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ボンディングパッドの洗浄(ボンダビリティ向上)、表面改質・親水化(モールディング前処理)に最適な平行平板方式のプラズマクリーナー
G1000 / G500は、ガスプラズマのエッチング効果を利用して低圧環境下で洗浄対象物の表面をクリーニングするシステムです。 ご用途に合わせて使用するガス(アルゴン、酸素、水素＋アルゴン等)を選択することにより、有機質のみならず無機質汚染も確実に除去します。 HIC基板やリードフレームのボンディング面洗浄によるボンディング強度の向上や、表面改質(親水化)による濡れ性改善に最適なシステムです。
ワーク表面の微細な汚れを除去！大気圧下で使用可能なプラズマクリーナーをご紹介
『RPLU-100Aシリーズ』は、導入コストを抑えながら、高品質な表面処理を 実現し、生産性向上が可能な大気圧プラズマクリーナーです。 ウェット洗浄不要。ワーク表面の微細な汚れを除去し、表面に親水性官能基を 形成します。 「ヘッド回転式」と「非回転式」をラインアップしており、強度に難があり、 諦めていた接着や、剥離強度がもう少し欲しいといった場合に非常に有効です。 【特長】 ■ワーク表面の微細な汚れを除去 ■表面に親水性官能基を形成 ■ウェット洗浄不要 ■ドライ環境で表面処理が可能 ■親水性（濡れ性）の向上 ■接着、接合性がUp ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
プラスチックパッケージや液晶基板、ハイブリッドICなどの表面クリーニングに最適なバッチ式のプラズマクリーナーです。
反応室内に電極棚を複数段装備できるため、小型部品からFPD用角型基板に至るまでさまざまな形状の基板の多数処理が可能です。また、三種類の処理モード（RIEモード、プラズマモード、ダウンストリームモード）を選択できるため、基板の種類に応じた最適な処理を行うことが可能なプラズマクリーナーです。
試料にダメージを与えず、コンタミなしで真空チャンバーと試料をクリーニング致します。
電子顕微鏡や真空チャンバーの試料観察にて、コンタミを確実に除去致します。試料へのダメージやコンタミは発生致しません。 プラズマの強度をモニタリングして自動で圧力等を制御できます。
業界最小サイズ！小型・低コスト卓上型プラズマ処理装置
小型・低コスト・業界最小サイズ、卓上型プラズマ処理装置です。ラボ・研究開発向けに設計。光学材料のクリーニングはもちろん、ポリマー・生体材料などの材料改質、歯科・医学材料(器具)の滅菌、マイクロ流体工学などにも対応。あらゆる材料のクリーニングと表面処理に活用されており、各分野で多くの販売実績あり。真空ポンプ、クオーツチャンバー、サンプルトレー、プラズマフローなど、オプション品も幅広くラインナップ。
小型プラズマクリーナー（簡易型枚葉式プラズマクリーナー）
本装置は、平行平板型高周波プラズマを使用した簡易型枚葉式プラズマクリーナーです。 600mm（W）×600mm（D）×750mm（H）（ポンプ除く）の小型プロセス装置です。
本製品は、平行平板型のプラズマ処理装置です。
本製品は、平行平板型のプラズマ処理装置です。コントロール・パネル上の操作のみでDP（ダイレクトプラズマ）モードとRIE（リアクティブイオンエッチング）モードの２つのプラズマモードを切り替えられ、BGAなど実装プロセスでのダイアタッチの接着性改善・封止性改善など、多様なプロセス用途に利用できます。
プラズマクリーナー V1000/1000X/1000XS
13.56MHzの高周波電力を印加した プラズマクリーナー 【特徴】 ○RIE・DPの両モードを搭載 ○電極2段式方式を採用し、処理効率がアップ（V1000X） ○プラズマ効率向上のため、特殊電極構造に変更可能 ○高精度マッチングユニット、RF電源は高信頼性 ●その他機能や詳細については、お問合わせ下さい。
12インチリング付きウェハ処理が可能！ 表面改質、無機物/有機物汚染除去！ 量産前の評価、研究に最適！ 高速、低価格
★ 12インチリング付きウェハ処理が可能！ ★ 表面改質、無機物/有機物汚染除去！ ★ 量産前の評価、研究に最適！ ★ 高速、低価格 ★ 様々なオプション機能 ★ 300mmウェハ、矩形基板への対応可 [ 主要性能] ・到達圧力：6.0Pa以下(ガスバラスト閉時） ※最大排気速度500L/min ドライポンプを使用 ・リークレート：1.07 Pa/min以下 ※ビルドアップ基準値：0.1Pa・L / sec をチャンバー容積に換算※ビル ドアップ基準値：0.1Pa・L / sec をチャンバー容積に換算 ・RFパワー制御：13.56MHz/100～1 000W ・プロセスガス流量制御：設定値に対して±10%以内 ・エッチング性能 無機物エッチングレート：平均20nm/min以上±20% 有機物エッチングレート：平均500nm/min以上±20% テストチップをφ300電極上5ポイントに配置 ※φ280円周上4点及び中央1点に配置 ※矩形電極［オプション］時は□300コーナー4点及び中央1点に配置 ワイドレンジオートチューニング
表面改質に適したバッチ式のプラズマ洗浄装置（プラズマクリーナー）です。
本装置では、RIEモード、プラズマモードから処理モードを選択できるため、基板の種類に応じた最適な処理を行うことが可能です。また、省スペースで場所を選ばす、卓上型で非常にコンパクトな設計のプラズマクリーナーです。
金属酸化膜の安全な還元と洗浄を実現！水蒸気を用いたプラズマ処理装置
『Aqua Plasma クリーナー』は、主に水蒸気を用いた プラズマ処理装置です。 金属酸化膜の還元、有機汚れの洗浄、フォトレジストアッシング、 親水化などの表面処理を、安全に効率よく行うことができます。 銀電極、銅電極の還元、改質、洗浄やその他酸化金属の還元、 樹脂の表面改質、親水化、アッシングなどに応用可能です。 【特長】 ■金属酸化膜の安全な還元と洗浄を実現 ■酸素の添加により洗浄速度の高速化が可能 ■水蒸気生成、供給量の自動コントロールシステムを内蔵 ■専用デザインにより、設置面積を従来の60％に削減 ■多段処理に対応（最大3段） ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
小型・低コストな卓上型プラズマ処理装置Harrick Plasma社 PDC-001 / プラズマクリーナー
ラボ・研究開発向けに設計。光学材料のクリーニングはもちろん、ポリマー・生体材料などの材料改質、歯科・医学材料(器具)の滅菌、マイクロ流体工学などにも対応。あらゆる材料のクリーニングと表面処理に活用されており、各分野で多くの販売実績あり。真空ポンプ、クオーツチャンバー、サンプルトレー、プラズマフローなど、オプション品も幅広くラインナップ。
