製造・加工機械の製品一覧
- 分類：製造・加工機械
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電池の基本概念から、利用目的・実現方法による分類までを体系化。複雑な電池選定の第一歩を、初心者目線で分かりやすくまとめました
- 電池・バッテリー
- 技術書・参考書
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航空宇宙部品の追跡に。高精度マーキングを実現するファイバーレーザーマーカー
- レーザーマーカー
- 樹脂加工機
プレ分散にも最適！ 数グラムの材料から撹拌擂潰可能 手摺りを再現【小型自動乳鉢】 最小サイズでグローブボックスに入ります！
- その他工作機械
- ミキサー・攪拌器
- 微粉砕機
ゼオライト粒子分布の擂潰時間依存性
【概要】 石川工場で生産している石川式撹拌擂潰機の性能を把握するために、 ゼオライトを標準材料として、擂潰時間と粒度分布の関係を実験により明らかにする。 まず、D18S（卓上機）を用いて、ゼオライトの粒度分布と擂潰時間の関係について実験を行った。D18Sで15分、30分、1時間、2時間、4時間と擂潰時間を変化させて、サンプルを2gずつ採取した。 このサンプルをレーザー回折粒子径測定機で粒度分布測定を行った。 【結論】 粒度分布において粒度のピーク値（最頻値）擂潰時間1時間までは0.4μmであった。擂潰時間2時間以降は、0.1μmであった。 粒度のばらつきを表す標準偏差は、擂潰時間が長くなれば小さくなっていた。しかし、2時間以上は飽和し、3μmでほぼ一定となった。 このことから、今回の実験範囲では、D18Sでのゼオライトの粒度分布と擂潰時間の関係は、擂潰時間が長いほど、粒度（最頻値）もばらつき（標準偏差）の小さくなるが、2時間を過ぎると一定となる
ゼオライト粒子分布の擂潰時間依存性
【概要】 石川工場で生産している石川式撹拌擂潰機の性能を把握するために、 ゼオライトを標準材料として、擂潰時間と粒度分布の関係を実験により明らかにする。 まず、D18S（卓上機）を用いて、ゼオライトの粒度分布と擂潰時間の関係について実験を行った。D18Sで15分、30分、1時間、2時間、4時間と擂潰時間を変化させて、サンプルを2gずつ採取した。 このサンプルをレーザー回折粒子径測定機で粒度分布測定を行った。 【結論】 粒度分布において粒度のピーク値（最頻値）擂潰時間1時間までは0.4μmであった。擂潰時間2時間以降は、0.1μmであった。 粒度のばらつきを表す標準偏差は、擂潰時間が長くなれば小さくなっていた。しかし、2時間以上は飽和し、3μmでほぼ一定となった。 このことから、今回の実験範囲では、D18Sでのゼオライトの粒度分布と擂潰時間の関係は、擂潰時間が長いほど、粒度（最頻値）もばらつき（標準偏差）の小さくなるが、2時間を過ぎると一定となる
全固体電池、ファインセラミックス、カーボンナノチューブ、導電性ペーストの撹拌、擂潰、分散、混練、混合に実績。
- その他加工機械
ゼオライト粒子分布の擂潰時間依存性
【概要】 石川工場で生産している石川式撹拌擂潰機の性能を把握するために、 ゼオライトを標準材料として、擂潰時間と粒度分布の関係を実験により明らかにする。 まず、D18S（卓上機）を用いて、ゼオライトの粒度分布と擂潰時間の関係について実験を行った。D18Sで15分、30分、1時間、2時間、4時間と擂潰時間を変化させて、サンプルを2gずつ採取した。 このサンプルをレーザー回折粒子径測定機で粒度分布測定を行った。 【結論】 粒度分布において粒度のピーク値（最頻値）擂潰時間1時間までは0.4μmであった。擂潰時間2時間以降は、0.1μmであった。 粒度のばらつきを表す標準偏差は、擂潰時間が長くなれば小さくなっていた。しかし、2時間以上は飽和し、3μmでほぼ一定となった。 このことから、今回の実験範囲では、D18Sでのゼオライトの粒度分布と擂潰時間の関係は、擂潰時間が長いほど、粒度（最頻値）もばらつき（標準偏差）の小さくなるが、2時間を過ぎると一定となる
ダンボール製品各種をはじめ、包装梱包材各種等、お客様のニーズにお応えした、多彩な製品をラインアップしています！
- 製造受託
- 加工受託
- その他梱包材
大幅なコストカットは、貴社のビジネスのさらなる成長に貢献できるだけでなく、福利厚生や人生を楽しむ余裕にもつながるでしょう
- その他の各種サービス
- その他工作機械
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石川式そば２号は多くの老舗名店でご利用頂いており、小さいそば粉の玉が徐々に大きなそば玉になる理想の水回しを実現します。
- 食品加工装置
- 石材加工機械
- その他食品機械
おいしい手打ちそばの作り方
弊社「そば2号機」を用いて、おいしい手打ちそばの作り方を紹介します。■おいしい手打ちそばの作り方 １． そば粉とつなぎを混ぜておく（十割そばの場合はそば粉のみ） ２． そのそば粉とつなぎをそば2号機に投入する ３． そば2号機回転させる ４． 水を所定量1分程度かけながらゆっくりと入れていく（従来の手打ちで使用する量を入れる） ５． その状態で3分程度こねる ６． そばが完全にひとつにまとまらず、5個程度にまとまりかけた感じで機械を止める。 ７． そば玉を機械から取り出す。 ８． 鉢を使って、１つにまとめる ９． 鉢から板にのせかえて、打ち粉をふる。 １０． 掌（手首に近い方）を使って手のひらで丸くなるように角度を変えながら中央から外に向かってのばす １１． 打ち粉をふって、棒でのばす １２． 四角にのばしたら、折りたたむ １３． 小間板とそば包丁をつかって切る １４． 大きな釜でゆでて、そばの完成
軟膏の混和・混合・練合に加え、薬材の摩砕・撹拌・分散等の調剤・製剤にも多くご利用頂いている石川式自動乳鉢です。
- 食品加工装置
- 微粉砕機
- ミキサー・攪拌器
蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。 高さ570mmトールチャンバー採用 蒸着時の均一性向上に寄与
- 蒸着装置
- スパッタリング装置
- エッチング装置
4元マルチスパッタ装置 【MiniLab-S070】
Φ2inchカソード x 4搭載 同時成膜：3元同時成膜（RF150W or DC780W）+ HiPIMS（PulseDC 5KW） x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリング RIEエッチングステージRF150W（メインチャンバー） + <30Wソフトエッチング（LLチャンバー） 基板加熱：Max500℃, 800℃, 又は1000℃（C/C、又はSiCコート） 基板回転・上下昇降（ステッピングモーター自動制御） APC自動制御：アップストリーム（MFC流量調整）又はダウンストリーム（排気側バルブ自動開度調整） デポレート・膜厚レート制御 寸法：1,120(W) x 800(D) ●抵抗加熱蒸着・有機材料蒸着・EB蒸着・PECVDなどの混在仕様も構成可能です。
・ステンレス鉢採用により、熱応答性が高くなり、急速加熱により処理が可能 ・ステンレスにジルコニアを溶射して磁器鉢同等の処理性能
- その他加工機械
- 濃縮装置
- 微粉砕機
磁器鉢（乳鉢）・磁器杵（乳棒）付の製造機械 化学製品・電子材料に好適！ 鉢の傾斜可能な自動乳鉢
- 食品加工装置
- ミキサー・攪拌器
- 微粉砕機