更新日： 集計期間:2025年10月08日～2025年11月04日
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受託加工専業30年を超える実績！技術の向上で、更なるイノベーションへ！
東邦化研株式会社では、表面処理に最適なイオンプレーティング（PVD）・真空蒸着・プラズマCVD・スパッタリングなどによる薄膜コーティング受託加工サービスを行っております。 特に導電性・絶縁性等の機能性膜に重点を置き、試作・開発・研究・大量生産・小ロット生産までの、幅広いご要望にお応えするべく体制を整えております。 お見積りから加工まで、迅速・確実な対応を心がけ、且つリードタイムの短縮に貢献します。 【事業内容】 ■イオンプレーティングと真空蒸着による薄膜の受託加工サービス (機能性膜の作製、表面改質、薄膜加工全般の受託請負) 詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
素材に新たな機能を吹き込む薄膜加工技術を解説した技術資料を進呈中！各種表面処理薄膜コーティング法を掲載！試作から生産案件まで対応
東邦化研株式会社では、イオンプレーティング、真空蒸着、スパッタリング、プラズマCVDによる機能性薄膜の受託加工（コーティングサービス）を行っております。 金属膜や、酸化膜・炭化膜・窒化膜等の反応膜、合金膜、また、それらの積層膜等、様々な膜種に対応し、試作・開発・研究などの少量案件から、中小ロットの生産案件まで、幅広いご要望にお応えするべく体制を整えて参りました。 機能性薄膜をご検討の際は、お気軽にお声掛けください！ 柔軟な対応と35年以上の実績をもとに、お客様のご要望にお応えします！ また、本資料では各コーティング法の特徴の他、コーティング事例やパターン形成についても掲載しています。 ご興味のある方は資料をダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
「高出力型のキセノン・エキシマ・ランプ」を利用！光CVD法の製膜速度についてご紹介
金属や高分子材料の表面に薄膜を製膜することにより、材料表面の 機械的性質、熱的性質、化学的性質、電気的性質をコントロールする ことができます。 この表面改質に用いる薄膜の製膜方法には、真空蒸着法やPVD法、 プラズマCVD法など、様々な方法を採用。今後とも新たな製膜方法の 探索や開発が続けられていくものと考えられます。 そこで当資料では、「高出力型のキセノン・エキシマ・ランプ」を 利用した薄膜製造プロセスの可能性について、検討を行った結果を ご紹介しております。 【掲載内容】 ■はじめに ■「高出力型のキセノン・エキシマ・ランプ」を用いた光CVD法の製膜速度 ■おわりに ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立が可能。様々な研究用途に対応可能な小型薄膜実験装置。
【フレキシブルシステム】 MiniLab薄膜実験装置シリーズは、豊富なオプションから必要な成膜方法・材料に応じて都度、ご要望に適したコンポーネント（成膜ソース、ステージなど）、制御モジュールを組み込み、カスタマイズ品でありながら無駄の無いコンパクトな装置構成を容易に構築することができます。モジュラー式制御ユニットをPlug&Play 感覚で装置を構成することにより応用範囲が広がり、様々な薄膜プロセス実験への応用が可能になります。 MiniLabシリーズは、研究開発から小規模生産用途まで幅広く対応するハイコストパフォーマンスシステムです。 【スモールフットプリント・省スペース】 ・シングルラックタイプ（MiniLab-026）：590(W) x 590(D)mm ・デュアルラックタイプ（MiniLab-060）：1200(W) x 590(D)mm ・トリプルラックタイプ（MiniLab-125）：1770(W) x 755(D)mm 【優れた操作性・直観的操作画面】 Windows PC、または７”タッチパネル。熟練度を問わない簡単操作、且つ安全に最大限配慮しております。
電子顕微鏡観察のお悩みを解決！チャージアップ防止、粒状性・熱ダメージ軽減に絶大な効果を発揮
『オスミウム・プラズマコーター』は、「直流グロー放電による 負グロー相領域内でのプラズマ製膜法」を用いた電子顕微鏡試料用の 導電性薄膜作製装置です。 プラズマCVD法により、非晶質のオスミウム導電性薄膜(オスミウムコート)を 短時間に形成することができます。 非常に強固かつなめらかな表面の導電性薄膜が試料に対し熱ダメージを 与えることなく得られます。 【特長】 ■フルオート操作 ■オスミウム昇華室/ナフタレン昇華室の着脱が可能 ■オスミウム/ナフタレンの残量確認が可能 ■製膜時間が短い（数nm/数秒） ■アンプルは昇華室の中で割る安全構造 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
各コーティング方法の違いや特徴、コーティング事例、お問い合わせの多い質問をまとめた『薄膜Q＆A』を無料でプレゼントします！
素材に新たな機能を吹き込む薄膜加工技術をQ&A形式で分かりやすく解説した資料を無料進呈中！ ・真空蒸着？ ・イオンプレーティング？ ・どんな膜ができるの？ ・こんなコーティングはできるの？ ・試作だけでもいいの？量産もできるの？ 東邦化研株式会社では、表面処理に好適なイオンプレーティング（PVD）・真空蒸着・プラズマCVD・スパッタリングなどによる薄膜コーティング受託加工サービスを行っております。 イオンプレーティング部発足以来、約40年に渡って幅広い分野で実績を残してまいりました。 その中で、特にお問い合わせの多い質問をまとめてみました。 各コーティング方法の違いや特徴、コーティングの具体例等、イラストや写真を交えて、 なるべく分かりやすくまとめましたので、ぜひダウンロードしてみてください。 柔軟な対応と35年以上の実績をもとに、お客様のご要望にお応えします！ 機能性薄膜をご検討の際は、お気軽にお声掛けください！ ご不明な点につきましてもまずはお気軽にお問い合わせください☆
30年を超え、受託薄膜加工一筋！豊富な経験と確かな技術に培われた加工実績
東邦化研株式会社の表面処理薄膜コーティング受託加工サービスの加工実績を紹介いたします。 単金属膜をはじめ、酸化膜、炭化膜、窒化膜、合金膜、光学膜、またこれらの多層膜（積層膜）と様々な膜種に実績を残しています。 【適用分野】 ■電気・電子部品：電極膜・絶縁膜・表面保護膜・透明導電膜など ■真空装置部品：汚染防止・絶縁膜・ボンディングメタルなど ■航空宇宙関連：軽量化・防蝕・固体潤滑など ■機械部品・金型：耐摩耗性・離型性・防蝕・表面硬化など 詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
優れた技術力！高品質の結合スパッタリングターゲットを提供するFHRについてをご紹介
FHR Anlagenbau GmbHは、真空プロセスおよび薄膜技術の分野における 革新的な企業です。 1991年にドイツのドレスデンにおいて薄膜の複数アプリケーション向けに 新しいコンセプトとソリューションの開発と販売を目的として開発と設計に 優れた技術力を持ったエンジニアのグループによって設立されました。 FHRは薄膜技術を提供し、世界中の顧客に幅広い用途向けにカスタマイズ された機器を提供しています。 【FHRテクノロジーポートフォリオに含まれるもの】 ■マグネトロンスパッタリングとCVDによる高度なメタライゼーション技術 ■酸化物および窒化物の堆積のための反応性スパッタリング技術 ■高密度プラズマ源のサポートによる高度なエッチング技術 ■半導体、金属、セラミック、ナノ構造、フォトニック材料の処理と改質の ためのフラッシュランプアニーリング（FLA） ■複雑な3D形状において高度な成膜制御により優れた均一性を持った 単層結合のための原子層堆積（ALD）技術 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
