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光電子分光分析装置（ESCA）を使用した多層膜の深さ分析結果を掲載！
当事例集は、イオン注入、成膜・分析、研究・事業化マネジメントの サービスなどを提供している株式会社イオンテクノセンターの光電子 分光分析装置「ESCA」による多層膜の深さ分析の事例集です。 シリコン基板の上にシリコン酸化膜とチタン酸化膜の積層膜をESCA （Quantum-2000）によって分析した結果を掲載しております。 【掲載概要】 ■ESCAによる多層膜の深さ分析の分析結果 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
X線光電子分光分析(XPS)は試料最表面(数nm)の元素情報を得られるため表面汚染・変色の分析や表面処理その他の評価に最適です
ポリイミドフィルムの表面が疎水性になるという不良が発生しましたが、SEM/EDX分析では得られる情報深さが深いため、最表面に存在する特異な元素は検出できませんでした。 そこで表面に敏感な手法であるX線光電子分光分析(XPS)による表面分析を実施しました。 この事例では「XPSによるポリイミド表面汚染分析」を紹介いたします。 ぜひPDF資料をご一読ください。 また、弊社では本WPSに加えGD-OES、オージェなどの各種表面分析を行っております。 お気軽にご相談いただければ幸いです。 セイコーフューチャークリエーション 公式HP https://www.seiko-sfc.co.jp/ ※その他の資料もあります。問い合わせボタンからご用命いただければ送付いたします。
大気圧レベルの圧力での測定を可能にしたXPS分析装置！
HiPP-Labは、大気圧レベルの圧力での測定を可能にしたXPS分析装置をさします。 差動排気システムを用いて大気圧に近いレベルでの測定環境下で試料の測定が可能となり 今まで測定出来なかった環境制御下における次世代のXPS装置です。 【用途】 環境制御下での試料のXPS観察・測定 ―‐‐以下英文による紹介です。 The HiPP-Lab brings together the world leading instrumentation for APPES: ●Outstanding performance APPES system with unchallenged energy, spatial and angular resolution ●Intelligent integration and automation ●State of the art HiPP-3 analyser: - Line mode imaging mode - Angular mode - Swift acceleration mode for increased intensity
軟X線を照射！基板や回路等の定性・半定量分析にも最適な光電子分光分析！
『X線光電子分光（XPS）分析』は、試料表面に軟X線を照射し、発生する 光電子の結合エネルギーを測定します。 試料を構成している元素と組成（定性分析・半定量分析）、元素の化学状態 （状態分析）を調べることができます。 検出される情報は、試料の極表面層（数nm）のものであり、Ar イオンスパッタ リングを組み合わせることで、深さ方向の測定を行うこともできます。 励起源が軟X線のため、導通がない試料の測定も可能です。 【適用対象】 ■金属全般 ■セラミックス ■半導体 ■薄膜 ■フィルム ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
これまでの常識を超える新しい応用分野を切り開くXPS！
『PHI Quantes』は、エネルギーの異なる硬X線（Cr Kα線）と従来の 軟X線（Al Kα線）の2線源を搭載し、微小領域から大面積まで高感度な分析が 可能な走査型デュアルＸ線光電子分光分析装置 (XPS)です。 2種類のX線源は短時間･自動で切り替えが可能。 試料の同一箇所を分析することができます。 【特長】 ■走査型デュアルモノクロX線源 ■2線源による容易な同領域測定 ■ターンキー帯電中和 ■自動分析 ■高耐圧アナライザ ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
