電気炉の製品一覧
- 分類：電気炉
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大阪空気機械製T型トラップの代替品・油回転・水封式真空ポンプの保護装置
- 真空ポンプ
《数千個/月の量産OK》ロボットで塗装を行うので再現性と安定した品質を実現！コストダウンのご提案も可能。
- アルミニウム
電気式加熱・乾燥システムを生産現場に活かし、脱炭素化に貢献！ 照射効率95％で生産性が向上
- その他ヒータ
- 加熱装置
- 電気炉
電気炉、ヒータなどの温度制御をはじめ、照明の調光、交流安定化電源などに幅広く使用されています。
- 電気炉
- その他照明器具
- 放電加工機
非磁性加熱源を採用で、磁場中での高温熱処理が可能！熱処理後に雰囲気をキープしたまま冷却チャンバにに移動しガス冷却することが可能！
- 電気炉
1100℃まで昇温可能な高温雰囲気熱処理炉！真空及びガス置換雰囲気下での熱処理に対応し！高温焼成及び溶融、ガス分析に！
- 電気炉
耐久性・耐熱性に優れ、アルミ保持炉のタップコーンやライザースリーブなど、用途に応じて様々な形状に対応！
- 電気炉
活性酸素でプラスチック、発泡スチロール、ウレタン、フィルム等を1/300の灰に分解処理し産廃費を大幅削減する中型機ポラリス1.0
- その他環境機器
- 電気炉
- プラズマ発生装置
火を使わず、活性酸素だけでプラごみ、石油製品、医療廃棄物等廃棄物を1/300の灰に分解処理し産廃費大幅削減可能なポラリス3.0
- その他環境機器
- 電気炉
- プラズマ発生装置
火を使わず活性酸素だけで、廃棄物を分解処理し1/300の灰にし、産廃処理費用を大幅削減出来る、環境に優しい活性酸素分解処理装置ポラリス
活性酸素は地球上で最も酸化能力が高い物質です。人間が呼吸する際に、細菌やウイルスを瞬間的に殺菌・分解するのが活性酸素です。しかし一瞬で消滅してしまいます。もしも、長時間保ったり、必要以上に発生してしまうと、脳や体の細胞を破壊するため、地球上の生命体は消滅してしまうほどの高い酸化作用を持っています。活性酸素は強い酸化作用だけではなく、有機物を短時間で乾燥させる能力も持っています。その活性酸素を有効活用する方法はこれまで世界中で有りませんでした。日本の技術開発会社が、世界で初めて人工的に活性酸素を発生させる画期的な技術を発明し、その活性酸素発生装置を使った、強い乾燥能力を持った有機廃棄物分解処理装置Polarisを発売しました。 その技術を発明した同社代表は、2022年４月に旭日単光章を叙勲授与されました。 ポラリスは、火を使わず活性酸素だけで分解処理可能で、低温でプラスチック、発泡スチロール、ウレタン、フィルム等固体有機物分解処理を可能です。ポラリスを使うと、工場から出る廃棄物の産廃処理費用の大幅削減が可能です。 Polarisは火を使わないため、火気厳禁の場所では安全安心でお使いになれます。
活性酸素でプラスチック、発泡スチロール、ウレタン、フィルム等を1/300の灰に分解処理し産廃費を大幅削減する小型機ポラリス0.5
- その他環境機器
- 電気炉
- プラズマ発生装置
火を使わず活性酸素だけで、廃棄物を分解処理し1/300の灰にし、産廃処理費用を大幅削減出来る、環境に優しい活性酸素分解処理装置ポラリス
活性酸素は地球上で最も酸化能力が高い物質です。人間が呼吸する際に、細菌やウイルスを瞬間的に殺菌・分解するのが活性酸素です。しかし一瞬で消滅してしまいます。もしも、長時間保ったり、必要以上に発生してしまうと、脳や体の細胞を破壊するため、地球上の生命体は消滅してしまうほどの高い酸化作用を持っています。活性酸素は強い酸化作用だけではなく、有機物を短時間で乾燥させる能力も持っています。その活性酸素を有効活用する方法はこれまで世界中で有りませんでした。日本の技術開発会社が、世界で初めて人工的に活性酸素を発生させる画期的な技術を発明し、その活性酸素発生装置を使った、強い乾燥能力を持った有機廃棄物分解処理装置Polarisを発売しました。 その技術を発明した同社代表は、2022年４月に旭日単光章を叙勲授与されました。 ポラリスは、火を使わず活性酸素だけで分解処理可能で、低温でプラスチック、発泡スチロール、ウレタン、フィルム等固体有機物分解処理を可能です。ポラリスを使うと、工場から出る廃棄物の産廃処理費用の大幅削減が可能です。 Polarisは火を使わないため、火気厳禁の場所では安全安心でお使いになれます。
