半導体製造装置の製品一覧
- 分類:半導体製造装置
271~315 件を表示 / 全 5162 件
【重量物の取り扱いによる作業負担を軽減!】お客様の課題を解決した導入事例5選を収録!ワークに応じた無料相談、テストも受付中!
- その他搬送機械
2024/4/10(水)~2024/4/12(金)名古屋 ものづくり ワールド 2024出展のご案内
三和式ベンチレーター株式会社は、ポートメッセなごやで開催される 2024ものつくりワールド(名古屋)に出店いたします。 弊社も大型冷風機、涼暖ビエントの展示をおこないます。 日時:2024/4/10~2024/4/12 開場:AM10:00~ 場所:名古屋ポートメッセ(第1展示会場) ※弊社ブース:19-1 お時間が御座いましたら、ご来場頂ければ幸いです。
ラインを止めないローラー搬送!反転不要の下面研磨で薄物バリ取りの自動化・インライン化を加速します!
- ウエハ加工/研磨装置
ものづくりワールド東京2025に出展します
ものづくりワールド東京2025で下記製品のモニタ動画やサンプル展示にて機能や性能のご紹介させていただきます。 イギリス Holroyd社製 「ヘリカルプロファイル研削盤HG500」 イギリス TEK4社製 「高速EDMドリル加工機、マルチホールEDM加工機、レーザードリル加工」 ドイツ Junker社製 「高速・高精度、フレキシブル研削盤」 ドイツ ARBURG社製 「樹脂ペレット式3Dプリンタ」 ドイツ innovatiQ社製「樹脂3Dプリンタ」 ドイツ Sturm社製 「ブレーキディスクコーティングシステム」 ドイツ OTEC社製 「高精細研磨装置」 オーストリアMACHROTEC社製 「炭素繊維強化プラスチックボディ(CFRP)砥石」 イタリア VICIVISION社製 「光学式シャフト形状測定機」 会期 / 2025年7月9日(水)~ 7月11日(金) 会場 / 幕張メッセ 小間番号/ 7ホール:42-56 開場時間 / 10:00〜17:00 ぜひご来場ください。
湿式ゼロギャップシステムで極小・薄物ワークなど、厚さ 0.1mm の薄いワークでも変形なしにバレル研磨が可能!
- その他工作機械
- ウエハ加工/研磨装置
TCT Japan2026 -3Dプリンティング & AM技術の総合展-に出展いたします。
謹啓 貴社ますますご繁栄のこととお慶び申し上げます。 平素は格別のお引き立てを賜り、厚く御礼申し上げます。 今般、頭書TCT Japan2026に出展いたします。 ・オランダ Additive Industries社製「高出力金属3Dプリンタ MetalFab420K」 ・ドイツ OTEC社製「特殊電解研磨 EFシリーズ」「ディスクフィニッシュマシン CFシリーズ」 サンプルを展示し、機能や性能をご説明させていただきます。 何卒、展示小間へのご来駕の上、ご高覧賜りますようご案内申し上げます。
TCT Japan2026 -3Dプリンティング & AM技術の総合展-に出展いたします。
謹啓 貴社ますますご繁栄のこととお慶び申し上げます。 平素は格別のお引き立てを賜り、厚く御礼申し上げます。 今般、頭書TCT Japan2026に出展いたします。 ・オランダ Additive Industries社製「高出力金属3Dプリンタ MetalFab420K」 ・ドイツ OTEC社製「特殊電解研磨 EFシリーズ」「ディスクフィニッシュマシン CFシリーズ」 サンプルを展示し、機能や性能をご説明させていただきます。 何卒、展示小間へのご来駕の上、ご高覧賜りますようご案内申し上げます。
TCT Japan2026 -3Dプリンティング & AM技術の総合展-に出展いたします。
謹啓 貴社ますますご繁栄のこととお慶び申し上げます。 平素は格別のお引き立てを賜り、厚く御礼申し上げます。 今般、頭書TCT Japan2026に出展いたします。 ・オランダ Additive Industries社製「高出力金属3Dプリンタ MetalFab420K」 ・ドイツ OTEC社製「特殊電解研磨 EFシリーズ」「ディスクフィニッシュマシン CFシリーズ」 サンプルを展示し、機能や性能をご説明させていただきます。 何卒、展示小間へのご来駕の上、ご高覧賜りますようご案内申し上げます。
量産向け NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用 高生産性 連続式常圧CVD(APCVD)装置(12インチウェハ対応)
- CVD装置
縦型洗浄装置(VTCシリーズ)は省スペースで「薬液・純水削減」に貢献。世界トップクラスの納入実績(400台以上)
- その他半導体製造装置
量産向け NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用 高生産性 連続式常圧CVD(APCVD)装置 (8インチウェハまで対応)
- CVD装置
カセット内のウエハを異なるカセットへ自動移載、2カセット同時やピッチ変換・FtoF(BtoB)等の機能を付加可能
- その他半導体製造装置
露光装置及び、周辺装置用のレチクルケース。主要露光装置メーカーの露光装置にて多数採用済み。クリーンな環境での使用可能!
