片桐エンジニアリングの製品・サービス一覧

『HDRS-114』は、高速結晶成長と高品質結晶成長を両立させる、超高真空の 用途に対応した高密度ラジカルソースです。 従来のラジカル源にはない、ハイブリッドプラズマ源を採用。 従来品比100倍のラジカル供給を達成しました。 当社オリジナルのハイブリッドプラズマ構造が高密度ラジカルを作り出します。 【特長】 ■高速結晶成長と高品質結晶成長を両立させる ■超高真空の用途に対応したタイプ ■従来のラジカル源にはない、ハイブリッドプラズマ源を採用 ■従来品比100倍のラジカル供給を達成（当社計測） ■当社オリジナルのハイブリッドプラズマ構造が高密度ラジカルを作り出す ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• その他機械要素

『RadiMo-DP，SP』は、RadiMo用に開発した小型真空紫外分光器です、 真空紫外分光用途に単独でもご使用できます。 従来の同レベルの波長分解能を持つ真空紫外分光器よりも体積比で1/3も コンパクトになりました。 また、波長走査用ドライバ、光電子増倍管用高電圧電源、光電子増倍管用 プリアンプは、19インチラック対応の制御ボックスに収められています。 【特長】 ■RadiMo用に開発した小型真空紫外分光器 ■真空紫外分光用途に単独でも使用可能 ■従来の同レベルの真空紫外分光器よりもコンパクト ■波長走査用ドライバ等は制御ボックスに収納 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 分光分析装置
• 分析機器・装置

『NS-023』は、三種のターゲットを同時に成膜可能な三元マグネトロン スパッタリング装置です。 多元同時スパッタ以外にも、白金ヒーターを採用することで、基板の高温活性化 （ヒータ温度：950℃）や反応性スパッタなど様々な使い方に対応しています。 また、アシスト用プラズマ源も対応可能（ECR、ICP、他）です。 【特長】 ■三種のターゲットを同時に成膜可能 ■多元同時スパッタ以外にも、様々な使い方に対応 ■実験内容や予算に応じてカスタマイズ可能 ■アシスト用プラズマ源も対応可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• スパッタリング装置

『KW-030D』は、小規模生産用及び各研究機関の実験用として、コンパクト 設計により初心者でも容易に作業ができる高真空蒸着装置です。 ターボ分子ポンプを搭載することにより、高真空での成膜が可能。 また、基板傾斜機構も搭載し、2軸の回転角度を調節することにより 斜め蒸着ができます。 【特長】 ■初心者でも容易に作業可能 ■ターボ分子ポンプ搭載 ■基板傾斜機構搭載 ■蒸発源は抵抗加熱3基、オプションでEB加熱に対応 ■水晶振動式膜厚モニター搭載 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 蒸着装置
• 分析機器・装置

『SP型-RadiMo』は、吸収分光法により基底状態のフッ素ラジカルの 絶対密度の計測ができる装置です。 光源から放射されるプローブ光のスペクトルは、高精度にキャリブレーション されています。 また、発光・非発光プラズマのどちらでも計測することが可能。F-RadiMoは プロセス装置のポートに取り付けることにより計測できるようになります。 【特長】 ■フッ素ラジカルの絶対密度の計測 ■発光、非発光プラズマのどちらでも計測可能 ■絶対密度算出のための較正が必要ない ■F-RadiMoはプロセス装置のポートに取付けて計測可能 ■さまざまな計測応用 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• その他計測・記録・測定器
• その他電子計測器

株式会社片桐エンジニアリングが取り扱う、『ナノカーボン堆積装置』を ご紹介いたします。 当製品は、ナノカーボン材料を合成可能なCVD装置です。 「CND-050LP」をはじめ、大面積ナノカーボン堆積装置「LCND-200」や PNナノカーボン堆積装置「NCD-050W」をラインアップ。 用途に合わせてお選びいただけます。 【特長】 ■ナノカーボン材料を合成可能 ■3種類のラインアップ ■用途に合わせて選べる ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• CVD装置

このプロジェクトは、「ナノテクものづくりクラスター」の形成に向けた研究プロジェクトです。プロジェクトの目的としては、名古屋大学が独自に開発した反応空間内の原子・分子濃度を測定するプラズマ診断技術をもとに計測用スマートセンサー、ナノパターニング技術について研究開発を行い、常に最適条件でのナノオーダーの超微細加工が自動的に行える「自律型ナノ製造装置」を開発することになります。

• その他実装機械

大気圧マイクロホロープラズマ　ロボット搭載μ-AP大気圧プラズマは、第4の状態（プラズマ状態）を大気圧下で作り出す装置です。電極構造をホロー形状にし、ホロー部で電子密度のプラズマが増加し、高密度のプラズマを生成します。電極間距離を最適設計することにより、大気圧下でのプラズマの生成が可能になりました。放電ガスのブローによりプラズマの噴出を形成しています。水中プラズマ生成への応用が可能です。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。

• プラズマ発生装置

Radimoラジカルモニター　＜対向型ラジカルモニターDP型＞は、エッチング・表面処理・薄膜作製時に発生する気相中の原子状ラジカルを計測し、プロセスへのフィードバックを可能にしたモニタリング装置。世界初のプロセスで使える超小型ラジカル絶対密度計測装置です。プラズマ中の基底準位に存在する原子を吸収分光法により測定、測定対象及び目的により最適構造の選定が可能です。計測用ソフトウエアは名古屋大学堀研究室での研究成果にて校正された最新のものが搭載されています。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。

• その他検査機器・装置

『CCP-T60M/B2M』は、高精度かつ高信頼性の酸化膜微細加工を実現する 平行平板型エッチング装置です。 プロセスガスからラジカルを選択的に生成し、低電子温度、高密度プラズマが 得られる60MHzパワーを上部電極に印加。 また、常に適切なエッチングプロセス条件が維持されるシーケンスプログラムを 内蔵しています。 【特長】 ■平行平板型エッチング装置 ■高精度かつ高信頼性の酸化膜微細加工を実現 ■プロセスガスからラジカルを選択的に生成 ■60MHzパワーを上部電極に印加 ■シーケンスプログラムを内蔵 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• エッチング装置

真空機器関連商品　EBEP処理装置＜FAP-EB/2D＞は、低圧高密度プラズマによる高速・高品質表面処理装置で、CVD、エッチング、表面改質のプロセスに最適です。低圧力領域においてエネルギー可変電子ビームにより、プロセスガスを高効率に解離、電離を行なうことができ、高密度の活性種を生成することが可能。CCPプラズマ、ICPプラズマでは達成できないプラズマ状態を生成し、様々な材料の精密成膜、エッチング、表面改質ができます。φ100mmの酸化物、金属、樹脂等の成膜、表面改質に対応。ステージ加熟（Max500℃）、バイアス印加による高速高精度処理が容易となっております。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。

• プラズマ表面処理装置

株式会社片桐エンジニアリングでは、超真空から大気圧領域の真空装置・機器においてお客様の要望に応えたカスタマイズ装置づくりを行っており、開発、設計から加工・溶接・組立・検査までを一貫して手がけております。大学との共同研究による最先端プラズマ技術を元に装置開発を続けています。電子ビーム励起プラズマ（EBEP）を社内設備として設置し、企業ニーズに応えた開発、試作を行っており、EBEPによる高速チッ化処理、有機膜の親水性密着性向上に成功いたしました。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。

• 真空機器
• 半導体検査/試験装置
• その他検査機器・装置