分析機器の製品一覧

  • 分類:分析機器

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100万回繰り返しても壊れない!確実動作と高耐久性・低価格のマットスイッチ。工作機械のオプションなどにも。納期ご相談ください。

  • センサ

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直径30mm程度から8インチ、高ライフタイム、1万オームを超えるような高抵抗も対応可能!薄化、チップ加工もアレンジいたします!

  • その他半導体
  • 加工受託
  • ウエハー

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LED単体から照明器具まで幅広い光源の全光束測定が可能

  • 積分半球の特長図.jpg
  • 全球1.jpg
  • 分析機器・装置

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【2026年12月9日(水)~11日(金)】「SEMICON Japan」出展のお知らせ

当社は、東京ビッグサイトで開催される「SEMICON Japan」に出展いたします。 半導体製造プロセスからアプリケーションまでを網羅し、先進技術を体験できます。 大塚電子では、ラインスキャンのモックアップ、スマート膜厚計などを展示予定。 ぜひ当社ブースにて実機をお近くでご覧ください。 皆様のご来場をお待ちしております。

IESNAのLM-79とLM-80に準拠した測定システム!分光全放射束測定の様々な要望に対応

  • 分光全放射束測定システム2.png
  • 分光全放射束測定システム3.png
  • 分光分析装置

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【2026年12月9日(水)~11日(金)】「SEMICON Japan」出展のお知らせ

当社は、東京ビッグサイトで開催される「SEMICON Japan」に出展いたします。 半導体製造プロセスからアプリケーションまでを網羅し、先進技術を体験できます。 大塚電子では、ラインスキャンのモックアップ、スマート膜厚計などを展示予定。 ぜひ当社ブースにて実機をお近くでご覧ください。 皆様のご来場をお待ちしております。

ゼータ電位・粒子径・分子量測定システムを用いたDDSナノ材料リポソームの評価

  • リポソームの粒子径分布.jpg
  • DDSナノ材料リポソームのゼータ電位評価.jpg
  • 分析機器・装置

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【2026年12月9日(水)~11日(金)】「SEMICON Japan」出展のお知らせ

当社は、東京ビッグサイトで開催される「SEMICON Japan」に出展いたします。 半導体製造プロセスからアプリケーションまでを網羅し、先進技術を体験できます。 大塚電子では、ラインスキャンのモックアップ、スマート膜厚計などを展示予定。 ぜひ当社ブースにて実機をお近くでご覧ください。 皆様のご来場をお待ちしております。

インラインフィルム評価システムは、光学式のため非接触・非破壊で反射率、色などの測定が可能

  • インラインMCPD_トラバース.jpg
  • 171003_MCPD-9800_2 のコピー.jpg
  • 分光分析装置

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【2026年12月9日(水)~11日(金)】「SEMICON Japan」出展のお知らせ

当社は、東京ビッグサイトで開催される「SEMICON Japan」に出展いたします。 半導体製造プロセスからアプリケーションまでを網羅し、先進技術を体験できます。 大塚電子では、ラインスキャンのモックアップ、スマート膜厚計などを展示予定。 ぜひ当社ブースにて実機をお近くでご覧ください。 皆様のご来場をお待ちしております。

光干渉法の採用により、非接触・非破壊膜厚で膜厚測定が可能

  • インラインMCPD_トラバース.jpg
  • 171003_MCPD-9800_2 のコピー.jpg
  • 分光分析装置

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【2026年12月9日(水)~11日(金)】「SEMICON Japan」出展のお知らせ

当社は、東京ビッグサイトで開催される「SEMICON Japan」に出展いたします。 半導体製造プロセスからアプリケーションまでを網羅し、先進技術を体験できます。 大塚電子では、ラインスキャンのモックアップ、スマート膜厚計などを展示予定。 ぜひ当社ブースにて実機をお近くでご覧ください。 皆様のご来場をお待ちしております。

インラインフィルム評価システムは、光学式のため非接触・非破壊で透過率、吸光度、色などの測定が可能

  • インラインMCPD_多点測定.jpg
  • 171003_MCPD-9800_2 のコピー.jpg
  • 分光分析装置

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光源や照明器具の配光特性を測定する装置です 

  • 分析機器・装置

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広ダイナミックレンジ!高速・高再現性、軽量・コンパクトが特長的 

  • 1.png
  • 分光分析装置

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反射対物レンズが実現する透明基板の高精度測定

  • 反射対物レンズが実現する透明基板の高精度測定.jpg
  • 分析機器・装置

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薄膜から厚膜まで高精度に測定が可能な顕微分光膜厚計『OPTM』

  • 膜厚値違いによる反射率の変化.jpg
  • 分析機器・装置

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複数点同一解析を用いた nk 未知の極薄膜の測定

  • 複数点同一解析を用いた nk 未知の極薄膜の測定.jpg
  • 分析機器・装置

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反射分光膜厚計『OPTM』を用いた絶縁膜の膜厚測定

  • SiO2 SiNの膜厚測定.jpg
  • 分析機器・装置

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屈折率の波長分散性を考慮した厚膜解析

  • 屈折率の波長分散性を考慮した厚膜解析.jpg
  • 分析機器・装置

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