カーボンニュートラル対策・省エネ提案
カーボンニュートラルの実現に向けた省エネ提案を公開しました。 高騰する燃料費の削減案としてご検討ください。 ※詳細は下記「関連製品情報」よりご確認ください。
有機蒸着源〜800℃、金属蒸着源〜1500℃、真空用 高温加熱セルとしても使用できる高性能真空蒸着ソースです。
- 蒸着装置
- 加熱装置
- 電気炉
BHシリーズ【UHV対応 超高温 真空薄膜実験用基板加熱ヒーター】Max1800℃
高真空対応 多彩なヒーター材質オプション。 PVD（スパッタ、蒸着、EB等）、高温真空アニール、高温解析用基板ステージ、などに応用いただけます。 様々なご要望仕様にカスタムメイド対応致します。 【特徴】 ● 予備ヒーター素線との交換が容易 ●設置、メンテナンスが容易（M6スタッドボルト、支柱） 【対応基板サイズ】 ◉ Φ1inch〜Φ6inch 【標準付属品】 ● 熱電対：素線タイプ アルミナ絶縁スリーブ付き ● 取付用スタッドボルト 【オプション】 ● 標準外ヒーター素線（Nb, Mo, Pt/Re, WRe他） ● 基板保持クリップ ● 取付ブラケット ● 基板ホルダー ● ホルダー設置用タップ穴加工 ● トッププレート材質変更（PBN, 石英, カーボン, Inconel, 他） ● 過昇温用追加熱電対 ● ベースフランジ、真空導入端子
Φ6〜8inch超高温ウエハーアニール装置 研究開発から小規模生産まで多目的に幅広く対応するハイパフォーマンス機
- アニール炉
- 加熱装置
- 電気炉
多元マルチスパッタリング装置【MiniLab-125】Φ8"対応 SiCコーティング 1000℃ヒーターステージ 搭載！コンパクトサイズ！
多元マルチスパッタリング装置（Φ8inch基板対応） ・3元同時成膜 + 1元PulseDCスパッタ ・RF500W, DC850W両電源を3元カソード（Source1, 2, 3）へ自在に配置変更 ・5KW PulseDC電源も搭載 → 専用カソード（4）で使用 ・基板加熱ステージ Max800℃（SiCコーティングヒーターでMax1000℃も可能） ・MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリング ・メインチャンバー RIEエッチングステージRF300W ・LLチャンバー ＜30W 低出力制御ソフトエッチング ・独自の"Soft-Ething"技術で基板バイアスにより基板のダメージを軽減 ・タッチパネル又はWindows PC操作：操作が分散せず、全ての操作をタッチパネル/PCで行うことができます。 ・装置設置寸法：1,960(W) x 1,100(D) x 1,700(H)mm ・マルチチャンバー式も製作可能です。 ●抵抗加熱蒸着・有機材料蒸着・EB蒸着・PECVDなどの混在仕様も構成可能です。
最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉（カーボン炉、タングステンメタル炉） 小型・省スペース実験炉
- 加熱装置
- アニール炉
- 電気炉
多元マルチスパッタリング装置【MiniLab-125】Φ8"対応 SiCコーティング 1000℃ヒーターステージ 搭載！コンパクトサイズ！
