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油冷鋼・空冷鋼・ハイス鋼の熱処理が１台で可能な全自動型熱処理装置です
また、従来それぞれに専用機を必要とした油冷鋼と空冷鋼に加え、高温加熱を要するハイス鋼の熱処理が この一台で処理可能な複合型熱処理装置です。 全密閉構造の中に加熱室・ガス冷却室・油槽が一体化されており、窒素雰囲気中で熱処理することにより ワークの酸化を軽減できます。 【特徴】 ▶ 油冷鋼、空冷鋼、ハイス鋼の焼入れが一台で処理可能 ▶ 省スペースで設置 ▶ プログラムで自動運転のため、誰でも簡単操作 ▶ ヒーターは6面設置のため、良好な温度分布 ▶ マッフルレス方式やユニットヒーターにより、メンテナンスが簡易 ◎お気軽にお問い合わせ下さい。
新素材の生産、開発に最適です！
本装置は真空および不活性ガス雰囲気に於いて、種々形状の対象試料をヒーターによって均一に加熱し各種熱処理を行うと共に油圧プレスによる ２ＴＯＮまでの加圧処理を可能にした多目的実験炉です。 【特徴】 ■多機能整備の熱処理が可能 ■プレスユニットによる圧力能力の自由設定が可能 ■雰囲気の万能性で高真空および不活性ガスに使用可能 ■金属ヒーター、反射板を使用した構造で昇温が早い ■有効容積が大きい ■節電タイプ ■安全回路設計 など 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。
0.3Kg3/cm2の圧力雰囲気処理も可能！製品をつくる時の装置としても使用できます
『プレス付真空熱処理装置』は、真空及び不活性ガス雰囲気において、 さまざまな形状の試料をヒーターによって均一に加熱する真空装置です。 真空の状態でプレスを行うことで、通常の状態でプレス加工するのとは 違った処理をすることが可能。 また、サーボプレスにより50KNまで加圧ができ、拡散接合にも好適な 「真空ホットプレス装置」もご用意しております。 【特長】 ■さまざまな熱処理が可能 ■プレスユニットの圧縮能力については任意の設定することができ、 自由な実験を行うことができる ■0.3Kg3/cm2の圧力雰囲気処理も可能 ■高真空で使用できるだけではなく、複数の不活性ガスでも使用可能 ■金属ヒーターと反射板を使用した構造を採用 ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
電子、複合、構造、先進材料の熱処理装置。1800℃まで30秒で急速昇温。真空・ガスフロー雰囲気中での超高速昇温。消費電力2kW
・独自のガスフロー機構の採用で試験材料に直接ガスを放射、昇温。 ・卓上型で操作性も向上させた低価格製品。 ・より多くの研究者にお使いいただける製品です。
トレイ搬送にも対応可能！優れた基板温度分布およびガスフロー方式を実現
『RTA装置』は、減圧プロセスから加圧プロセス（0.9MPaG）まで対応できる 製品です。 基板表面の高速熱酸化、結晶化、アニーリング処理等が可能。 優れた基板温度分布およびガスフロー方式を実現します。 半導体をはじめ、MEMSや電子部品にご利用いただけます。 【特長】 ■減圧プロセスから加圧プロセス（0.9MPaG）まで対応可能 ■基板表面の高速熱酸化、結晶化、アニーリング処理等が可能 ■優れた基板温度分布およびガスフロー方式を実現 ■トレイ搬送にも対応可能 ■マルチチャンバ仕様や各種オーダーメイドも製作可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
アニール処理後急速冷却機構！Annealsys社の高速熱処理装置をご紹介
『AS-One 100/150』は、大気・真空下プロセス対応のRTP装置です。 ターボポンプを搭載可能で、マスフローコントローラーは最大5と なっております。 ご用命の際は、当社へお気軽にご相談ください。 【特長】 ■アニール処理後急速冷却機構 ■大気・真空下プロセス対応 ■ターボポンプ搭載可能 ■マスフローコントローラー：最大5 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
多様な巻姿に対応可能！高精度な制御技術と、先端の金蒸着透明電気炉
