プラズマ/の製品一覧
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フォトマスクの新規開発に携わる方必見！コンパクトな設計で、様々なサイズのフォトマスク・ウエハの処理が可能なドライエッチング装置
- エッチング装置
DLC成膜(膜質:ta-C領域, 表面粗度Ra0.16nm, 透過率：88％)を 従来では課題の多かったスパッタで実現
- スパッタリング装置
Oリングの桜シールによる充填剤無使用の耐熱パーフロ（耐高温: 300℃）材質
- CVD装置
- エッチング装置
- その他機械要素
蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。 高さ570mmトールチャンバー採用 蒸着時の均一性向上に寄与
- 蒸着装置
BHシリーズ【UHV対応 超高温 真空薄膜実験用基板加熱ヒーター】Max1800℃
高真空対応 多彩なヒーター材質オプション。 PVD（スパッタ、蒸着、EB等）、高温真空アニール、高温解析用基板ステージ、などに応用いただけます。 様々なご要望仕様にカスタムメイド対応致します。 【特徴】 ● 予備ヒーター素線との交換が容易 ●設置、メンテナンスが容易（M6スタッドボルト、支柱） 【対応基板サイズ】 ◉ Φ1inch〜Φ6inch 【標準付属品】 ● 熱電対：素線タイプ アルミナ絶縁スリーブ付き ● 取付用スタッドボルト 【オプション】 ● 標準外ヒーター素線（Nb, Mo, Pt/Re, WRe他） ● 基板保持クリップ ● 取付ブラケット ● 基板ホルダー ● ホルダー設置用タップ穴加工 ● トッププレート材質変更（PBN, 石英, カーボン, Inconel, 他） ● 過昇温用追加熱電対 ● ベースフランジ、真空導入端子
平面ではなく凸凹のある箇所への処理が可能！『AP-4000・AP-4000 Multi』の用途をご紹介
- プラズマ表面処理装置
- プラズマ発生装置
【新技術】溶射、CVDと異なる新工法で複雑構造でも全面コーティング可能！ ※ケース別コーティング事例集進呈中
- ファインセラミックス
- 加工受託
- 表面処理受託サービス
現在使用している部品に対し、様々な表面特性を付与できるプラズマコーティングのご紹介！
- コーティング剤
- 加工受託
- 表面処理受託サービス
ソフトウェアの専門家ではなく、物理の専門家が初回打ち合わせから対応し、お客様のニーズに合わせた解析結果報告をお出しします。
- シミュレーター
- 熱流体解析
- 受託解析
様々な母材に対して施工可能！カンメタのプラズマコーティングをご紹介します
- コーティング剤
- 加工受託
- 表面処理受託サービス
ロール類のインクの転写防止対策にカンメタのプラズマコーティングを！
- コーティング剤
- 加工受託
- 表面処理受託サービス
コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの薄膜モジュールを組込み、様々な用途に対応するマルチ薄膜装置
- スパッタリング装置
- 蒸着装置
- CVD装置
BHシリーズ【UHV対応 超高温 真空薄膜実験用基板加熱ヒーター】Max1800℃
高真空対応 多彩なヒーター材質オプション。 PVD（スパッタ、蒸着、EB等）、高温真空アニール、高温解析用基板ステージ、などに応用いただけます。 様々なご要望仕様にカスタムメイド対応致します。 【特徴】 ● 予備ヒーター素線との交換が容易 ●設置、メンテナンスが容易（M6スタッドボルト、支柱） 【対応基板サイズ】 ◉ Φ1inch〜Φ6inch 【標準付属品】 ● 熱電対：素線タイプ アルミナ絶縁スリーブ付き ● 取付用スタッドボルト 【オプション】 ● 標準外ヒーター素線（Nb, Mo, Pt/Re, WRe他） ● 基板保持クリップ ● 取付ブラケット ● 基板ホルダー ● ホルダー設置用タップ穴加工 ● トッププレート材質変更（PBN, 石英, カーボン, Inconel, 他） ● 過昇温用追加熱電対 ● ベースフランジ、真空導入端子
【鉄鋼・非鉄金属業界向けの資料「高性能チラーアプリケーションガイド」公開中】
【高性能チラー「PCU-SLシリーズ」の特長を活かした、鉄鋼・非鉄金属業界向けのアプリケーションガイドを公開しました】 本資料では、当社の高性能チラー「PCU-SLシリーズ」を使用した 鉄鋼・非鉄金属業界向けのアプリケーションをご紹介しております。 X線検査装置やプラズマシーム溶接機の冷却、レーザー加工機の温度管理などのアプリケーションにおける、 従来のさまざまな問題を高性能チラー「PCU-SLシリーズ」で解決いたします！ イラストも交えて分かりやすくご紹介しておりますので ご興味のある方は、下記の関連カタログよりPDFをダウンロード、もしくはお気軽にお問合せ下さい。 【掲載内容】 ■X線検査装置の冷却 ■レーザー加工機の温度管理 ■プラズマシーム溶接機の冷却 ■ロール／軸受／油圧ユニットの冷却 ■高周波誘導加熱装置の冷却