多元マルチスパッタリング装置（Φ8inch基板対応） ・3元同時成膜 + 1元PulseDCスパッタ ・RF500W, DC850W両電源を3元カソード（Source1, 2, 3）へ自在に配置変更 ・5KW PulseDC電源も搭載 → 専用カソード（4）で使用 ・基板加熱ステージ Max800℃（SiCコーティングヒーターでMax1000℃も可能） ・MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリング ・メインチャンバー RIEエッチングステージRF300W ・LLチャンバー ＜30W 低出力制御ソフトエッチング ・独自の"Soft-Ething"技術で基板バイアスにより基板のダメージを軽減 ・タッチパネル又はWindows PC操作：操作が分散せず、全ての操作をタッチパネル/PCで行うことができます。 ・装置設置寸法：1,960(W) x 1,100(D) x 1,700(H)mm ・マルチチャンバー式も製作可能です。 ●抵抗加熱蒸着・有機材料蒸着・EB蒸着・PECVDなどの混在仕様も構成可能です。
最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉（カーボン炉、タングステンメタル炉） 小型・省スペース実験炉
- 加熱装置
- アニール炉
- 電気炉
多元マルチスパッタリング装置【MiniLab-125】Φ8"対応 SiCコーティング 1000℃ヒーターステージ 搭載！コンパクトサイズ！
多元マルチスパッタリング装置（Φ8inch基板対応） ・3元同時成膜 + 1元PulseDCスパッタ ・RF500W, DC850W両電源を3元カソード（Source1, 2, 3）へ自在に配置変更 ・5KW PulseDC電源も搭載 → 専用カソード（4）で使用 ・基板加熱ステージ Max800℃（SiCコーティングヒーターでMax1000℃も可能） ・MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリング ・メインチャンバー RIEエッチングステージRF300W ・LLチャンバー ＜30W 低出力制御ソフトエッチング ・独自の"Soft-Ething"技術で基板バイアスにより基板のダメージを軽減 ・タッチパネル又はWindows PC操作：操作が分散せず、全ての操作をタッチパネル/PCで行うことができます。 ・装置設置寸法：1,960(W) x 1,100(D) x 1,700(H)mm ・マルチチャンバー式も製作可能です。 ●抵抗加熱蒸着・有機材料蒸着・EB蒸着・PECVDなどの混在仕様も構成可能です。
真空用 高温るつぼ加熱ヒーター。有機蒸着源 800℃、金属蒸着源 1500℃、としても利用できるバーサタイルなヒーターユニット
- 蒸着装置
- 加熱装置
- 電気炉
BHシリーズ【UHV対応 超高温 真空薄膜実験用基板加熱ヒーター】Max1800℃
高真空対応 多彩なヒーター材質オプション。 PVD（スパッタ、蒸着、EB等）、高温真空アニール、高温解析用基板ステージ、などに応用いただけます。 様々なご要望仕様にカスタムメイド対応致します。 【特徴】 ● 予備ヒーター素線との交換が容易 ●設置、メンテナンスが容易（M6スタッドボルト、支柱） 【対応基板サイズ】 ◉ Φ1inch〜Φ6inch 【標準付属品】 ● 熱電対：素線タイプ アルミナ絶縁スリーブ付き ● 取付用スタッドボルト 【オプション】 ● 標準外ヒーター素線（Nb, Mo, Pt/Re, WRe他） ● 基板保持クリップ ● 取付ブラケット ● 基板ホルダー ● ホルダー設置用タップ穴加工 ● トッププレート材質変更（PBN, 石英, カーボン, Inconel, 他） ● 過昇温用追加熱電対 ● ベースフランジ、真空導入端子
Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"、又は6"基板対応、 高真空アニール装置（<5 × 10-7 mbar）
- アニール炉
- 加熱装置
- 電気炉
