業界最大クラスの観察エリア520mm×520mm ナノオーダー解析(250/800nm)×超高倍率(2,000倍)を実現
大型基板の内部を非破壊で詳細に観察したい。
そんなお悩みを、XVA-160□520が解決します。
✓ 大型ガラス/プリント基板の非破壊解析がしたい
✓ 従来のX線装置では対応できなかった大型ワークのCT観察
✓ 大型ワーク内部の微細構造を観察したい
特長1: 業界最大クラスの観察エリア
最大視野: 520mm × 520mm
最大搭載サイズ: 630mm × 630mm
従来では対応が難しかった大型ワークの非破壊解析が可能になります。
特長2: 超高分解能を実現するナノフォーカスX線発生器搭載
最小フォーカスサイズ: 250nm
最大幾何学倍率: 2,000倍
特長3: 広範囲×高倍率の斜めCT技術
独自技術のユーセントリック機構により、ディテクタ傾斜時・ステージ回転時も着目ポイントを中央に捉え続け、
ステージ上どこでも斜めCT撮影が可能です。
そのためXVA-160□520では、斜めCT撮影を広範囲(520mm × 520mm)で行うことができます。
また高解像度を生み出す再構成アルゴリズムにより、広範囲×高倍率の斜めCT撮影を実現します。