タンポ印刷やスクリーン印刷の前処理など！『AP-4000R・AP-4000R Multi』の用途をご紹介
- プラズマ表面処理装置
- プラズマ発生装置
平面材料への幅広処理や塗装前の処理など！『AP-4000R・AP-4000R Multi』の用途をご紹介
- プラズマ表面処理装置
- プラズマ発生装置
高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ（Φ4inch用） 4元マルチスパッタ（Φ6, 8inch用）
- スパッタリング装置
- 蒸着装置
- エッチング装置
ウエハーアニール装置【ANNEAL】Max1000℃ APC自動圧力制御 MFC x3系統 Φ4〜6inch基板対応
Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"〜最大6"基板対応、 高真空アニール装置（<5 × 10-7 mbar） [ANNEAL]は、ウエハー等の基板を安定したプロセス雰囲気にて高温熱処理が可能な研究開発用アニール装置です。 高真空水冷式SUSチャンバー内に設置した加熱ステージにより最高1000℃までの高温処理が可能です。チャンバー内にはヒートシールドが設置されインターロックにて安全を確保。マスフローコントローラは最大3系統まで増設が可能、精密に調整されたプロセスガス圧力での焼成作業が可能です（APC自動プロセス制御システムオプション）。 又、フロントビューポート、ドライスクロールポンプ、特殊基板ホルダー、熱電対増設、などオプションも豊富。 チャンバー内加熱ステージは、プロセスガス雰囲気・処理温度により３種類のバリエーションがあります。 ・ハロゲンランプヒーター：Max500℃ ・C/Cコンポジットヒーター：Max1000℃（真空中、不活性ガスのみ） ・SiCコーティングヒーター：Max1000℃（真空、不活性ガス、O2）
耐摩耗鋼板HARDOXの切断加工はお任せください！最短2日で納品。1枚から承ります！
- 特殊鋼
- その他金属材料
- 加工受託
【材質SS400、寸法厚み19mm×255mm×385mm】部品加工をご紹介！
- その他加工機械
- その他機械要素
- 塑性加工機械(切断・圧延)
設定可能な最低速度を基準に、起動/停止できる処理ロール回転モニターを搭載！
- LEDモジュール
2台の薄膜実験装置をロードロック機構で連結。異なる成膜装置（スパッタ、蒸着、など）をロードロックでシームレスに連結
- スパッタリング装置
- 蒸着装置
- エッチング装置
★☆★☆【MiniLab（ミニラボ）】シリーズフレキシブル薄膜実験装置★☆★☆
MiniLab薄膜実験装置は、豊富なオプションから必要な成膜方法・材質に応じて都度最適なコンポーネント、制御モジュールを組み込むことにより、セミカスタムメイドで無駄を省いたコンパクトな装置を構築することができます。モジュラー式制御ユニットをPlug&Play 感覚で搭載することにより応用範囲が広がり、様々な薄膜プロセス実験への応用が可能になります。 【MiniLab薄膜実験装置 構成モジュール】 ◎ 製作範囲 抵抗加熱蒸着（TE）、有機蒸着（LTE）、電子ビーム蒸着（EB）、スパッタリング（SP）、CVD、ドライエッチング 【スモールフットプリント・省スペース】 ・シングルラックタイプ（026）：590(W) x 590(D)mm ・デュアルラックタイプ（060）：1200(W) x 590(D)mm ・トリプルラックタイプ（125）：1770(W) x 755(D)mm 【優れた操作性・直観的操作画面】 Windows PC、または７”タッチパネル。熟練度を問わない簡単操作、安全にも最大限配慮しております。チャンバー内部品調整、材料交換以外の全ての操作はPC/HMI画面で行います。
交換だけの簡単な修理で停台によるロスが最小！安定した接着性で最大2×12kW
- LEDモジュール
コロナジェネレーターとの 組み合わせで、基材表面に印刷インキ、ラッカー、接着剤及びその他の 塗工剤に対する接着機能を付与！
- その他
あらゆる用途に適する！万能型のTFTモニター付きコロナ処理用ジェネレーター！
- LEDモジュール
基材に高度かつ均一なコロナ処理を施す、万能型のコロナ処理用ジェネレーター
- LEDモジュール