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『FSMシリーズ』は、FOUP/FOSB/OCの外径寸法測定を行う装置です。 2500万画素カメラ＋専用光学エンジンにより、超高画質での外径寸法が可能。 様々な角度から、トップフランジ、サイドフォークリフトフランジ、 ウェハ搭載の段ピッチやレジストレーションピンホールを測定・検査します。 特注対応も行っております。お気軽にご相談下さい。 【特長】 ■各種メーカーのFOUP/FOSB/OCに対応 ■φ300mmの定型サイズ以外やカラーカセットも検査可能 ■2500万画素カメラ＋専用光学エンジンにより、超高画質での外径寸法が可能 ■超広視野で行う高速処理でスループットは業界最速クラス ■特注も対応 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
『MS-200-TCD33』は、12メガピクセルエリアカメラ（5.5μm、4096×3072） 「CMV1200」や、25メガピクセルエリアカメラ（4.5μm、5120×5120） 「Python25K」などに対応した、無限遠（f=200mm）のFマウント鏡筒です。 内蔵同軸落射照明対応。レーザーオートフォーカス・電動レボルバの 組込が可能です。 近赤外波長にも対応した、TNIRモデルも対物と合わせてご用意しております。 ご用命の際はお気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■Fマウント25メガピクセルカメラで全視野観察 ■レーザーオートフォーカス・電動レボルバ組込可能 ■f=200mm 無限遠設計 ■内蔵同軸落射照明対応 ■専用対物レンズは4機種ご用意 ・1.5X：22mm、2.5X：13.2mm、5X：6.6mm、10X：3.3mm ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
『NIR2021-200』は、赤外光の透過・反射特性を利用してシリコンウェハや チップ、MEMS、CSPなど半導体デバイス内部を観察できる顕微鏡です。 1ピクセル5μm、1.3MPのSONY製IMX990を搭載したSWIRカメラを搭載し、 近赤外画像でありながら、高解像画像の取得が可能。 SWIRカメラで感度の高い近赤外1100-1700nm域専用に独自設計した結像鏡筒と PEIR対物レンズシリーズにより、厚ウェハ、高濃度ウェハでも高コントラストな 画像が取得できます。 【特長】 ■1.3メガSWIRカメラ搭載 ■可視域を通さない実装されたICチップなどの内部観察ができる ■高パワー近赤外ハロゲン光源をセットアップ ■対物レンズ100x使用時も明るい画像が得られる ■8インチウェハー搭載ステージを装備 ■除振台、ウェハーローダーなどのオプションもご提案可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
InGaAs(SWIR)カメラに対応。 900-1700nmで高透過率のf=200mm結像鏡筒。 1.1インチセンサー対応 Cマウント 同軸ケーラー照明
Cマウントで1.2インチ 1ピクセル3μm未満のCMOSセンサーに対応した高解像設計 WD65mmシリーズ 0.5x, 0.69x, 1x, 2xを発表
概要 研究開発，小ロット生産まで多用途に対応が可能 ハードコンタクト，ソフトコンタクト，プロキシティーを選択し使用用途に合わせて提案
概要 高精細露光に最適化た独自UV光学系とフォトマスクとウエハを高精度に平行出しできるメカニズムを採用 バキュームコンタクト，ソフトコンタクト，プロキシミティー迄対応した全自動露光装置 特注対応可能
『PElR2000HR 20X・50X』は、2000nmで80％以上の透過率を維持した対物レンズです。 半導体デバイスの故障解析で電流リークによる極微弱な発光の検出に 威力を発揮いたします。 高集積、多層配線化された半導体デバイスを、チップの裏面からシリコンを 透過してくる赤外光で観察が可能です。 ※シリコン補正対応いたしますので、ご相談ください。 【特長】 ■2000nmで80％以上の透過率を維持 ■極微弱な発光の検出に威力を発揮 ■シリコン補正対応可能 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