『SD-RW2F-N』は、安定した“張力制御と炉内温度”により 好適な熱処理加工を実現する装置です。 シンプルでスマートなシングルダンサ型張力制御の採用により、 炉内搬送に必要な低張力を付与することが可能。 精密なトラバース制御技術でフラット巻はもちろんのこと、 台形巻きや大ピッチ巻など多様な巻姿に対応できます。 【特長】 ■低張力制御：炉内搬送に必要な低張力を付与可能 ■温度制御：優れた均熱性を実現 ■速度制御：巻き始めから巻き終わりまで好適な熱処理速度を維持できる ■巻取制御：多様な巻姿に対応可能 ■先端の金蒸着透明電気炉：小さい電力で早い昇温が得られる ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
誘導加熱技術を用い、お客様の仕様に合わせた設備をテーラーメードで仕上げます
アジャックストッコ・マグネサーミックジャパンでは『高周波熱処理装置』を 取り扱っております。 誘導加熱技術を用い、お客様の仕様に合わせた設備をテーラーメードで 仕上げることが可能。常に時代の先を見据え、新テクノジーでお客様の 要求に応え続けます。 是非ご用命ください。 【取扱製品(一部)】 ■等速ジョイント(CVJ) ■ドライブライン(インナー/アウターレース) ■クランクシャフト ■ステアリングラック ■3Dプリンター製焼入コイル など ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
半導体や太陽電池の生産・研究開発設備！独自の高温処理技術による高温熱処理炉
大村技研では、独自の高温処理技術による高温熱処理炉を生産設備および 研究開発向けに提供します。 主要製作装置としては、拡散炉、エピタキシャル装置、CVD装置、 エッチング装置、半導体製造設置用コントローラーなどがあります。 また、小口径基板に適した縦型電気炉や、太陽電池製造用横型拡散炉、 横型CVD装置・LC6400シリーズなどもラインアップされています。 【特長】 ■生産設備・研究開発向けの高温処理炉 ■半導体製造や太陽電池製造などに好適 ■多様なラインアップ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
巻出、コーティング、熱処理、巻取のライン構成が可能な装置！
『熱処理装置、ピンテンター、ヒートセッター、ネット乾燥機』は、 不織布の巻出、コーティング、熱処理、巻取のライン構成が可能な装置です。 巻出～巻取までトータルコディネート！ 安定した温度制御・風速制御ができます。 【特長】 ■安定した温度制御・風速制御 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
大風量ファン、大容量熱交換器の採用により、均一且つ急速冷却が可能！
当社では、ユーザーニーズに見合った真空熱処理装置の技術開発に取り組み、 加工部門に導入することでより品質の高いサービスを提供しています。 当社の真空熱処理は、冷却室内上下に冷却ファンを設置し、交互運転による 歪の少ない冷却が可能。 また、高温加熱時に均一な昇温を確保し、金属溶着を防止する為の ガス保持加熱が可能です。 【特長】 ■優れた冷却性能 ■上下冷却ファンによる歪の減少 ■ガス保持加熱（特許技術） ■良好な温度分布精度 ■優れた断熱効果 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
製品の表面処理に最適！横型水蒸気処理炉の排ガス処理用装置です。
『水蒸気処理炉（ST炉）』は、鉄系焼結部品の表面黒化・封口処理を行う装置です。 40基近い納入実績を持ち、開発以来改良を重ね、トラブルがなく、大変ご好評いただいている設備です。 粉末冶金分野・焼結合金分野等での製品の表面処理に最適です。 【特長】 ○信頼の納入実績（約40基） ○安定運用 ○連続処理 ○安全設計 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
焼入性や経年変化などといった、金属の用語をわかりやすくまとめた用語集！
『金属用語集』は、ニーズに合った品質と、安心して使っていただける信頼性の 高い熱処理技術を提供する、株式会社ダイネツのカタログです。 焼入性や経年変化、ショットブラストなどといった、金属の用語を わかりやすくまとめて解説しています。 【掲載用語】 ■質量効果 ■残留応力 ■加工硬化 ■有効硬化層深さ ■脆性（ぜいせい） ほか ※詳しくはPDFをダウンロードいただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
