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半導体・電子デバイス製造向け！IR(赤外線波長帯)で優れた透過率を示す基板材料
当社では「ゲルマニウム基板」の製造販売を行っております。 IR(赤外線波長帯)で優れた透過率を示す基板材料。 半導体・電子デバイス製造向けに、結晶成長時ドープ加工を施した N型・P型ゲルマニウム基板(平面研磨ウエハー・直径1,2,3インチ/ 面方位100,110,又は111)をご用意。 ご用命の際は、当社までお気軽にお問い合わせください。 【取扱製品】 ■N型・P型ゲルマニウム基板 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
半導体材料「Siウェハの熱物性」を熱拡散率を測定！
半導体の材料にはかかせない「Siウェハ」の熱拡散率が測定できます。
電子材料＆化学薬品の世界市場：固体、液体、気体、シリコンウエハー、PCBラミネート、特殊ガス、ウェットケミカル、溶剤、フ ...
本調査レポート（Global Electronic Materials And Chemicals Market）は、電子材料＆化学薬品のグローバル市場の現状と今後5年間の展望について調査・分析しました。世界の電子材料＆化学薬品市場概要、主要企業の動向（売上、販売価格、市場シェア）、セグメント別市場規模、主要地域別市場規模、流通チャネル分析などの情報を収録しています。 電子材料＆化学薬品市場の種類別（By Type）のセグメントは、固体、液体、気体を対象にしており、用途別（By Application）のセグメントは、シリコンウエハー、PCBラミネート、特殊ガス、ウェットケミカル、溶剤、フォトレジスト、その他を対象にしています。地域別セグメントは、北米、アメリカ、ヨーロッパ、アジア太平洋、日本、中国、インド、韓国、東南アジア、南米、中東、アフリカなどに区分して、電子材料＆化学薬品の市場規模を算出しました。 主要企業の電子材料＆化学薬品市場シェア、製品・事業概要、販売実績なども掲載しています。
シリコンウエーハ、ガラスなどを主に、お客様のニーズに応じた加工サービスを提供。基板の手配、マスク設計からの一貫生産の対応が可能。
ICチップの製造に使われる半導体でできた薄い板のこと。 シリコン製のものが多く、これを特に「シリコンウエハ」と呼ぶ。 ウエハは、原料の物質を「インゴット」と呼ばれる直径120mmから200mm程度の円柱状 に結晶成長させ、0.5mmから1.5mm程度に薄くスライスして作製した円盤で、直径8インチ(200mm)、12インチ(300mm)のものがよく使われる。 ICチップはウエハ上に回路パターンを焼き付けて製造される。
パーティクル管理品ウエハー、ダミーミラーウェハーなどのシリコンウェハーをご用意！
当社では、エスエヌケー社の製品を取り扱っております。 SiC基盤(6インチなど)・GaAs・GaN・Ga2o3・Ga2o3Epi・InPウェハー など、サイズ：2～4インチその他のインチもラインアップ。 また、熱酸化膜・SiN・各種金属膜のほか、ポーラスシリコン加工にも 対応しております。 【ラインアップ】 ■シリコンウェハー ■シリコンウェハー以外の各種基盤 ■各種成膜加工 ■各種ウェハー加工 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
バンドギャップの広さとスイッチングの速さ、オン抵抗が低いことも有利なポイント！
当社では「GaN基盤」の製造販売を行っております。 GaN(窒化ガリウム)という半導体を使用した基盤。青色発光ダイオードの 材料として世に広まりましたが、絶縁破壊電解強度や熱伝導率の高さが 注目され、近年では先進パワー半導体の材料として応用されています。 ご用命の際は、当社までお気軽にお問い合わせください。 【基本仕様(一部)】 ■直径：Φ2"、Φ3"、Φ4"、Φ6" ■GaN膜厚：3μm、3.5μm、4μm、4.5μm、6μm、～100μm特別指定可能 ■結晶方位：C-axis(0001) ■導電タイプ：Un Dope、N-type、P-type ■XRD：(002)≦300arsec、(102)≦400arsec ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
熱酸化膜やパターン加工膜、多層膜加工膜など！膜厚につきましては、都度ご相談に応じます
当社で行う、「薄膜成膜加工」をご紹介いたします。 ダスト保証品も可能な「熱酸化膜」をはじめ、「Poly膜(ノンドープ、 ドープド)」や「チッカ膜(LP・プラズマ)」、「TEOS膜」など 様々な膜に加工。膜厚につきましては、都度ご相談に応じます。 【膜種】 熱酸化膜（ダスト保証品も可能です）／Poly膜（ノンドープ、ドープド）チッカ膜（LP・プラズマ）※12″も対応可能です。 TEOS膜／BPSG膜／TI、TIN膜／CU膜／W膜／パターン加工膜／多層膜加工膜／各種IC種類 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
単結晶金属薄膜により特性が向上します
Gaianixx独自の多能性中間膜により、シリコン基板上に高品質な白金薄膜をエピタキシャル成長させ、(100) 単一配向の単結晶薄膜を実現しました。単結晶体は多結晶体と比較して、粒界がないことで電気的な欠陥が少なくなるため、電気抵抗が低く電気伝導性が高くなります。そのため半導体や電子デバイスの性能向上に寄与することが期待されます。白金薄膜は各種デバイスの下部電極として用いられるほか、温度センサなどにも応用されています。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
