半導体製造装置の製品一覧

  • 分類:半導体製造装置

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【重量物の取り扱いによる作業負担を軽減!】お客様の課題を解決した導入事例5選を収録!ワークに応じた無料相談、テストも受付中!

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  • その他搬送機械

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JIS・ISO規格の解説資料進呈。豊富な製品シリーズから好適な安全柵をご提案!デモキット無料貸出。

  • Satech - AdaptaGuard_Ipros_2023_JP_1.jpg
  • Satech - BlueGuard_Ipros_2023_JP_1.jpg
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  • Satech - EasyGuard_Ipros_2023_JP_Media-gallery_1.jpg
  • Satech - ImpactGuard_Ipros_2023_JP_Media-gallery_2.jpg
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  • Satech - BlueGuard_Ipros_2023_JP_Media-gallery_2.jpg
  • その他安全・衛生用品

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小型・省スペース! 有機薄膜開発に好適 蒸着・スパッタ・アニール等全ての作業をグローブボックス内でシームレスに行う事ができます。

  • 蒸着装置

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nanoPVD-S10Aスパッタ装置 標準規格品登場!従来よりお求めやすい価格・短納期でご提供可能になりました。

標準 在庫規格品、従来よりお求めやすい低価格・短納期でのご提供が可能になりました。 *下記構成に限ります。又、在庫状況も変わりますので詳細は当社までお問い合わせください。 【nanoPVD-S10A標準構成仕様】 ● 基板ステージ:Φ4inch、基板シャッター付 ● 最高到達圧力:5 x 10-5 Pa(10-3paまで10分、10-4paまで20分以内) ● 2"マグネトロンカソード x 2:自動連続多層膜, 2源同時成膜(RF/DCのみ) ● RF150W、DC780W 電源搭載 ● プロセスガス3系統(Ar, O2, N2) ● 主排気TMP、粗挽RP(*ドライポンプ オプション) ● Windows PCリモートソフトウエア"IntelliLink"付属:システムライブモニター、最大1000layer, 50filmのレシピを作成・保存。PCでデータロギング ● 水晶振動子膜厚センサ付属 【主な用途】 ・酸化膜、絶縁膜 ・金属・合金、導電性膜 ・化合物、反応性膜、他 【オプション】 ◉ 基板加熱ヒーター500℃、磁性材用カソード、ドライスクロールポンプ、など

2台の薄膜実験装置をロードロック機構で連結。異なる成膜装置(スパッタ、蒸着、など)をロードロックでシームレスに連結

  • スパッタリング装置
  • 蒸着装置
  • エッチング装置

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ウエハーアニール装置【ANNEAL】Max1000℃ APC自動圧力制御 MFC x3系統 Φ4〜6inch基板対応

Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"〜最大6"基板対応、 高真空アニール装置(<5 × 10-7 mbar) [ANNEAL]は、ウエハー等の基板を安定したプロセス雰囲気にて高温熱処理が可能な研究開発用アニール装置です。 高真空水冷式SUSチャンバー内に設置した加熱ステージにより最高1000℃までの高温処理が可能です。チャンバー内にはヒートシールドが設置されインターロックにて安全を確保。マスフローコントローラは最大3系統まで増設が可能、精密に調整されたプロセスガス圧力での焼成作業が可能です(APC自動プロセス制御システムオプション)。 又、フロントビューポート、ドライスクロールポンプ、特殊基板ホルダー、熱電対増設、などオプションも豊富。 チャンバー内加熱ステージは、プロセスガス雰囲気・処理温度により3種類のバリエーションがあります。 ・ハロゲンランプヒーター:Max500℃ ・C/Cコンポジットヒーター:Max1000℃(真空中、不活性ガスのみ) ・SiCコーティングヒーター:Max1000℃(真空、不活性ガス、O2)

蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。 高さ570mmトールチャンバー採用 蒸着時の均一性向上に寄与

  • 蒸着装置
  • スパッタリング装置
  • エッチング装置

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ML-S125-iPROS_550-1.jpg

多元マルチスパッタリング装置【MiniLab-125】Φ8"対応 SiCコーティング 1000℃ヒーターステージ 搭載!コンパクトサイズ!

