材料の成膜工程をの基礎開発から量産までカバーします。 多くの納入実績に支えられた成膜プロセスとオプションにより御要望を確実にサポートします。

  • スパッタリング装置
  • プラズマ表面処理装置
  • グローブボックス

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研究開発用スパッタリング装置

コンパクト・ローコスト・充実機能、研究開発用ローコストスパッタリング装置 サンプルテスト&装置見学対応中

少量生産対応可能な上位機種の能力を手動操作型の簡易実験機で実現 8インチ対応の多元高周波スパッタリング装置。高速排気と高いプロセス性能によりMEMS・化合物半導体・電子デバイスの基礎研究に対応 電子部品の量産対応実績を持つバッチタイプスパッタリング装置シリーズ

  • スパッタリング装置
  • グローブボックス

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SDR型巻取式スパッタリング装置(RtoRタイプスパッタ装置)

サンプルテスト対応中 フィルム・金属箔に成膜、フレキシブルデバイスや先端機能材料の開発~量産に対応。デモ機でプロセスサポート。

FPCに代表されるフレキシブル電子デバイスの量産に実績対応。社内デモ機によるプロセスサポートにより各種の個別要求に確実に対応。 一般的な樹脂フィルムだけでなく金属箔を含む幅広い基板に実績 独自開発による高使用率カソードと実績豊富な搬送機構により安定した稼動を実現。 プラズマ前処理電極や磁性材用カソード、基板加熱用メインロールなど豊富なオプション機構を揃えており多目的なフィルム連続処理装置として運用可能 R&D用小型機やシート対応のバッチ型装置など目的・用途に合わせて柔軟にハード&ソフトの実現

  • その他加工機械
  • スパッタリング装置
  • プラズマ表面処理装置
  • グローブボックス

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量産対応バッチタイプスパッタリング装置 (STH10311型)

φ410基板×4枚の自公転基板台を4枚備えたバッチ型のスパッタリング装置で、同基板台内±5%以内の優れた膜厚均一性を実現

複数の自公転基板台の採用により、量産用としての処理量と優れた膜厚均一異性を両立したバッチタイプスパッタリング装置です。 サイドスパッタ方式により1mを超えるチャンバ系でありながら、基板やターゲットの着脱作業、真空層内のメンテナンスの簡易性を実現しました。 量産用途に最適なデータロギングシステムや装置制御や管理を容易にする制御インターフェースソフトなど量産用装置に必須な細かな配慮が組み込まれています。 300ウェハに代表される大型基板の施策・少量生産に抵抗器やセンサーなどの小型電子部品の大量生産に、品質とスループットを両立いたします。

  • スパッタリング装置
  • グローブボックス

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簡易実験用蒸着装置(EM-645型)

シンプル コンパクト 高機能 実験、基礎研究に最適 ユーザーニーズに応じた柔軟にカスタマイズ 標準型蒸着装置

基礎研究に求められる性能・コスト・技術サポートを全てカバー 個別要求に応じてカスタマイズに対応。

  • 蒸着装置
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標準バッチバッチタイプ蒸着装置(AMFシリーズ)

電子デバイス用途のスタンダードシリーズ。R&D用の多目的小型研究用から実績豊富な裏面電極用量産用まで、信頼と充実のラインナップ

半導体・MEMS・各種電子部品(センサー、水晶振動子等)の研究開発から本格量産まで幅広く対応する標準型蒸着装置のラインナップ。 全機種クリーンルーム、クリーンバキューム対応で各種選択機構を装備。 実績豊富な標準仕様から個別要求に細やかに対応。 蒸発源・加熱温度・基板機構(プラネタードーム・公転ドーム)操作・ロギングソフト 全てカスタマイズOK 社内デモ機でプロセステストも対応 幅広く柔軟なハード&サポート 

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AlNテンプレート作成装置(配向性AlN膜用スパッタリング装置)

UV-LED用AlNテンプレートをスパッタで。高い結晶性とC軸配向性を持つAlN膜をスパッタで作成可能。最新型成膜装置

UV-LEDの製造の低コスト化に必要なサファイア基板へのAlNテンプレートをスパッタで作成。100arc/sec以下のC軸配向性を持つAlN膜を低温(700℃以下)でスパッタリングで形成。 シンプルかつ安定したプロセスとハイスループット性でUV-LEDの低コスト化に貢献。 サンプルテストに対応中、高周波デバイスへの展開も開発中。

