プラズマ/の製品一覧
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フォトマスクの新規開発に携わる方必見！コンパクトな設計で、様々なサイズのフォトマスク・ウエハの処理が可能なドライエッチング装置
- エッチング装置
【突発的な発熱から電子機器を保護】金属を適切に分散させ、放電プラズマ焼結（SPS）することで熱応答性の高い固体潜熱蓄熱材を開発！
- その他金属材料
分散型/ POC凝固検査の世界市場：抗凝固プラズマ技術、全血検体検査キット、衛星抗凝固療法、病院、外来手術センター、その他
- その他の各種サービス
コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの薄膜モジュールを組込み、様々な用途に対応するマルチ薄膜装置
- スパッタリング装置
- 蒸着装置
- CVD装置
ウエハーアニール装置【ANNEAL】Max1000℃ APC自動圧力制御 MFC x3系統 Φ4〜6inch基板対応
Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"〜最大6"基板対応、 高真空アニール装置（<5 × 10-7 mbar） [ANNEAL]は、ウエハー等の基板を安定したプロセス雰囲気にて高温熱処理が可能な研究開発用アニール装置です。 高真空水冷式SUSチャンバー内に設置した加熱ステージにより最高1000℃までの高温処理が可能です。チャンバー内にはヒートシールドが設置されインターロックにて安全を確保。マスフローコントローラは最大3系統まで増設が可能、精密に調整されたプロセスガス圧力での焼成作業が可能です（APC自動プロセス制御システムオプション）。 又、フロントビューポート、ドライスクロールポンプ、特殊基板ホルダー、熱電対増設、などオプションも豊富。 チャンバー内加熱ステージは、プロセスガス雰囲気・処理温度により３種類のバリエーションがあります。 ・ハロゲンランプヒーター：Max500℃ ・C/Cコンポジットヒーター：Max1000℃（真空中、不活性ガスのみ） ・SiCコーティングヒーター：Max1000℃（真空、不活性ガス、O2）
実験・研究・評価・試作に好適！ガラス、金属などの平板基材に高速、高精度、低ダメージ真空成膜を実現！
- スパッタリング装置
ヘガネスジャパンは “国際ウェルディングショー2024”に出展します
ヘガネスジャパンは4/24(水)～4/27(土)に開催される国際ウェルディングショーに出展致します。 今回の国際ウエルディングショーでは大阪開催過去最大の出展社数となり、次世代人材の育成をテーマとしたイベントや、金属AMをテーマとした新基軸の展示の他、産学官連携企画など、展示・実演からセミナーが一体となった国内溶接界最大のイベントとなります。 弊社ブースでは、「３Dプリント向け高純度金属粉末、高温ろう付け向け低コストステンレスろう材、レーザクラッド向けクロムメッキ代替え材料」等を紹介予定です。 皆様のご来場を心よりお待ちしております。
変寸のない低温処理で、後工程を減らし、貴社製品の長寿命化に貢献します。
- 電気炉
- その他表面処理装置
- プラズマ発生装置
より低温かつ、低流量での大気圧プラズマ処理が可能！表面改質：大気圧環境下において、電荷のダメージがないプラズマを安定に生成！
- プラズマ発生装置
手動切断装置の世界市場：プラズマ、酸素燃料、レーザー切断、ウォータージェット切断、カーボンアーク切断、建設、重機製造、造 ...
- その他の各種サービス
金属切削工作機械の世界市場：プラズマ切断工作機械、レーザー切断工作機械、高圧ウォータージェット切断工作機械、航空宇宙・防 ...
- その他の各種サービス
緻密な酸化膜厚膜（～１０μｍ）を高速形成。新開発イオン化機構搭載 ＣＶＤ代替高密度イオンプレーティング装置
- プラズマ表面処理装置
- その他加工機械
- 蒸着装置
溶射コーティング機の世界市場：火炎溶射、電気アーク溶射、プラズマ溶射、その他、航空宇宙、産業用ガスタービン、自動車、その他
- その他の各種サービス