ノンタッチであらゆるフィルム・箔などの乾燥熱処理を行う装置
『フローティングドライヤー』は、高分子化学工業用機械の製造販売を行う、株式会社市金工業社の製品です。 当製品は、高性能な温度制御及び均一な風速制御により、ノンタッチであらゆるフィルム・箔などの乾燥熱処理を行えます。 電池用電極、各種光学フィルム、液晶フィルムディスプレイなどの用途に最適です。 【乾燥・熱処理装置ラインアップ】 ■フローティングドライヤー ■コーター＆ドライヤー ■高温熱処理装置 ■樹脂加工装置 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
あらゆる形状の基材に適したドライヤー！
『バッチ式乾燥・熱処理炉』は、高分子化学工業用機械の製造販売を行う、株式会社市金工業社の製品です。 当製品は、あらゆる形状の基材に適した乾燥・熱処理装置です。 原反、巻反のアニール処理をバッチ処理で行います。 各種雰囲気下での長時間処理に対応します。 【乾燥・熱処理装置ラインアップ】 ■フローティングドライヤー ■コーター＆ドライヤー ■コード処理装置 ■バッチ式乾燥・熱処理炉 ■高温熱処理装置 ■樹脂加工装置 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
所定の硬さまで軟化させ、同時にじん性を与える焼もどしについてご紹介！
当コラムでは、「焼もどし」についてご紹介しています。 焼入れをしたままの組織はマルテンサイトであり、極めて硬いが 半面非常に脆いのでこのままでは使いものになりません。 したがって、焼もどしによって所定の硬さまで軟化させ、同時に じん性を与えることが必要。 マルテンサイトはCが過飽和に固溶された不安定な状態にあるため、 低温で加熱すると炭化物となって析出しようとする傾向があります。 ※コラムの詳細内容は、関連リンクより閲覧いただけます。 詳しくは、お気軽にお問い合わせ下さい。
化学機械設備の設計・製作なら当社にお任せください
株式会社東海化工機は、化学工学を応用した機械設備の基礎計算・ 構造計画の業務から出発し、現在は、各種化学機械設備の設計、製作、 販売を致しております。 設備関係では「化工機設備」「環境対策設備」「洗浄設備及び附帯設備」 「アルミ鋳造設備の附帯設備」「アルミ軽合金熱処理設備」。 加工関係では「各種ステンレス等製缶加工」「アルミ軽合金のT5熱処理」 「アルミ軽合金のT6熱処理」を主な業務として活動させて頂いております。 【納入実績】 ■T5熱処理装置 ■T6熱処理装置 ■T5バッチ熱処理装置 ■自動真空吸引装置 ■自動脱脂洗浄装置 など ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お問い合わせください。
生産能率がアップ！トレーリターン式時効処理炉
『アルミＴ5熱処理装置』は、アルミダイキャスト部品をT5熱処理(時効化処理)し、 時間・温度の設定により目的とする硬度に仕上げるものです。 製品をパレティーナに収納したまま処理ができ、生産効率がアップします。 また、ガスバーナーは、加熱・冷却同時制御で正確な温度制御が可能です。 現在検討計画中の物件、興味のある物件がございましたらご連絡下さい。 ご説明にお伺いします。 【特長】 ■トレーリターン方式 ■製品をパレティーナに収納したまま処理ができる ■生産能率がアップ ■ガスバーナーは正確な温度制御が可能 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お問い合わせください。
ポテンシャル窒化をコントロールする制御技術！金属処理レシピや炉体システムなど総合的なソリューションがご提供可能な熱処理装置！
ナイトレックス・メタルの熱処理装置「総合カタログ」は、ターンキーシステムやバッチ炉、プロセスコントロールシステム、プロセスコントロールソフトウェアなどご紹介しています。 ポテンシャル窒化をコントロールできる制御技術を保有しております。 【掲載内容】 ■ターンキーシステムとは ■規格品およびオーダーメイドの炉体 ■プロセスはパラメーター設定後、全自動によるオペレーション ■窒化・軟窒化のポテンシャル制御技術NITREG（R）／NITREG(R)-C／ONC（R）／NITREG(R)-S／NANO-S TM ■窒化及び軟窒化の典型的なアプリケーション ■熱処理専業メーカー向けP-シリーズシステム ■ナイトレックスのシステムの特徴 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お問い合わせください。