  • スパッタリング装置
  • プラズマ表面処理装置
  • グローブボックス

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マルチチャンバスパッタリング装置

20年以上の歴史を誇る実績のラインナップ。R&Dから量産までハイエンド・ニッチプロセスへ個別対応のプロセス&ハードウェア

標準仕様では対応の困難な各種用途・基板に積極対応。 R&D・ディスクリート・化合物・MEMS・パッケージ・実装工程・マスク・小型FPD 多くの基板に専用機構を用意。 基板のトレイ搬送も標準対応、大気側の基板ハンドリングで異種基板の同一装置での成膜・処理を実現。 各用途専用カソード(ワイドエロージョン・強磁性体・酸化物・リアクティブ用)に加え特殊基板機構(高温加熱・磁場印加・冷却等)で幅広い用途に対応。社内デモ機によるプロセステストを基に専用装置を個別設計。

  • スパッタリング装置
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  • グローブボックス

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化合物半導体用電極膜アニール装置(可変雰囲気熱処理装置)

化合物半導体の電極膜の合金化・低抵抗化に多用されている石英管タイプのアニール装置。高温処理型で急冷機構装備。透明電極膜にも対応

Siプロセスに実績豊富なアニール装置を化合物半導体プロセス用にカスタマイズ。 GaAs用のホットプレートタイプに比べ高温(900~1000℃)まで対応。 窒化膜半導体の電極の合金化に実績。 急速昇降温型の加熱炉を装備し、均一な加熱と最適な温度プロファイルで電極膜のアニールを制御。 生産量・プロセスにあわせて最適な装置構成を提案可能な実績豊富なウェハプロセス用熱処理装置。

  • アニール炉
  • 加熱装置
  • グローブボックス

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SiCコーティング装置(AF-IP装置)

緻密で耐摩耗性と耐酸化性に優れたSiC(シリコンカーバイド)膜をPVDで形成。新型イオンプレーティング法で厚膜(7μm)形成

新開発アークフィラメント型イオンプレーティング法により従来に無かったPVD法による」SiC成膜を実現。 400℃以下の低温で緻密で耐摩耗性・耐酸化性に優れたSiC膜を形成可能とした新成膜技術を採用。 個体シリコンを出発材料としたイオンプレーティング法のためシンプルで環境負荷の少ないクリーンなプロセスを実現。 膜厚や膜質の制御性も高くCVDに比べ、排ガス処理・メンテナンス性・設置面積・ランニングコストの全てに優れた新成膜装置

  • その他工作機械
  • その他加工機械
  • プラズマ表面処理装置
  • グローブボックス

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金属ナノペースト焼結接合対応真空半田付装置

神港精機の真空半田付装置に新型登場 優れた均熱性・昇降温特性と雰囲気制御性で金属焼結接合を高品質化 次世代型高信頼性燒結接合装置

パワーデバイスモジュールの生産を支える神港精機の真空半田付装置がアップグレード。昇降温特性と均熱性能を向上させ処理寸法も拡大。従来通りの雰囲気制御性能と処理温度の高温化によって金属ペーストの焼結接合に対応。 低酸素濃度の実現と100%水素雰囲気による還元力によっての濡ペーストの酸化防止し濡れ性を大きく向上。 オプションの加熱加圧機構の追加でボイドレス接合も実現。 新世代接合材料もバーする神港精機の新型真空半田付装置

  • アニール炉
  • リフロー装置
  • 工業炉
  • グローブボックス

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プラズマ溶岩コーティング装置(STV6301スパッタリング装置)

最新プラズマ技術で桜島溶岩をコーティング。天然由来の機能性表面処理。あらゆる機材に諸植生・親水性など新たな機能を実現。

マグネトロンスパッタリングにて桜島溶岩をコーティング。天然由来の溶岩を先端表面処理に応用。溶岩の特性をいかした熱的・化学的に安定な薄膜を形成。 各種素材(金属・ガラス・繊維)上に装飾膜(透明・干渉色)親水膜を実現。天然素材のため人体にアレルギーがなく、素材の変質・変色を防止。 食器の表面処理に実用化されており、市場の拡大が期待されています。 また赤外線の及光率にすぐれており繊維のコーティングへの開発も期待されてています。 天然素材を応用した省エネ性能と耐環境性に優れた溶岩被膜を3次元立体形状に均一にコーティング。新時代の表面処理装置。

