高レート・高信頼性を実現した生産用イオンビームミリング装置
AVP Technology社製イオンビームエッチング装置はICPイオンソースを搭載した高均一・高エッチングレート、かつ稼働再現性・安定性に優れた製造装置です。 他社IBE装置に較べ卓越した制御システムにより、製造設備に必須である安定稼働を実現しています。 最新の駆動機構によりレイテンシー時間を最小限に押さえて生産性を改善しています。
この製品へのお問い合わせ
基本情報
特長 最新設計のグリッドによる8インチ基板への均一なエッチング イオンソース冷却機構の最適化による高レートエッチングの連続運転改善 基板保持部の傾斜機構をダイレクト駆動方式より高速化 最新OSの採用と制御システムの改善による装置安定稼働 他社製プロセスモジュールをドッキングできるフレキシブルなソフトウエア構成
価格帯
納期
用途／実績例
主なアプリケーション ・PZT膜 エッチング・ミリング ・微細加工・パターニング・成形 ・通信およびマイクロ波コンポーネント ・ハードディスクドライブ、MRAM、その他の磁気デバイス ・光学センサー ・MEMS回路とセンサー
詳細情報
-
製品仕様
企業情報
半導体・電子デバイス・光学薄膜製造装置のことなら当社へ 当社は、2016年3月に真空プロセスに関連する世界の先進技術を有する 海外メーカー数社の代理店業務ならびにこれら装置に係わる保守業務を 提供する目的で設立致しました。 当社の取扱製品・装置は、スパッタリング、高密度プラズマソースおよびパルス電源、 イオンビームエッチング・ミリング、イオンビームスパッタリング、 中性クラスターイオンビームプロセス装置、有機材料昇華精製並びに成膜装置、 液体用各種フィルター、洗浄用ブラシなど多岐にわたっています。