多元マルチスパッタリング装置【MiniLab-125】Φ8"対応 SiCコーティング 1000℃ヒーターステージ 搭載！コンパクトサイズ！
多元マルチスパッタリング装置（Φ8inch基板対応） ・3元同時成膜 + 1元PulseDCスパッタ ・RF500W, DC850W両電源を3元カソード（Source1, 2, 3）へ自在に配置変更 ・5KW PulseDC電源も搭載 → 専用カソード（4）で使用 ・基板加熱ステージ Max800℃（SiCコーティングヒーターでMax1000℃も可能） ・MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリング ・メインチャンバー RIEエッチングステージRF300W ・LLチャンバー ＜30W 低出力制御ソフトエッチング ・独自の"Soft-Ething"技術で基板バイアスにより基板のダメージを軽減 ・タッチパネル又はWindows PC操作：操作が分散せず、全ての操作をタッチパネル/PCで行うことができます。 ・装置設置寸法：1,960(W) x 1,100(D) x 1,700(H)mm ・マルチチャンバー式も製作可能です。 ●抵抗加熱蒸着・有機材料蒸着・EB蒸着・PECVDなどの混在仕様も構成可能です。
卓上小型サイズ実験炉・省スペース 最高使用温度2000℃！ 還元雰囲気用メタル炉も製作致します。
- 加熱装置
- 電気炉
- アニール炉
多元マルチスパッタリング装置【MiniLab-125】Φ8"対応 SiCコーティング 1000℃ヒーターステージ 搭載！コンパクトサイズ！
多元マルチスパッタリング装置（Φ8inch基板対応） ・3元同時成膜 + 1元PulseDCスパッタ ・RF500W, DC850W両電源を3元カソード（Source1, 2, 3）へ自在に配置変更 ・5KW PulseDC電源も搭載 → 専用カソード（4）で使用 ・基板加熱ステージ Max800℃（SiCコーティングヒーターでMax1000℃も可能） ・MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリング ・メインチャンバー RIEエッチングステージRF300W ・LLチャンバー ＜30W 低出力制御ソフトエッチング ・独自の"Soft-Ething"技術で基板バイアスにより基板のダメージを軽減 ・タッチパネル又はWindows PC操作：操作が分散せず、全ての操作をタッチパネル/PCで行うことができます。 ・装置設置寸法：1,960(W) x 1,100(D) x 1,700(H)mm ・マルチチャンバー式も製作可能です。 ●抵抗加熱蒸着・有機材料蒸着・EB蒸着・PECVDなどの混在仕様も構成可能です。
テルモセラ・ジャパン研究開発用実験炉を紹介。燃料電池・セラミックス等の材料開発・黒鉛・等の超高温実験に活用頂けます。
- 電気炉
BHシリーズ【UHV対応 超高温 真空薄膜実験用基板加熱ヒーター】Max1800℃
高真空対応 多彩なヒーター材質オプション。 PVD（スパッタ、蒸着、EB等）、高温真空アニール、高温解析用基板ステージ、などに応用いただけます。 様々なご要望仕様にカスタムメイド対応致します。 【特徴】 ● 予備ヒーター素線との交換が容易 ●設置、メンテナンスが容易（M6スタッドボルト、支柱） 【対応基板サイズ】 ◉ Φ1inch〜Φ6inch 【標準付属品】 ● 熱電対：素線タイプ アルミナ絶縁スリーブ付き ● 取付用スタッドボルト 【オプション】 ● 標準外ヒーター素線（Nb, Mo, Pt/Re, WRe他） ● 基板保持クリップ ● 取付ブラケット ● 基板ホルダー ● ホルダー設置用タップ穴加工 ● トッププレート材質変更（PBN, 石英, カーボン, Inconel, 他） ● 過昇温用追加熱電対 ● ベースフランジ、真空導入端子
断熱技術のイソライト工業の高温用ウエットタイプ不定形耐火断熱材。ＲＣＦ規制対象外。
- セラミックス
- 工業炉
- 電気炉
