大学・研究機関でグラフェンなど炭化水素系化合物での各種材料開発に適した、管状炉式の高温熱CVD 装置
少量・小サイズのテストピースが簡単な操作で作れるように小型化し、 同時に大幅なコストダウンを実現しました。 また、従来小型では困難とされてきた5～100Pa での圧力コントロール機能を備え、 より多様な処理パターンに対応可能としました。 さらに炭化水素系の可燃性ガスに対しては、警報検出による機器停止、 大気放出ガス希釈ユニットなどの安全装置を備えています。 詳しくは、カタログをダウンロード、もしくはお問合せ下さい。
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基本情報
【特長】 ○小型 ○コストダウンを実現 ○多様な処理パターンに対応可 ○安全装置装備 【主仕様】 ○炉芯管 →透明石英管(加熱温度100～1000℃) →アルミナ管(加熱温度1000～1400℃) ○反応ガス供給：2～60sccm →(水素、メタン、エタン、エチレン、アセチレン、ベンゼン等) ○圧力コントロール：5～100Pa ○可燃性ガス大気放出対策 →エジェクタにより可燃混合範囲以下にエアで希釈排気 ●詳しくは、カタログをダウンロード、もしくはお問合せ下さい。
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企業情報
現在真空技術は、宇宙開発・エレクトロニクス・エネルギー・理化学・電気工業・医薬・食品・光学・自動車・金属・鉄鋼等、産業分野全般へと大きな広がりを見せております。 これらの技術は、産業界のあらゆる分野の研究開発から生産プロセスまで、すべての段階において多大な貢献を果たしております。またその成果は私達の生活の隅々にまで浸透しています。 PHIL佐藤真空では、75年にわたり真空機器メーカーとして技術革新を続け、真空ポンプ、真空計測器、各種真空部品を生みだすコンポーネンツ技術、そしてその真空技術を利用した真空装置群、真空乾燥、真空ベーキング、真空熱処理、真空蒸着、真空成膜、超高真空排気、真空注入、真空含浸等真空総合メーカーとして、常にユーザーの立場から研究開発を進めてまいりました。 PHIL佐藤真空の「お客様第一主義」を原点とした企業活動は、そのPHILosophy の経営理念に基づき真空技術のもつ無限の可能性を追求し、ユーザーニーズにマッチした製品をご提供することが、PHILの使命であると考えております。