多元マルチスパッタリング装置(Φ8inch基板対応) ・3元同時成膜 + 1元PulseDCスパッタ ・RF500W, DC850W両電源を3元カソード(Source1, 2, 3)へ自在に配置変更 ・5KW PulseDC電源も搭載 → 専用カソード(4)で使用 ・基板加熱ステージ Max800℃(SiCコーティングヒーターでMax1000℃も可能) ・MFC x 3系統(Ar, O2, N2)反応性スパッタリング ・メインチャンバー RIEエッチングステージRF300W ・LLチャンバー <30W 低出力制御ソフトエッチング ・独自の"Soft-Ething"技術で基板バイアスにより基板のダメージを軽減 ・タッチパネル又はWindows PC操作:操作が分散せず、全ての操作をタッチパネル/PCで行うことができます。 ・装置設置寸法:1,960(W) x 1,100(D) x 1,700(H)mm ・マルチチャンバー式も製作可能です。 ●抵抗加熱蒸着・有機材料蒸着・EB蒸着・PECVDなどの混在仕様も構成可能です。

【ホットウオール式熱CVD装置】基礎研究に最適なコンパクトサイズ高性能CVD装置

  • CVD装置
  • アニール炉
  • 加熱装置

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nanoPVD-S10Aスパッタ装置 標準規格品登場!従来よりお求めやすい価格・短納期でご提供可能になりました。

標準 在庫規格品、従来よりお求めやすい低価格・短納期でのご提供が可能になりました。 *下記構成に限ります。又、在庫状況も変わりますので詳細は当社までお問い合わせください。 【nanoPVD-S10A標準構成仕様】 ● 基板ステージ:Φ4inch、基板シャッター付 ● 最高到達圧力:5 x 10-5 Pa(10-3paまで10分、10-4paまで20分以内) ● 2"マグネトロンカソード x 2:自動連続多層膜, 2源同時成膜(RF/DCのみ) ● RF150W、DC780W 電源搭載 ● プロセスガス3系統(Ar, O2, N2) ● 主排気TMP、粗挽RP(*ドライポンプ オプション) ● Windows PCリモートソフトウエア"IntelliLink"付属:システムライブモニター、最大1000layer, 50filmのレシピを作成・保存。PCでデータロギング ● 水晶振動子膜厚センサ付属 【主な用途】 ・酸化膜、絶縁膜 ・金属・合金、導電性膜 ・化合物、反応性膜、他 【オプション】 ◉ 基板加熱ヒーター500℃、磁性材用カソード、ドライスクロールポンプ、など

スパッタカソード・蒸着ソース混在型薄膜実験装置 コンパクトフレームに金属蒸着・有機蒸着・スパッタカソードを設置

  • スパッタリング装置
  • 蒸着装置
  • アニール炉

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ウエハーアニール装置【ANNEAL】Max1000℃ APC自動圧力制御 MFC x3系統 Φ4〜6inch基板対応

Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"〜最大6"基板対応、 高真空アニール装置(<5 × 10-7 mbar) [ANNEAL]は、ウエハー等の基板を安定したプロセス雰囲気にて高温熱処理が可能な研究開発用アニール装置です。 高真空水冷式SUSチャンバー内に設置した加熱ステージにより最高1000℃までの高温処理が可能です。チャンバー内にはヒートシールドが設置されインターロックにて安全を確保。マスフローコントローラは最大3系統まで増設が可能、精密に調整されたプロセスガス圧力での焼成作業が可能です(APC自動プロセス制御システムオプション)。 又、フロントビューポート、ドライスクロールポンプ、特殊基板ホルダー、熱電対増設、などオプションも豊富。 チャンバー内加熱ステージは、プロセスガス雰囲気・処理温度により3種類のバリエーションがあります。 ・ハロゲンランプヒーター:Max500℃ ・C/Cコンポジットヒーター:Max1000℃(真空中、不活性ガスのみ) ・SiCコーティングヒーター:Max1000℃(真空、不活性ガス、O2)

静電場、静磁場内のイオン軌道、誘電体、電極、導体、コイル、磁石、磁性体、空間電化を考慮する!

  • 電子ビーム描画装置

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  • 電子ビーム描画装置

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  • 電子ビーム描画装置

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  • 電子ビーム描画装置

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安心のCEマーキング適合品!超低速ディップコーターで品質と信頼を

  • その他半導体製造装置
  • 表面処理受託サービス
  • その他表面処理装置

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研磨PAD修正の必須アイテム「超軽量DP付修正キャリア」のギモンにお答えします

  • ウエハ加工/研磨装置

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ナノマテリアル(金属ナノ粒子、ナノワイヤー、ナノシート、ナノエレクトロニクス用材料)用薄膜の成膜に好適!

  • スパッタリング装置

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航空宇宙工学用光学膜、医療・バイオ用光学膜用ハイエンドスパッタリングプロセスが可能!

  • スパッタリング装置

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研究開発及び小規模生産用イオンビームスパッタリング装置!