機械の試作・開発のパートナー！お客様のイメージを具現化します
当社は加熱応用装置の専門メーカーとして、急速に発展する工業界に 対応すべく当社技術群も品質のレベル確立に全力をあげ、 自動化・省力化・省エネ化・対環境化に飽くなき追及を続けています。 設計⇒板金加工⇒組立加工⇒電気配線の全てを社内一貫生産で対応。 高性能、低価格、且つ短納期にて製品を製作出来ますので、 ご要望の際はお気軽にご相談ください。 【主な製品】 ■熱処理装置 ■省力化装置 ■環境対策装置 ■その他取扱い製品 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
真空～大気環境でパーティクルレスでの熱処理を実現します。
有機EL等新しいパネル技術関連における真空・熱関連装置の設計、製造、販売を行っています。 大気・真空を繰り返す際に発生するパーティクルを対策した幸和独自の技術の真空ホットプレートの提案をいたします。 “目に見えない熱や圧力をコントロール”するために、技術と知識を駆使してお客様のニーズに合わせた装置、設備をトータルでコーディネートいたします。
温度プロセスを7段階変更可能！ニーズに合わせた温度管理が出来ます！
本製品は、全工程を自動運転可能にした小型真空熱処理装置(真空炉)です。 温度プロセスを7段階変更可能なため、200℃/30分、400℃/15分など ニーズに合わせた温度管理が出来ます。また、真空ポンプを シャットダウンせずに真空容器の大気解放が可能なため処理品交換後 すぐに、次処理が可能です。 【特長】 ■自前の真空機器を使いコストダウンが可能 ■温度プロセスを7段階変更可能なため、200℃/30分、400℃/15分など ニーズに合わせた温度管理が可能 ■全工程を自動運転可能。手動切替え機能付き ■真空ポンプをシャットダウンせずに真空容器の大気解放が可能なため 処理品交換後すぐ、次処理が可能 ■炉内冷却も任意の温度で窒素もしくはAirを導入し、プロセス時間短縮が可能 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
高速熱処理装置（RTP/RTA装置） AccuThermo シリーズ
LED，VCSEL等の化合物半導体や、太陽電池 セルの高速熱処理に最適な、デスクトップ型の最新型高速熱処理装置 【特徴】 ○強力な可視光線により、2インチ〜8インチまでのシングルウェハを 短時間かつ正確にコントロールされた温度で加熱処理 ○優れた加熱均一性 ○高度な温度制御 ○広域レンジパイロメータ（ERP）による高精度温度計測（オプション） ○パイロメータまたは熱電対温度センサーによる クローズドループ温度コントロール ○温度制御範囲+100℃ 〜 +1,250℃ ○高速加熱100℃/sec，高速冷却100℃/sec ○高いウェハ間プロセス再現性 ○特定のプロセス条件に対応した温度−時間プロファイル ○省スペースかつ、高いエネルギー効率 ●その他機能や詳細については、お問合わせ下さい。
削り加工を考慮した厚みが不要！加熱スケジュール設定後は最後まで全自動運転！
『MPシリーズ』は、乾燥時の「ひねり」を解消し、厚みを残したまま 商品化できる高周波平板化熱処理装置です。 削り代を考慮しなくて良いため、厚みが薄い状態で乾燥可能。 加熱スケジュール設定後は最後まで全自動で運転します。 また、含水率が均一になるので、処理後の戻りは最小限に抑えられます。 【特長】 ■乾燥時の「ひねり」を解消 ■厚みを残したまま商品化できる ■歩留まり改善 ■乾燥コスト削減 ■全自動運転 ■戻りは最小限 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
チタン合金やニッケル合金など様々な金属材料に適応！CO2を排出しないクリーンな熱処理装置
