半導体製造装置の製品一覧

  • 分類:半導体製造装置

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【重量物の取り扱いによる作業負担を軽減!】お客様の課題を解決した導入事例5選を収録!ワークに応じた無料相談、テストも受付中!

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  • その他搬送機械

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JIS・ISO規格の解説資料進呈。豊富な製品シリーズから好適な安全柵をご提案!デモキット無料貸出。

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  • その他安全・衛生用品

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プローブピンの全ピン自動挿入。任意の指定ピン交換も可能。

  • テスタ
  • 半導体検査/試験装置

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完全な水切りが可能!スプレー全幅における驚異的な均等性のあるエアーナイフノズル!

  • その他半導体製造装置
  • ノズル

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出力ch数、その他の出力信号もご要望に応じてカスタマイズ可能!

  • 電流計
  • 試験機器・装置
  • 半導体検査/試験装置

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コンパクトでありながら、高性能。 幅広いプロセスに対応。

  • その他半導体製造装置
  • 加熱装置

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カタログ < SEMICON J ご来場への御礼!>

昨年末 SEMICON J 2022での当社ブースへ、多くのお客様にお越しいただき、誠にありがとうございました。 「 Partner@yourFab 」 をコンセプトに、幅広いソリューションをご紹介しました。皆様のご支援のもと、盛況のまま無事終えることができました。厚く御礼を申し上げます。 開催中に配布いたしました製品カタログを、データとしてご用意しました。ご活用いただけましたら幸いです。

工場の設備増設に伴う純水圧不足や、その変動を、純水昇圧ユニットが解決! 安定した供給を実現します。

  • その他半導体製造装置
  • 流量制御

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昨年末 SEMICON J 2022での当社ブースへ、多くのお客様にお越しいただき、誠にありがとうございました。 「 Partner@yourFab 」 をコンセプトに、幅広いソリューションをご紹介しました。皆様のご支援のもと、盛況のまま無事終えることができました。厚く御礼を申し上げます。 開催中に配布いたしました製品カタログを、データとしてご用意しました。ご活用いただけましたら幸いです。

コンパクトな設計のマニュアル式オートアライメント露光装置(マスクアライナ)です。

  • その他半導体製造装置

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Ø2”~6”対応全自動露光装置(マスクアライナ)

  • その他半導体製造装置

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Ø200mm Ø300mm対応露光装置(マスクアライナ)

  • その他半導体製造装置

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精密洗浄に適する高い周波数洗浄機(500kHz、1MHzHz)----<<テスト機レンタル(有償)、お問い合わせください>>

  • その他半導体製造装置

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製品構造確認など幅広いニーズに対応!不良品解析に役立つサービスをご紹介

  • 半導体検査/試験装置
  • 解析サービス
  • LEDモジュール

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使用材料別の放熱特性を比較!過渡熱抵抗測定を行った事例をご紹介

  • 半導体検査/試験装置
  • 基板設計・製造
  • LEDモジュール

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陽極接合装置

  • 油圧機器
  • 造粒装置
  • その他半導体製造装置

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物理的・電気的なダメージを与えることなくパッケージの除去が可能!高選択性のエッチング

  • エッチング装置
  • 超音波洗浄機
  • 乾燥機器

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フロー管理システムが搭載!粉体へも高温でのCVD/PECVDによる処理が可能

  • CVD装置

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多彩なプラズマソースが搭載可能!CVD、MOCVDやALD装置をカスタマイズ設計

  • CVD装置

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放射性汚染を最小限に抑制!用途に応じたプラズマ励起技術を提案可能

  • イオン注入装置

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KrFエキシマレーザを使用した次世代パッケージ基板への微細加工技術をご提案します!

  • その他半導体製造装置

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金属、誘電及び有機膜成膜!熱蒸着装置をご紹介

  • 蒸着装置

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最大成膜温度は800℃!チャンバー加熱機構で最大4x DLI気化器を搭載可能

  • CVD装置

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ランプ加熱式の為にRTP、RTCVD処理可能!クオーツ製チューブ型チャンバー

  • アニール炉

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ターボポンプ搭載可能!低温(1100℃)/高温(1300℃)パイロメーター

  • アニール炉

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最大156mm×156mm基板対応!真空又は大気搬送装置及びロードロック搭載可能

  • アニール炉

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アニール処理後急速冷却機構!Annealsys社の高速熱処理装置をご紹介

  • アニール炉

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SI 500-1M、SI 500 PPD-1Mなど搭載可能!搬送チャンバーは3種類から

  • CVD装置

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ICPパワーによるイオン密度の制御!低温成膜、低ダメージ、高コンフォマリティーを実現

  • CVD装置

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高選択性エッチング!ICPソースと基板電極間の間隔調整によるラジカル供給の最適化

  • その他半導体製造装置

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トップクラスのスループット!柔軟性のあるモジュール化されたデザイン

  • その他半導体製造装置

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量産に必要な多くの安全対策仕様!コンパクトな装置サイズで成膜温度50~285℃

  • その他半導体製造装置

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500℃ウエハステージ!プラズマダメージの無いリモートICPソース採用

  • その他半導体製造装置

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研究開発用、小規模バッチ用!簡易除害ユニットALD Shield Vapor Trap標準搭載

  • その他半導体製造装置

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