更新日： 集計期間:2025年11月26日～2025年12月23日
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純粋で単一成分である石英素材を使った最高クラスのガラス容器！
『石英バイアル/石英試験管』は、石英素材のバイアルの量産化・商品化に成功し、 石英容器としては非常に安価でご提供することが可能なネクサスの製品です。 シリカ成分(SiO2)だけで出来ている容器な為、 ガラス容器に特殊処理(シリコンコート等)をする必要が全くなく、 容器内面のたんぱく付着が極端に少なくなっています。 【特長】 ■低価格の実現 ■無アルカリ・無アルミニウム・無ホウ素 ■超高温域や超低温域での急な温度変化に対応 ■急速な凍結保存が可能 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お問い合わせください。
パーティクル管理品ウエハー、ダミーミラーウェハーなどのシリコンウェハーをご用意！
当社では、エスエヌケー社の製品を取り扱っております。 SiC基盤(6インチなど)・GaAs・GaN・Ga2o3・Ga2o3Epi・InPウェハー など、サイズ：2～4インチその他のインチもラインアップ。 また、熱酸化膜・SiN・各種金属膜のほか、ポーラスシリコン加工にも 対応しております。 【ラインアップ】 ■シリコンウェハー ■シリコンウェハー以外の各種基盤 ■各種成膜加工 ■各種ウェハー加工 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
お客様のご要望に合ったシリコンウェハーを短納期・低価格で提供いたします！最短即日発送。
当社では、装置の条件出し、ダイサーやBGのプリカット、搬送テストなど の用途にご使用いただける『シリコンウェハー』を取り扱っております。 モニターウェハーはもちろんのこと、各種サイズ、各種厚み、 パーティクルウェハーにも対応可能です。 小口径２インチ～６インチモニターウエハー、８インチ～１２インチモニターウエハーも格安で販売致します。 P型/N型・オリフラ/Vノッチ・結晶方位などお気軽にご相談ください。 【用途】 ■装置の条件出し ■ダイサーやBGのプリカット ■搬送テスト など ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
バンドギャップの広さとスイッチングの速さ、オン抵抗が低いことも有利なポイント！
当社では「GaN基盤」の製造販売を行っております。 GaN(窒化ガリウム)という半導体を使用した基盤。青色発光ダイオードの 材料として世に広まりましたが、絶縁破壊電解強度や熱伝導率の高さが 注目され、近年では先進パワー半導体の材料として応用されています。 ご用命の際は、当社までお気軽にお問い合わせください。 【基本仕様(一部)】 ■直径：Φ2"、Φ3"、Φ4"、Φ6" ■GaN膜厚：3μm、3.5μm、4μm、4.5μm、6μm、～100μm特別指定可能 ■結晶方位：C-axis(0001) ■導電タイプ：Un Dope、N-type、P-type ■XRD：(002)≦300arsec、(102)≦400arsec ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
熱酸化膜やパターン加工膜、多層膜加工膜など！膜厚につきましては、都度ご相談に応じます
当社で行う、「薄膜成膜加工」をご紹介いたします。 ダスト保証品も可能な「熱酸化膜」をはじめ、「Poly膜(ノンドープ、 ドープド)」や「チッカ膜(LP・プラズマ)」、「TEOS膜」など 様々な膜に加工。膜厚につきましては、都度ご相談に応じます。 【膜種】 熱酸化膜（ダスト保証品も可能です）／Poly膜（ノンドープ、ドープド）チッカ膜（LP・プラズマ）※12″も対応可能です。 TEOS膜／BPSG膜／TI、TIN膜／CU膜／W膜／パターン加工膜／多層膜加工膜／各種IC種類 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
ビーカー・フラスコ・試験管・真空ラインなど豊富にご提供します
当社では、理化学実験硝子器具をご提供しております。 材質は、硬質一級ガラスを使用しており、徹底した品質管理のもと熟練の 職人が自社工場において成形・加工を一貫して行っております。 共通摺合せのサイズ変更から、全く新しい形のガラス器具の製作までの オーダーメイド(特注品)も承っております。 ご要望の際はお気軽にお問合せ下さい。 【取扱品目】 ■理化学分析ガラス ■透明石英ガラス ■その他 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
高い熱伝導率で素早く、ムラなく加熱できる！多孔質性がエネルギーを最大限に生かします
『カーボン』は、遠赤外線放射性を持ち、加熱するほど波動が増加します。 遠赤外線波動は、食材に含まれる水分子と反応し凝縮された旨みや栄養素を 閉じ込めるため、冷めても美味しさが損なわれにくいという効果があります。 優れた特性により調理器だけでなく半導体、電子力、機械、電機、美容など 様々な産業で使用されています。 【カーボンの特長】 ■熱伝導性、蓄熱性に優れており素早く、均一に加熱できる ■遠赤外線効果により食材の表面を一気に焼き上げ、旨みを外部に逃がさない ■多孔質性がエネルギーを最大限に生かす ■切削加工のため意匠性に優れている ■電機低効率が優れており、IHでも使用できる ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
多様化するニーズにお応えする高品質シリコンウェハー製品
当社は、先進の技術を追求し半導体製造開発に必要不可欠な ベアウェハー、高品質薄膜ウェハー、ダミーウェハー、各種成膜ウェハー等を ご提供し、多様化するマーケットのニーズにお応えいたします。 また、ウェハー加工サービスや分析サービスも承っております。 ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。 【各種ウェハー製品】 ■ベアウェハー ■加工成膜ウェハー ■テスト用TEG ■パターン付き300mmウェハー ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
