インターテック販売の製品・サービス一覧

XPump は、リアルタイムでポンプの状態を監視し、予知保全を⾏う最先端の AI/ML ベースのソリューションです。振動、温度、電圧などの重要なパラメータを継続的に監視し、故障を未然に防ぐための早期警告を提供します。XPump は既存のシステムとシームレスに統合され、運⽤効率を向上させ、ダウンタイムやメンテナンスコストを削減します。

• その他計測・記録・測定器

既存の設備にSECS/GEMS機能が搭載できます！ エンドユーザーの皆様：費⽤が⾼額すぎたり対応ベンダーが⾒つからなくて、SECS/GEM機能を搭載できない設備がありませんか？ 装置メーカーの皆様：既存のソフトウェアやハードウェアを変更することなく、SECS/GEMS機能を提供できたら良いと思いませんか？ EIGEMBoxはこれらの問題を解決します！！ しかも、設備のハードウェアやソフトウェアに⼿を加える必要がありません！

• その他計測・記録・測定器

柔軟度が高く正確なプロセスコントロール 200mmもしくは300mmウェハー用の自動ウェットプロセシングシステムである本製品はキャリア有無どちらでも使用でき、正確なプロセスモニタリ ング、高い生産性と柔軟性を持つように設計されております。 RENAのSemi Processing Platformはお客様の要求によって調整できる柔軟性を持ち、最大の生産品質と量産性をもたらします。 特筆すべきは、フレキシブルキャリアレスハンドリングシステムで、厚みの異なるウェハーを同時に加工することが可能です。

• その他半導体製造装置

■ 量産ベースとなるプロセス開発に安定したプロセスを実現 ■ 最短のプロセス開発を可能にする柔軟性の高いソフトウェア ■ 標準仕様でタンク2基を搭載し多様なプロセスをサポート ■ エッチングレート100Å/Secにおいても優秀なユニフォーミティ ■ 搬送系はマニュアル・自動に対応 ■ 初期投資が抑えられる ■ 省スペース ■ 小ロット生産向け ■ 酸とソルベントのプロセス ■ スピンナーでは実現できない複合的搬送システム ■ エッチングユニフォーミティーはバッチタイプを凌ぐ ■ タンクは２～4基搭載可能 ■ 200mm ウェハまで対応 ■ 個別の薬液系統に対し可動式スプレーアームを2式まで搭載 ■ 純水とN2にそれぞれボトムスプレーノズルを準備 ■ 外部から機体後部に各種薬液を供給スピンドライを用いた高速冷却エッチングでパーティクルを制御

• その他半導体製造装置

RENAのマルチステップウェットプロセッサー、Revolutionは回転式ロボット設計と精密工学を採用し、 プロセスコントロールの操作性をアップさせました。 省スペースでありながら、強力かつ柔軟性の高い設計となっております。 Advancerシリーズは、モジュール式で設置が容易なロボット搬送の半自動ウェットプロセッサーです。 【省スペースな回転式ロボット】 ■ 2-5ポジション、2軸設計 ■ プロセスタンク複数搭載可 ■ 150～300mmウェハ対応 ■ タンクカバー（オプション ■ 圧力式または光学式タンクレベルモニタリング 【その他】 ■ エッチング、剥離、洗浄の多彩なアプリケーション ■ 分かりやすいレシピ構成 ■ 薬品添加、注入、充填オプション ■ 酸、溶解モデル ■ タンク5つまで搭載可 ■ マランゴニ乾燥組み込み可 【専用ソフトIDX Flexwareで歩留まりアップ】 ■ 高い柔軟性 ■ 高い自由度 ■ 正確性 ■ SECS/GEM準拠 ■ タッチスクリーンUI ■ 複数ロット・レシピ同時進行

• その他半導体製造装置

Advancerシリーズは、モジュール式で設置が容易なロボット搬送の半自動ウェットプロセッサーです。 【生産性】 低コストながら高いパフォーマンス ■ 前後側面マウントロボット ■ 大きな薬液容量 ■ 薬液投入、タンク内で混合 ■ 素早いリンス 【生産性】 最適なパフォーマンスのための各種モデル ■ 洗浄、エッチング、剥離など多様なアプリケーション ■ タンク数1-6によって3種類のプラットフォームをご用意 ■ 酸、ソルベントプロセス ■ ロボットはオプションで２機まで搭載 ■ 4，5，6，8インチに対応 【IDX Flexware】 ■ 柔軟性 ■ 拡張性 ■ 精密 ■ SECS/GEMS準拠 ■ タッチスクリーン