- ステッパー
徹底した静電対策によるレチクル保護と、独自機構によりレチクルの磨耗と取り扱い中の機械的衝撃による損傷のリスクを最小限に抑えます
- フォトマスク
結晶Si太陽電池セル量産用 NSG(SiO2)/PSG/BSG膜成膜用 高生産性 連続式常圧CVD(APCVD)装置
- CVD装置
試作・開発・小ロット生産向け NSG(SiO2)/BSG/PSG/BPSG膜成膜用 バッチ式(複数枚同時処理)APCVD装置
- CVD装置
少量・多品種向け NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用 枚葉式常圧CVD(APCVD)装置(8インチSiCウェハ対応)
- CVD装置
独自技術で極小のナノバブルの開発に成功!超純水にも使用可◆設置簡単◆コンパクトで高機能◆洗浄能力UP
- その他半導体製造装置
- 超純水製造装置
- その他
金属イオン溶出ゼロ。接液部オールPTFE構造で、医薬・半導体プロセスの汚染リスクを徹底排除する高洗浄性コネクタ
- 半導体検査/試験装置
第28回 インターフェックスジャパン」出展のお知らせ
2026年5月20日~22日に開催される展示会「第28回 インターフェックスジャパン」に、 オートコネクタ・配管自動切換装置・Quitto・電子聴音棒を出展します。 ブースにはオートコネクタと配管自動切換装置のデモ機を展示しておりますので、実際にコネクタが自動で調芯し配管が着脱する様子をご覧いただけます。Quitto体験コーナーでは新商品「Quitto」によるワンアクションでの簡単着脱をお手に取り実感いただけます。 また、「音」をデータ化・見える化する診断装置:電子聴音棒 Kirari MUSEの実物も展示しております。 工場の自動化に興味がある方、自動化でお困りの方、へルールクランプの煩わしさを解消したい方、異音診断でお悩みの方は是非お立ち寄りください。 皆さまのご来場を心からお待ちしております。 「第28回 インターフェックスジャパン」 日時: 2026年5月20日(水)、5月21日(木)、5月22日(金) 10:00~17:00 会場: 幕張メッセ(ブース番号:30-27) 出展内容: 粉体用オートコネクタ、配管自動切換装置、「Quitto」、電子聴音棒
半導体、理化学機器、厨房機器など多分野で実績あり。ヒーター曲げ技術により、様々な形状を設計できます。
- その他半導体製造装置
- 電気炉
- その他ヒータ
総合カタログがリニューアルしました
この度、弊社の製品・サービスをより見やすく、わかりやすくお伝えするために、総合カタログをリニューアルいたしました。 弊社は、工業用ヒーターやヒーター部品を搭載した機械装置を手掛けるメーカーです。お客様ごとにカスタマイズした製品を納入しており、設計、製造、販売まで一貫して当社で対応します。 シーズヒーターのお問い合わせ、熱のお困りごとに関する様々なご相談等も受け付けておりますので、お気軽にお問い合わせください。
断熱材不要で高効率、クリーン加熱が可能なヒーター!気体加熱器「クリーンホット」はヒーター曲げ技術を生かした電気ヒーターです!
