更新日： 集計期間:2025年09月17日～2025年10月14日
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安定した品質が特長！「アルミナ」「シリカ」の特性や研磨対象物をご紹介！
当社は創業より培ってきた経験に基づきスラリー開発・製造を行っております。 『CMPスラリー』は、ケミカル溶液とナノサイズの研磨粒子で構成されており、 粗大粒子の発生が少なく、粒子の分散性の良い、安定した品質が特長。 洗浄性が良く、速い研磨レートが得られる「アルミナ」と、ダメージフリーで 高い面粗度が得られる「シリカ」をご用意しております。 【特長】 ＜アルミナ＞ ■特性：洗浄性が良く、速い研磨レートが得られる ■研磨対象物：樹脂、化合物セラミックス ＜シリカ＞ ■特性：ダメージフリーで高い面粗度が得られる ■研磨対象物：酸化膜、金属膜樹脂、ガラス ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
本講座は６か月間で、ご自身のペースで学習を進めていただくことができます！
本講座では演習問題の解答を提出する際に、スラリーに関する質問・相談（講師が対応できる範囲で）をすることができます。
廃液からのニッケル・銅資源の循環に貢献しています。
スラリー汚泥 スラリー汚泥、有機性汚泥、特定有害物含有汚泥（水銀、カドミウム、鉛、ヒ素、セレン）,シアン含有汚泥（特定有害）,クロム含有汚泥（特定有害）
高純度の酸化セリウムを使用した光学材料精密研磨用スラリー。高い洗浄性と表面品質を求められる方におすすめです
ホウケイ酸ガラス、石英ガラス、ガラスセラミックスなどの光学材料の精密研磨におすすめの高純度酸化セリウムスラリーです。小粒径の粒度分布がシャープな酸化セリウムを独自のクーラント液に配合した本スラリーは、沈降しにくく、洗浄しやすいのが特徴です。また、砥粒の濃度が高いため、現場で希釈することでフレキシブルにご使用いただけます。 【このような場合におすすめです】 ■洗浄性の高い酸化セリウムスラリーをお探しの方 ■ロット毎の高い一貫性を求められる方 ■高い加工レートと表面品質を求められる方 ■パウダーからスラリーを作成するのがお手間だと感じる方 ※詳しくはお気軽にお問い合わせください。
高圧高温単結晶ダイヤモンドスラリーは、水性製剤です。水性液に高圧高温単結晶ダイヤモンド粒子を分散させたスラリー
水溶性スラリーは空気に触れても乾燥せず、油性研磨液の代替品として最適です。独自の表面改質技術により、ダイヤモンド粒子の凝集を防ぎます。タングステンカーバイド、サファイア、ルビーなどの超硬素材の研磨に最適です。サイズは0.2μmから60μｍまであります。
CMP研磨用材料の世界市場：CMPスラリー、CMPパッド、CMPパッドコンディショナー、CMPスラリーフィルター、PVA ...
本調査レポート（Global CMP Polishing Materials Market）は、CMP研磨用材料のグローバル市場の現状と今後5年間の展望について調査・分析しました。世界のCMP研磨用材料市場概要、主要企業の動向（売上、販売価格、市場シェア）、セグメント別市場規模、主要地域別市場規模、流通チャネル分析などの情報を収録しています。 CMP研磨用材料市場の種類別（By Type）のセグメントは、CMPスラリー、CMPパッド、CMPパッドコンディショナー、CMPスラリーフィルター、PVAブラシ、止め輪、CMP後クリーニングを対象にしており、用途別（By Application）のセグメントは、300mmウェーハ、200mmウェーハ、その他を対象にしています。地域別セグメントは、北米、アメリカ、ヨーロッパ、アジア太平洋、日本、中国、インド、韓国、東南アジア、南米、中東、アフリカなどに区分して、CMP研磨用材料の市場規模を算出しました。 主要企業のCMP研磨用材料市場シェア、製品・事業概要、販売実績なども掲載しています。