  • スパッタリング装置

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DCパルススパッタリングが可能(導電性ターゲット使用した絶縁膜のリアクティブスパッタ)!

  • スパッタリング装置

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量産および試作開発で優れた高精度搭載精度を発揮。 ※ボンディングに関する技術資料を配布中

  • その他半導体製造装置

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シングルチャンバーで各種洗浄からスピン乾燥まで完結。省スペース設計で研究開発や小ロット生産に対応

  • その他半導体製造装置

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スプレー上下にそれぞれ圧力計を搭載した小型エッチングマシン!

  • エッチング装置

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ステンレス材質のスタンドやベースを使用することで機械腐食を軽減し長期安定稼働を実現します。

  • ウエハ加工/研磨装置

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研磨PADの修正に当たり前のように使っているDP付修正キャリアですが、実はおおきなデメリットもあります。それが何かわかりますか?

  • ウエハ加工/研磨装置

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研磨の基本は研磨パッドの精度の維持管理です。次のような症状が見られたら危険です。

  • ウエハ加工/研磨装置

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研磨ではパッドの精度管理が重要ですが、PADの種類を考慮した修正キャリアを使ってますか?カスタムすると精度管理も楽になります。

  • ウエハ加工/研磨装置
  • ミラー
  • フォトマスク

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開発期間の短縮・コストメリットに!複雑形状組付品の一体化や中空化、肉抜き造形による部品の軽量化・材料ロスにも繋がるメリットを紹介

  • その他半導体製造装置

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太陽電池や有機デバイス、バイオ系の用途に!蒸着装置の総合カタログプレゼント!

  • 蒸着装置

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有機ELデバイス開発などに適した研究開発用装置を紹介します。

  • 蒸着装置

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E-100の特徴をそのままに自動排気制御の機能を省きコストを抑えてます

  • 蒸着装置

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真空蒸着中に光学特性をリアルタイムに測定できるエリプソメトリー用蒸着装置

  • 蒸着装置

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当社独自のノズル配置とオシレーション機構により高精度にムラなくエッチングが可能!

  • エッチング装置

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不良検出の時間が早く、より視認性の高く、チップへの傷への配慮が成された半導体用コレット

  • その他半導体製造装置

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左右アサリ有り研磨可能!サーボモーターを使用している側面研磨機

  • ウエハ加工/研磨装置

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回転機構標準装備のUV照射装置『TTUV011』3Dプリンタ追露光、塗装やコーティング硬化、ダイシングテープ剥離など

  • その他半導体製造装置

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すべての工程を一貫して管理!品質保証体制も充実していますので、安心してご依頼いただけます

  • その他切削工具
  • 研削盤
  • ウエハ加工/研磨装置

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SB16-R-G、SS327-5AX、NN-25UB8K、NN-20J2など、多数の製造設備を保有!

  • その他切削工具
  • 研削盤
  • ウエハ加工/研磨装置

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長年培った技術と知見・管理体制により、安定した高精度の研削加工を実現!

  • 油圧機器
  • ウエハ加工/研磨装置
  • バルブ

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シール類、高機能フィルム、電子部分や自動車部品、パッキンなどの打ち抜きに最適。

  • その他半導体製造装置

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ゴム製品などの樹脂製品の切断に適しています。 機械用刃物のご相談、お見積りはアルスへ。

  • その他半導体製造装置

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生産能率アップ! 超硬メタルソーでコスト削減も!

  • その他半導体製造装置

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超々微粒合金による超硬丸ナイフなど、さまざまな業界で当社提案の産業用刃物を導入して頂いています。

  • 超硬丸ナイフ.jpg
  • その他半導体製造装置

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ASMPT社は、シンガポールに本拠地を置いている後工程装置メーカーです。

  • ボンディング装置
  • その他半導体製造装置
  • ウエハ加工/研磨装置

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取り外し可能な受け皿は、掃除が簡単で、排水口に流されなかったゴミも容易に回収可能!

  • ウエハ加工/研磨装置

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『研磨機』なら当社にお任せください!

  • ウエハ加工/研磨装置

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良好な絶縁膜形成を実現するバイアススパッタリング装置!

  • スパッタリング装置

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最大サイズ1,200mm×3,600mmまで製作可能 ガラス/樹脂どちらでも製作可能

  • 半導体検査/試験装置
  • その他理化学機器
  • その他

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各工程の手作業から半自動・自動化への問題解決なら当社にお任せ!

  • その他半導体製造装置
  • その他検査機器・装置
  • ディスペンサー

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