- その他半導体製造装置
- 加熱装置
パネル面に穴を空け、ビス留めするだけで簡単に取付けができるパネルマウント式の継手です。
- その他工作機械
- その他半導体製造装置
- 管継手
広視野角・超高精細な撮像が可能で、各種MV用途に好適な超高画素カメラ (127M/250M/400M)
- モノクロカメラ
- カラーカメラ
- 半導体検査/試験装置
高耐久PTFEホースは、細波状PTFE構造により高い柔軟性と耐久性を両立。半導体製造装置の薬液供給ラインや可動配管部に対応します
- ホース
- その他半導体製造装置
- エッチング装置
高耐圧PTFEホースは、細波状PTFEコルゲーション構造を採用。高耐圧と低反力を両立し、高純度薬液ラインや可動配管部に対応します
- ホース
- その他半導体製造装置
- エッチング装置
最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉(カーボン炉、タングステンメタル炉) 小型・省スペース実験炉
- 加熱装置
- アニール炉
- 電気炉
多元マルチスパッタリング装置【MiniLab-125】Φ12inch対応 SiCコーティング 1000℃ヒーターステージ 搭載!コンパクトサイズ!
多元マルチスパッタリング装置(Φ12inch基板対応) ・3元同時成膜 + 1元PulseDCスパッタ ・RF150W, DC850W両電源を3元カソード(Source1, 2, 3)へ自在に配置変更 ・5KW PulseDC電源も搭載 → 専用カソード(4)で使用 ・基板加熱ステージ Max800℃(SiCコーティングヒーターでMax1000℃も可能) ・MFC x 3系統(Ar, O2, N2)反応性スパッタリング ・メインチャンバー RIEエッチングステージRF150W ・LLチャンバー <30W 低出力制御ソフトエッチング ・独自の"Soft-Ething"技術で基板バイアスにより基板のダメージを軽減 ・タッチパネル又はWindows PC操作:操作が分散せず、全ての操作をタッチパネル/PCで行うことができます。 ・装置設置寸法:1,960(W) x 1,100(D) x 1,700(H)mm ・マルチチャンバー式も製作可能です。 ●抵抗加熱蒸着・有機材料蒸着・EB蒸着・PECVDなどの混在仕様も構成可能です。
最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉(カーボン炉、タングステンメタル炉) 小型・省スペース実験炉
- 加熱装置
- アニール炉
- 電気炉
多元マルチスパッタリング装置【MiniLab-125】Φ12inch対応 SiCコーティング 1000℃ヒーターステージ 搭載!コンパクトサイズ!
多元マルチスパッタリング装置(Φ12inch基板対応) ・3元同時成膜 + 1元PulseDCスパッタ ・RF150W, DC850W両電源を3元カソード(Source1, 2, 3)へ自在に配置変更 ・5KW PulseDC電源も搭載 → 専用カソード(4)で使用 ・基板加熱ステージ Max800℃(SiCコーティングヒーターでMax1000℃も可能) ・MFC x 3系統(Ar, O2, N2)反応性スパッタリング ・メインチャンバー RIEエッチングステージRF150W ・LLチャンバー <30W 低出力制御ソフトエッチング ・独自の"Soft-Ething"技術で基板バイアスにより基板のダメージを軽減 ・タッチパネル又はWindows PC操作:操作が分散せず、全ての操作をタッチパネル/PCで行うことができます。 ・装置設置寸法:1,960(W) x 1,100(D) x 1,700(H)mm ・マルチチャンバー式も製作可能です。 ●抵抗加熱蒸着・有機材料蒸着・EB蒸着・PECVDなどの混在仕様も構成可能です。
普通のバルブメーカーではありません!フィルターやセンサーなどを組合せた「ユニット集積バルブ」など要望に合わせて幅広く製作可能!
- その他半導体製造装置