『SDCプラズマ真空熱処理装置』は、プラズマ浸炭、プラズマ窒化、 ガラス状カーボン(GLC)被覆及び真空熱処理など、さまざまな金属材料の 表面硬化や熱処理に適用できる装置です。 外部熱源に加え、マイクロパルス電源を使用し、プラズマ電源の出力電圧、 電流、パルス幅、電圧継続時間などをコンピュータプログラムで制御する ことで、ワークピースの温度を指定温度に精密に制御しながら表面硬化や コーティング処理を行うことができます。 均一な微細構造と高い表面硬度を有し、水素吸収を防ぐプラズマ浸炭チタン 合金部品の製造プロセスを確立。更に、同じプロセスで浸炭チタン表面に ガラス状炭素膜(GLC膜)を形成させることも可能にしました。 【仕様(一部)】 ■有効処理ゾーン：600×600×1000mm ■グロス重量：600kg ■処理温度：～1200℃ ■雰囲気ガス：真空/メタン/プロパン/(アセチレン)/窒素など ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
磁場中熱処理装置
【概要】 本装置は超伝導マグネットと組合せ強磁場中(20T)に於いて真空、高温で金属材料の熱処理試験を行う目的にて開発された装置であります。 電気炉は強磁場の影響を受けない構造が特長になっております。 【製品仕様】 １．最高加熱温度 max 1100℃ 10φ×30L ２．電気炉外筒(ＳＵＳ３０４) １）ＯＤ95φ×312L 外筒内水冷、真空断熱層 ２）上部超ストロークベローズ、真空室(電極、引口付) ３）下部試料交換用ＩＣＦフランジ付 ３．ヒーター(Ｔａ) 無誘導巻き21φ×94L ４．反射板(Ｔａ、Ｍｏ) 24φ×31φ×98φ ５．架台(ＳＵＳ３０４) 1330W×1460D×1820H
5Ton迄の拡散接合などの多目的の実験炉として使用することができるプレス付真空熱処理装置
『PRESS-VAC-2S型』は、さまざまな熱処理が可能な真空装置です。 真空の状態でプレスを行うことで、通常の状態でプレス加工するのとは 違った処理をすることが可能です。 また、熱処理に関しましてはプログラム制御を行いますので、細かい 温度管理が可能。今までのものとは異なる新しい製品の開発などに 利用することができます。 【特長】 ■プレスユニットの圧縮能力については任意の設定することができる ■0.3Kg3/cm2の圧力雰囲気処理も可能 ■高真空で使用できるだけではなく、複数の不活性ガスでも使用できる ■狭いスペースにも置けるようなコンパクトな装置 ■金属ヒーターと反射板を使用した構造を採用 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
１０００℃まで対応！各種雰囲気下での加熱処理が可能な真空パージ炉
各種雰囲気下での加熱処理を用意に行えるコンパクトサイズの真空パージ炉です。真空パージにより炉内雰囲気の置換時間を短縮できます。 【特長】 ◆各種雰囲気下での加熱処理が可能 ◆還元雰囲気（水素ガス）炉としても対応可能 ◆ヒーターのメンテナンスが用意 ◆インコネルマッフルを装備 ◆常用使用温度範囲は４００℃〜１０００℃
最大156mm×156mm基板対応！真空又は大気搬送装置及びロードロック搭載可能
『AS-Premium』は、大気・真空下プロセスに対応しているRTP装置です。 アニール処理後急速冷却機構(上部ランプ加熱式のみ)で、 低温(1100℃)/高温(1300℃)パイロメーターとなっております。 ご用命の際は、当社へお気軽にご相談ください。 【特長】 ■最大156mm×156mm基板対応 ■低温(1100℃)/高温(1300℃)パイロメーター ■アニール処理後急速冷却機構(上部ランプ加熱式のみ) ■大気・真空下プロセス対応 ■ターボポンプ搭載可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
ターボポンプ搭載可能！低温(1100℃)/高温(1300℃)パイロメーター
『AS-Master 200』は、アニール処理後急速冷却機構のRTP装置です。 最大200mm径基板対応(基板上部ランプ加熱式)しており、 真空又は大気搬送装置及びロードロック搭載可能。 また、大気・真空下プロセスに対応しており、ターボポンプ搭載可能。 ご用命の際は、当社へお気軽にご相談ください。 【特長】 ■最大200mm径基板対応(基板上部ランプ加熱式) ■低温(1100℃)/高温(1300℃)パイロメーター ■アニール処理後急速冷却機構 ■大気・真空下プロセス対応 ■ターボポンプ搭載可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