『UV/DUV Plan APO20X・50X』は、明視野観察用の長作動距離対物レンズです。 可視域と近紫外で使用する波長において、ピントが合うように補正されていいます。 近紫外域の分光透過率を高く設計しており、顕微鏡に取付けてYAGレーザを併用 することで、半導体回路やLCDのリペアなどの薄膜加工に最適です。 【特長】 ■明視野観察用 ■分光透過率を高く設計 ■薄膜加工に最適 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
『MlFシリーズ』は、白色干渉計での使用を目的とした対物レンズです。 合焦位置でのサンプル像とともに内蔵するビームスプリッタと参照ミラー によりサンプルの高低差に対応した干渉縞が得られます。 カスタマイズで製作する受注製品に関しては、シャッターの有無・参照ミラーの 調整方法などをご相談の上製作いたします。 対象物に合わせた反射率の参照ミラーもご用意可能です。 【特長】 ■ビームスプリッタ内蔵 ■サンプルの高低差に対応 ■カスタマイズ製作対応 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
『PE lR Plan対物シリーズ』は、近赤外域の分光透過率を高く設計した 長作動距離、高解像対物レンズです。 シリコンを透過してウェハーの裏面観察をしたり、フォトエミッション 故障解析用レンズとして使用できます。 当社の顕微鏡「PS-888L」に取り付け、YAGレーザと併用することで レーザーリペアなどにもご使用いただけます。 ※LCDガラス補正・シリコン補正に対応可能ですので、ご相談ください。 【特長】 ■フォトエミッション用レンズ ■長作動距離・高解像対物レンズ ■レザーリペアなどにも使用可能 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
ハロゲン光源と比較すると、低消費電力（従来比８０％削減）、長寿命（最大60倍長寿命）、メンテナンス工数を大幅に削減できます。環境にも人間にもやさしい次世代光源です。差込径φ15mm x 差込深さ20mmのライトガイドは、そのまま使用いただけます。” デモ機を貸し出します。（台数は限られていますので、タイミングは別途ご相談ください。） 詳しくは、問い合わせフォームよりお問い合わせ下さい。
1500×1100mm対応/レビュー/画像ファイリング/省スペース、省コスト
8世代、9世代サイズに対応。移動型多眼カメラによる高速検査を実現し、繰り返しズレ検査制度3σ0.5μ以下
8世代、9世代サイズに対応。 シール剤検査専用レンズの採用により、高精細な検査が可能（断線検出、線幅計測）
SPEシリーズ/300x400~1250x1100mm対応ローカル前面検査可能/リジェクト可能（オプション）
550X650～5G,6G,7.5G,8Gまで対応いたします。
ガラス、ITO越しのパターン修正/クラス１対応 マニュアルタイプからインラインタイプをラインナップしております。 低価格で対応いたします。
レーザー1064.532.355nm 繰り返し周波数1~50Hz パワー0.6~2m/単板、セルの安全修正及びアドレス通信による全自動リペアにも対応
UV式／熱硬化式 300ｍｍウエハー対応の装置です。 金型の平行出し、加圧、ＵＶ照射、離型し、高精度繰り返し位置決め精度にて ステップ＆リピートし、リソグラフィーの代替パターニングとして （テラバイト光ディスク、ＬＥＤ、マイクロレンズ、拡散フィルム、高密度パッケージ等）に最適です。 研究開発用、量産に対応いたします。 超高精度 繰り返し精度＝20nm
<特徴> LED/水晶デバイスに最適な、全自動露光装置です。 生産性を重視した高剛性設計、ベースと支柱に石定盤を採用。 ダブルハンドロボットにて、高スループットアクセスランダム制御。 オリフラアライナーも装備
<特徴> MLCSP、Ｃ-MOSno裏面配線用両面アライメント露光装置です。 エンバイロメント（Foup）を装備し、GEM300、OHTも対応 スピンコーター、デベロッパーもインテクレード可能、レジストコートから露光、現像まで全自動で パターニングが可能（オプション） レチクル自動交換（オプション）
<特徴> 試作量産に適した、高精度パターニング、アライメント精度を提供します。
<特徴> 研究開発に高精度又使いやすい設計の手動アライナーを提供します。
<特徴> ３D、タッチパネル、FPC、OLED等のフィルムデバイスに、片面又は両面露光と提供します。