経験のある高い技術を持ったチームがご提供！標準的でない仕様に関してもご検討可能です
アイスモスは20年以上の経験をもとに、ワールドクラスのDSP （Double Sided Polished）両面ポリッシュのソリューションをお届けします。 デザインや製造において⾧年の経験のある高い技術を持ったチームが お客様のご要望に合ったDSPソリューションをご提供します。 【特長】 ■アイスモスのDSPウエハーは両面にパターン転写ができる優れた基板 ■アイスモスは製品やプロセスにおける専門知識や経験で厚みや面粗度の コントロールも可能で、理想的な張り合わせプロセスへと導く ■標準的でない仕様に関してもご検討可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
高い品質管理技術力！研究・製造技術に基づいたサービスソリューションを提供
大阪有機化学工業では、全従業員が参加する小集団での5S活動および 業務改善活動として定着させております。 「いつもと同じ」の継続と顧客要求の個別化、高度化、複雑化に真摯に対応。 当社の工場は"日本一きれいな工場"を目指し、安全性、品質の向上 および環境保全を優先課題として日々取り組んでいます。 【当社の強み】 ■OYPM活動による人づくり（問題解決力の向上） ■高い品質管理技術力 ■R&Dから工業化までの一貫対応力 ・提案力・顧客課題の解決力の高さ ・研究・製造技術に基づいたサービスソリューションの提供 ・顧客/取引先業務の機能代行 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
シリコンウェハーのサイズダウンのことなら当社におまかせください！
当社は、環境に配慮し「限られた材料を無駄なく利用したい」という 思いからシリコンウェハーのサイズダウン加工に力を入れてきました。 大口径ウェハーを再研磨して薄くなるまで使い、その後小さく サイズダウンして使うことで極力破棄を無くして再利用していきます。 ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。 【シリコンウェハーサイズダウン加工の流れ】 1.サイズダウン 2.熱処理 3.面取り（ベベリング） 4.ラップ 5.洗浄・検査 6.出荷 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お問い合わせください。
徹底した品質管理で、より付加価値の高い製品を提供いたします
当社では、ダミー・モニター用シリコンウエーハを取り扱っています。 研磨された製品は、さまざまなレベルで実施されるチェツク工程をへて、 高精度を保証されます。先進の技術を駆使した測定機器やクリーンルームなど、 環境管理にも万全の設備を完備することが、品質アップにつながるのです。 信頼性の高い品質保証体制の提供により、はじめて高平坦度、清浄度を 極限まで向上させ、安定供給を実現することができます。 ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。 【ダミー、モニターの区別】 ■ダミーウエーハ ・口径、厚さ以外のスペックは不問、又、ダスト不問か、 ダストフリーはご指定ください。(ウエーハ特性は納品時に表示します) ■モニターウエーハ ・別紙仕様明細書にてご指定ください。 ただし、比抵抗と厚さの範囲の拡大を極力お願いいたします。 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
「品質一番」をモットーに製造から検品まで徹底して管理しています
当社では、理化学ガラスの製造を取り扱っております。 半導体関連部品をはじめ、様々なガラス製品を取り扱っており、常に安定した 優れた技術で、理化学ガラスからオーダーメイドの製品まで幅広く対応。 また、アート的な加工品も、贈答品として取り扱いをしており、 ガラスに関することなら何でも承ります。 ご要望等がございましたら、お気軽にご相談ください。 【選ばれる理由】 ■安定した優れた技術力 ■早い納期とより良い品質 ■お客様のご要望にしっかりと応える ■若手技術者の育成で未来に貢献 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
単結晶金属薄膜により特性が向上します
Gaianixx独自の多能性中間膜により、シリコン基板上に高品質な白金薄膜をエピタキシャル成長させ、(100) 単一配向の単結晶薄膜を実現しました。単結晶体は多結晶体と比較して、粒界がないことで電気的な欠陥が少なくなるため、電気抵抗が低く電気伝導性が高くなります。そのため半導体や電子デバイスの性能向上に寄与することが期待されます。白金薄膜は各種デバイスの下部電極として用いられるほか、温度センサなどにも応用されています。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
小ロットからの対応可能です。特殊なエピ、多層エピなどにも出来るだけ対応いたします。
「エピウエハ」 1. ディスクリートデバイス向けや IC powerデバイス向けに使用されております。 ＊直径: 100-200 mm ＊Epi層ドーパント: Boron 、Phosphorous ＊Epi層抵抗値: 0.01-500 Ω/cm ＊Epi厚: 1-150 um ＊Stacking fault: 10 /cm2 以下 ＊Thickness Uniformity: 1% ＊Resistivity Uniformity: 2.5%(抵抗0.1-20 Ohm.cm) / 3%(抵抗>20 Ohm.cm) ＊Min25枚より 「エピ受託加工」 1000ohm cmを超えるようなEpi抵抗の高いウエハや、Epi層が厚いウエハなども対応させていただきます。 仕様により多層エピ成膜なども対応可能です。 特 徴 ・実験用に小ロット（数枚～25枚）から可能 ・サブウエハご指定も可能（お客様よりサブウエハを支給していただく事も可能です） ・エピ厚さ公差：6-10%以内 (エピ厚さにより変わります） ・抵抗均一性公差：5-15%以内 (抵抗により変わります）
