ウエハーの製品一覧

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【重量物の取り扱いによる作業負担を軽減!】お客様の課題を解決した導入事例5選を収録!ワークに応じた無料相談、テストも受付中!

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ミクロンダイヤモンドパウダー、工業ダイヤモンドパウダー

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化粧品のテクスチャ評価を、1台で全て可能にするシステム

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細胞の特性をナノレベルで測定するシステム

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航空宇宙分野のコーティング評価に。必要なものを1台で全て可能にするシステム

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生体材料のナノメカニカル特性を一台で測定

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半導体製造プロセスの工程と品質管理に欠かせない分析法

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プロセス分析計 / オンライン分析計でCMT工程における過酸化水素の濃度を常時モニタリング!

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ウエハ用洗浄槽の水酸化アンモニウム、過酸化水素、塩酸の同時分析をインライン近赤外分析計でモニタリング!

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ESDプロテクションの豊富なTVS製品ラインアップ

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硫酸銅めっき浴やスズ/鉛浴中の有機添加剤測定を目的とした新型CVS分析装置「894プロフェッショナルCVS」

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チップ製造のサイクルタイム短縮と高品質を実現!ウェーハ切断中のブレード監視用センサー

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SEMICON JAPAN 2025 出展のご案内

弊社は2025年12月17日(水)より東京ビッグサイトで開催される 「SEMICON Japan 2025」 に出展いたします。(ブース番号:E4727) 本展示会では、日々進化を遂げる半導体製造プロセスの信頼性、半導体性能の向上に寄与する半導体産業専用アプリケーション及び非接触式測定器をご紹介します。 是非ブースへお立ち寄りの上、ご覧頂きたくご案内申し上げます。 <主な展示製品> ・ダイシング工程向けビジュアルブレード検査システム  ブレードの高速位置決め、加工中のブレードのチッピング検出と摩耗検出が可能 ・非接触式高精度薄膜測定装置(インターフェロメトリ技術)  1μm未満の極薄ウエハまで、インライン制御、最終検査、ラボ試験装置として利用可能 ・非接触式高精度表面形状測定装置(クロマティックコンフォーカル技術)  様々な素材や反射面など、あらゆるタイプの表面素材に対し高い分解能で測定 ・加工中ウェーハ厚さ制御向け接触/非接触式厚さ測定ゲージ(インターフェロメトリ技術)  ドライ/ウェット環境で、機械加工中のウェーハ厚さを精密に制御する接触型および非接触型ソリューション

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ウエハ白色干渉測定、PLP検査、LDI露光機、ウエハ光学検査対応標準モデルをラインアップ

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【2025年12/17(水)~12/19(金)】「SEMICON Japan 2025」 出展のお知らせ

ハイウィン株式会社は、東京ビッグサイトにて開催される「SEMICON Japan 2025」に出展いたします。 当社の出展製品は、PLP工程に対応したナノ精度位置決めステージをはじめ、ウエハロード・アンロードシステムや、業界最薄クラスのDDモーターなど、半導体製造装置向けのラインアップをご用意。 日本初出展となるウエハ搬送ロボット【Mシリーズ】とウエハ検査に活用いただける多軸ステージもご覧いただけます。

机の上に設置可能なコンパクト設計、材料分析までの迅速アプローチを実現

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パーティクル管理品ウエハー、ダミーミラーウェハーなどのシリコンウェハーをご用意!

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【サンプル進呈】半導体、液晶などの電子材料製造プロセス薬剤のメタルフリー用途に。

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  • ウエハー
  • 洗浄剤

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2023年10月10日の化学工業日報 6面「アミン化合物特集」に当社の取り組みが掲載されました。

日本乳化剤の製品は多くの業界、分野のお客様にお使用いただいております。お客様のご用途により、カタログに記載のないグレードについてもご紹介させていただきます。お気軽にお問い合わせください。 資料はイプロスにてダウンロードできるほか、公式ホームページでもご紹介しております。 ・アミノアルコール系、モルホリン系、ピペラジン系 ・ガス吸収剤・中和剤「アミノアルコール」 ・電子材料用 グリコールエーテル・アミン「メタリファイシリーズ」 ・工業用洗浄剤「ミネマルシリーズ」 ・セルロース溶解イオン液体

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半導体の強度検査・表面検査・環境試験など様々なアプリケーションノートをご紹介

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単結晶SiCウェハー2”、4”、6”、8”、12”、4H-N/4H-半絶縁

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リーズナブルな価格で高品質なAlNテンプレートを提供しております。国内への納品実績もございます。

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