結晶欠陥分析装置(非接触、非破壊式)
ウェハーを割らずにそのままで測定可能です。
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基本情報
結晶欠陥分析装置 SIRM-300は、非接触、非破壊にて結晶欠陥測定が可能な光学測定器です。 様々なバルク特性解析(バルク/半導体ウェハーの表面付近の酸素、金属 堆積物、空乏層、積層欠陥、スリップライン、転位)が可能です。
価格情報
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納期
用途／実績例
- 非破壊なのでサンプルを無駄にしません - ウェハー裏面の状態を問いません - 高ドープウェハーの測定が可能です(epiの場合: 3mΩcm) - パーティクル検出限界: 20nm - 300mmまでのウェハー測定可能 - 自動ウェハー搬送(エッジグリップハンドリング) - レーザーマーキングオプション
企業情報
Semilabは、世界の最先端技術の研究、製造をサポートする総合測定装置メーカーです。 半導体ウェハーからデバイスの検査に、非接触CV測定装置、ライフタイム測定装置、分光エリプソメーター、フォトルミネッセンス、DLTSシステム、シート抵抗測定装置、ナノインデンター、AFMなどを取り扱いしています。 装置の仕様や価格などお気軽にお問合せ下さい。