  • スパッタリング装置
  • ガラス
  • 繊維
  • グローブボックス

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【コンベア型】ジェット式遠赤外線コンベア炉

遠赤外線と熱風のジェット噴射を併用し、ワークを短時間で加熱処理可能です

用途例は印刷の硬化や水分乾燥など、特に板状及びシート状のワークに最適です。

  • 乾燥機器
  • 電気炉
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【コンベア型】ベルト式遠赤・熱風併用コンベア炉

雰囲気温度を一定に管理しながら、遠赤効果も利用できる高効率の装置です。

放射率90%以上の遠赤外線ヒーターと熱風用ファンヒーターを組み合わせました。

  • 電気炉
  • 乾燥機器
  • グローブボックス

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【コンベア型 】ウィケット式熱風循環コンベア炉

ウィケット導入でライン完全の自動化を目指します

プリント基板やシート状印刷物等を、専用治具に立てて搬送し乾燥することができます 印刷機からストッカーまで、ラインの完全自動化が可能となります

  • 乾燥機器
  • 電気炉
  • グローブボックス

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真空グローブボックスVG-800型

真空グローブボックスVG-800型

透明アクリル製で視認性抜群なグローブボックスです。 内部の減圧によって、効率よくガス置換できます。 パスボックス付で作業中の器具試料の出し入れに便利です。

  • その他理化学機器
  • グローブボックス

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嫌気性グローブボックス(嫌気チャンバー)

嫌気性グローブボックス(嫌気チャンバー)

透明アクリル製で視認性抜群な嫌気性グローブボックスです。 お客様の要望に応じて寸法変更や他装置の設置等オーダーメイド対応が可能です。

  • グローブボックス
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ガス置換用グローブボックス

ガス置換用グローブボックス

視認性抜群のガス置換式グローブボックスです。 左側面が扉になっており、庫内に器材を入れやすくしています。 ※付属品::ラテックスロング手袋1双、ニードルバルブ4個、真空ゲージ1個(パスボックス) ※本体外寸法(mm):1130W×586D×650H ※本体有効内寸法(mm):689W×下辺530D/上辺240D×480H ※パスボックス有効内寸法(mm):230W×200D×200H ※重量:約40kg

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低露点グローブボックス

低露点グローブボックス

透明アクリル製で視認性抜群な低露点グローブボックスです。 庫内を真空引きし不活性ガスで置換することにより低露点環境を作り出すことができます。 ※外寸法(mm):983W×675D×655H ※本体有効内寸法(mm):600W×240D(上辺)/400D(下辺)×450H ※パスボックス内寸法(mm):250W×200D×200H ※グローブボックス本体重量:約80kg ※真空バルブのノズル径:φ9mm

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卓上型真空グローブボックス

水分・酸素を嫌い、空気中では扱えない材料を真空中で取扱いたい方必見

グローブックス本体部分を真空引き後、ガス置換する事が出来る為短時間で高純度なガス雰囲気を創り出す事が出来ます。 当然、パスボックスも真空ガス置換することが可能です。 内部にコンセントが標準で装備されておりますので、天秤などの機器を簡単に導入できます。 サイズも卓上に置いて使えるコンパクトな仕上がりになっておりますので、大学の研究室などに最適です。 オプションのガス循環精製装置と接続する事により、酸素、水分濃度ともに、1ppm以下の環境でお使い頂く事が出来ます。

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真空グローブボックス

余裕のある空間内で新規材料開拓を!

グローブックス本体部分を真空引き後、ガス置換する事が出来る為短時間で高純度なガス雰囲気を創り出す事が出来ます。 パスボックスも真空ガス置換することが可能な為、内部雰囲気を保ったまま物の出し入れが可能です。 また、スライドテーブルが装備されていますので物の出し入れが簡単に行えます。 内部にコンセントが標準で装備されておりますので、天秤などの機器を簡単に導入できます。 無駄なく広いスペースがありますので、内部での機器導入が簡単です。 オプションのガス循環精製装置と接続する事により、酸素、水分濃度ともに、1ppm以下の環境でお使い頂く事が出来ます。

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パージ式グローブボックス

正面部分が全面窓ガラスで広々と使えます

パスボックスを真空ガス置換することが可能な為、内部雰囲気を保ったまま物の出し入れが可能です。 また、スライドテーブルが装備されていますので物の出し入れが簡単に行えます。 内部にコンセントが標準で装備されておりますので、天秤などの機器を簡単に導入できます。 無駄なく広いスペースがありますので、内部への機器導入等が簡単です。 ガス循環精製装置と接続する事により、酸素、水分濃度ともに、1ppm以下の環境でお使い頂く事が出来ます。

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