<特徴> 2G～3.5Gまでの水平形露光装置をラインアップしています。 搬送は、高速シャトル搬送または、ロボット搬送にて、ハイスループットで生産に寄与します。 また、見えづらいITOマーク、メタルの被ったマークに対しても、独自の光学系と照明、、画像処理で、高いアライメント能力を提供します。 マスクとワークの温度制御にて、トータルピッチ±3-5μｍ
<特徴> 4.5G（920＊730mm）～6G（1500＊1850mm）までのタッチパネルの薄板に対応します。 ITO、OC1、メタル、OC2のプロセスに最適なモードを提供します。 画像で不鮮明なITOマーク、メタルの被ったマークを独自光学系と照明で、高精度にアライメントします。 パネル搬送は、縦型で、非接触搬送、薄板に対応します。 マスクチェンジャー（5-10枚）を標準装備し、クリーンなパターニングに対応します
<特徴> 大型パネルのマスクの撓みを最小限に抑えたマスク縦型の露光装置です。 多面取、大型パネルをXステップで露光。高い継ぎ精度で露光します。 マスクとパネルの精密温度制御を行い、トータルピッチを抑えた装置になっています。
電レボルバ、電動Z軸を備えつつコンパクトに設計しました。装置組込用として、観察や画像設計測等にご使用いただけます。
高解像力長作動距離の明視野用プランアポクロマートレンズシリーズです。
無限設計 f=200mmチューブレンズ入りコンパクト鏡筒です。
近赤外域の分光透過率を高く設計した長作動距離、高解像対物レンズです。
高NAでシャープなレーザーパターンを可能に！
高解像、低ディストーション、コンパクト設計、使い勝手の良い低倍域の倍率可変鏡筒です！
ハロゲン光源と比較すると、低消費電力（従来比８０％削減）、長寿命（最大60倍長寿命）、メンテナンス工数を大幅に削減できます。環境にも人間にもやさしい次世代光源です。既存のライトガイドをご使用頂けます。
顕微鏡用５穴電動レボルバです。 繰返し位置決め精度は±３μｍ。 ノンクリック構造で磨耗がなく長寿命。 マイクロステッピングモータ駆動。 Ｍ．ＰｌａｎＡＰＯ対物レンズや、アダプタをつけてＲＭＳマウントレンズを取付可能。
NUVPlan20X・・・WD12mm、N.A. 0.5 NUVPlan50X・・・WD10mm、N.A. 0.52
「2光束干渉対物レンズ」「リニク式干渉対物レンズ」など
ディスプレイ基板の修正、検査を目的として最大1250mmX950mmのワークに対応したロボット駆動型のテーブル検査装置です。 パターンニング基板用観察マイクロスコープを搭載し、さらにXYZの大型ロボットテーブル上でワークをセット、不良位置にポイント移動することが出来るなどの特長があります。
＊2/3CCDフォーマットまで対応。 ＊全機種物体側テレセントリックレンズ。 ＊各倍率で同軸落射照明の有/無の選択可能。 ＊全機種全実視野内で0.1%以下の低ディストーション。 ＊全てのレンズにマルチコート。 ＊Cマウントは割締め固定方法採用により、より強固な固定を実現。 ＊Cマウントに清和光学標準20ファイフィルターを入れることが可能。
【光学倍率】1X（上下共） 【作動距離】47±1mm（上側）、38±1mm（下側） 【結像】倒立逆像（上側）、倒立正像（下側） 【視野】6.5X4.85mm（上下共）
＜PDP−ITO膜パターン修正レーザー装置＞ ■概要 PDPセルリペア装置は、点灯検査後のセルパネル欠陥に対し、ガラス越しにITOパターンをカットし、輝点を原点にし、パネルの修正を全自動にて行います。 下地の誘電体等々の材料、またパターンに影響はありません。 ■特長 １．本装置は、大型ステージに明視野顕微鏡を搭載したレーザーリペア＆レビュー装置です。 ２．ITO膜の欠陥箇所の確認や、画像ファイリングなどが可能です。 ３．明視野顕微鏡、対物レンズ、レーザースリットはパターンに合わせたθ（シータ）回転用スリット内蔵、ガントリー型XYリニアステージ（MAX：１３８０×２３００対応）、モニターシステム、大型ステージ、PCシステムなどです。
シンプルかつコンパクトなユニットでマイクロスコーププローブを検体にあてるだけで拡大画像をTVモニター上に鮮明に写し出します。 プローブ部にズーム可変リングを装着、カンタン操作でズーミングが可能です。
200万〜500万画素カメラに対応したテレセントリックレンズです。広視野での画像撮りこみや高精細なアライメントに最適です。
0.7〜4.5X ズーム鏡筒 0.37〜2.23 低倍ズーム鏡筒 2種のコンパクトズーム鏡筒です。
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