低温で高い結晶性薄膜を得ることが可能！価格を抑えたプラズマ成膜装置
『AFTEX-2300』は低価格ながらマイクロ波分岐結合型ECRイオン源 を搭載するとともに、ロードロック機構、ターボ分子ポンプを装備した 高性能な固体ソースECRプラズマ成膜装置です。 10-30eVの低エネルギーに制御された高密度イオンの照射下で 薄膜が成長するため、原子レベルの平滑性で緻密・高品質な薄膜が 形成されます。 イオンアシスト効果により、高温の加熱を行うことなく酸化膜、 窒化膜などの化合物薄膜を形成できるほか、低温で高い 結晶性薄膜を得ることも可能です。 【特長】 ■固体ソース ECRプラズマ成膜装置の基本機能のみを装備 ■自動成膜装置にくらべて低価格 ■長期安定稼働を実現 ■クリーンな成膜環境 ■各種インターロック機構採用 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
この製品へのお問い合わせ
基本情報
【仕様】 ■真空排気系 ・成膜室：TMP（450 L/s） ・ロードロック室：RP（250 L/min）TMP兼用 ■成膜室 ・チャンバ寸法：φ570x340mmm ・基板サイズ：φ4インチ ・基板加熱：オプション ・ターゲット基板間距離：200mm ■ロードロック室 ・搬送方式：トランスファーロッド ・収納数：1枚 ■ECRプラズマ源 ・数量：1式（μ波分岐結合型） ・プラズマチャンバ：φ150mm ・円筒ターゲット部：φ100x40mm ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
価格帯
納期
用途／実績例
【用途】 ■酸化物、窒化物などの薄膜研究 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
カタログ（1）
カタログをまとめてダウンロード
企業情報
JSWアフティ株式会社は、創業以来、NTTグループにてECRプラズマ成膜技術をベースとして発展して参りました。2007年9月より三井造船グループとしてスタート、グループ各社が展開していた半導体およびフラットパネル製造装置事業が弊社に統合されました。2014年4月より日本製鋼所のグループとして新たにスタート、開発から製造販売、アフターサービスまでを一貫して行い、より一層お客様の価値創造に貢献します。これまでに開発・蓄積した技術資源の潜在能力を開花させるとともに、その改良や新しい技術の開発にも注力し、これらを通してお客様・私たち・社会の豊かな未来の実現に向け努力して参ります。