研究開発及び小規模生産用イオンビームスパッタリング装置！
『TFE ニューイオンビームスパッタシリーズ』は、多彩な機能を有する 研究開発及び小規模生産用システムであり、特にMTJ素子等の強磁性薄膜の 薄膜形成がプラズマダメージフリーで可能な強磁性膜・固体電解質 成膜ソリューションです。 また固体燃料電池用電解質の成膜において、良好な膜厚分布を実現した イオンビームスパッタリング装置。 さらには、手動あるいは自動ロードロックが選択可能で、かつPLCおよび PCによる完全自動制御とインターネットによるリモートコントロールを 実現したスパッタリング装置です。 【特長】 ■強磁性素子(MTJ用薄膜の成膜に応用可能なプラズマダメージ フリーなプロセス) ■固体燃料電池用電解質の膜厚均一性に優れた成膜 (グローブボックス装着可能) ■優れた膜厚均一性(＜2％：3σ, 200mmウェーハ) ※詳しくは、お気軽にお問い合わせください。
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基本情報
【その他の特長】 ■研究開発及び小規模生産用イオンビームスパッタリング装置 ■強磁性体素子のプラズマダメージフリーな成膜が可能 ■固体燃料電池用電解質の膜厚均一性(＜2％：3σ、200mm)に優れた成膜が可能 ■イオンアシスト用イオンソースを備えた反応性イオンビームスパッタが可能 ■最大4つのカソードを用いたイオンビームスパッタが可能 ※詳しくは、お気軽にお問い合わせください。
価格帯
納期
用途／実績例
【用途】 ■強磁性素子(MTJ)用薄膜の成膜及び固体燃料電池用電解質の成膜(グローブボックス装着可能)において プラズマダメージフリーなスパッタプロセス ■優れた膜厚均一性(＜2％：3σ, 200mmウェーハ) ■非常に優れたラン・ツー・ラン再現性 ■緻密で表面平滑性に優れた薄膜の成膜 ■最大4つのターゲットの装着が可能 ■光学薄膜用途：低屈折率材料(SiO2)及び高屈折率材料：(Ta2O5、Nb2O5、TiO2)の成膜 ※詳しくは、お気軽にお問い合わせください。
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企業情報
当社は、プラズマ技術を応用したエッチング、成膜、切断装置に加え、 ICP, RIE, DSE, IBE, IBD, PECVD, HDPCVD, HDRF F.A.S.T.-ALD装置の販売、 並びに、当該装置に関するカスタマーサービスの提供しております。 米国フロリダ州に本社を構える、Plasma-Therm LLCは、1974年に設立。 設立以来、48年間プラズマ技術を応用した半導体製造装置の製造・販売を 行っています。 ご用命の際はお気軽にお問い合わせください。 ▼グループ会社Corial 公式サイト https://corial.plasmatherm.com/en