• その他半導体製造装置

RENA NAは現在の技術で新しいSRDを作りました。 SRDは最先端の開発が進む装置業界で、取り残された存在でした。 RENAのCOMPASSはそれを見事に覆しました。 何十年も放置されてきたSRDの弱点に注目し、SRDをより使いやすいものに したのがRENAのCOMPASSです。 実績豊富なIDXソフトウェアを掲載したCOMPASSは工場の自動化にSRDを 組み入れました。

• その他半導体製造装置

本装置は、4/5/6 及び 8 インチ・ウェハーに対応しており、プラズマ CVD 法によってウェハーに酸化シリコン膜及び窒化シリコン膜を形成するものです。 基本構成は、プロセス・モジュール及び RF ジェネレータ・モジュール（高周波,低周波各 1Set ）、バキュームポンプ・モジュールの 3 モジュールで構成され ます。

• CVD装置

【装置改造】 ■ 中古装置リファービッシュ販売 ■ 小口径・化合物ウェハ対応改造 ■ SMIF→オープンカセット改造 ■ 複数ウェハタイプ（トレイ使レイ使用）改造 【定期メンテナンス】 ■ チップ交換 【移設業務】 ■ 構内移設 ■ 工場移設 【トラブル対応】

• 半導体検査/試験装置

i線ステッパーであるFPA3000シリーズは、標準的なシリコンウェハ量産機としての実績に加え、 化合物ウェハの特長である反りや重さに対する対応力が高く、その分野でも広く支持されています。 弊社では適正在庫の保持に尽力し、現像機・顕微鏡・CDSEMを備えたデモ環境を整えております。 【装置改造】 ■ 中古装置リファービッシュ販売 ■ ウェハサイズ変更 ■ レチクルサイズ変更 ■ レチクルチェンジャータイプ変更 ■ チャンバー冷媒改造 【部品販売】 【部品修理】 ■ 基盤類修理 【定期メンテナンス】 【移設業務】 ■ 構内移設 ■ 工場移設 【トラブル対応】

• ステッパー

マスクを傷つけることなく一括露光が可能なミラープロジェクション露光機には根強い需要があります。 本機は、コンパクトなフットプリントと低い保守コストで、トランジスタやパワー半導体等、MEMSの生産に長年貢献してきました。 経年劣化による照度低下や解像度・均一性の劣化にも、ミラーの再生など独自の技術でチャレンジを続けています。 【装置改造】 ■ 中古装置リファービッシュ販売 ■ 基盤サイズ変更 ■ チャンバー冷媒改造 ■ ミラー再生 【部品販売】 【引取オーバーホール】 【定期メンテナンス】 【移設業務】 ■ 構内移設 ■ 工場移設 【トラブル対応】

• フォトマスク

ISO/IEC17025 TAF規格 メーカー純正校正治具使用 国内実績豊富 故障・修理・校正で お困りであればご相談下さい！

• その他検査機器・装置

【装置販売】 ■ DAGE4000 ■ DAGE5000 【仕様】 ■ BS5KG ■ BS250R ■ CBP/TP5KG ■ WP100 ■ WP1KG ■ DS100 ■ その他ロードセル 【定期メンテナンス】 ■ 各種ロードセル校正 【買取サービス】 ■ DAGE4000 ■ DAGE4000plus ■ DAGE4000HS ■ STELLAR4000

• その他検査機器・装置

センサーは信頼性が高く、測定されるウエハーに直接配置されているため、 センサーが配置された正確な場所で実際の温度を提供できます。また、ウエハーの温度プロファイルを正確に測定し、 ランピングアップ、クーリングダウン、遅延期間などの過渡状態を含む完全な熱サイクルの温度変化を連続的に監視することができます。

• その他計測・記録・測定器

4～8インチに対応した、シングルチャンバ全自動RTP装置です。搬送方式はオープンカセット・SMIFどちらかの選択で、カセットステーションは2台になります。 ウェハをサセプタに格納してプロセス処理をするため、反り、厚さ、透過率等のウェハの特性に関わらず、抜群のRc・温度均一性を実現します。 熱源はハロゲンランプで、上下両面配列です。 温度測定範囲は20℃～1250℃となります。熱電対とパイロメータがリアルタイムの温度測定をし、その結果をスマートPIDおよびマルチゾーンSCRが制御することで、優れた温度コントロールを可能にします。 真空チャンバ内には酸素濃度モニターを搭載し、酸素フリーな環境維持をサポートします。 Windowsベースのソフトウェアはマルチリンガル対応。グラフィカルなユーザーインターフェースで直観的な操作を可能としています。 累積出荷台数500台以上の実績で得られたプロセスプロファイリングのノウハウと、常時5台用意されたデモ環境で、貴社のプロセス開発における課題解決のお手伝いを致します。

• その他半導体製造装置