更新日： 集計期間:2026年06月10日～2026年07月07日
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急冷、徐冷時の精密な温度コントロールが可能
設計時に熱計算のシミュレーションや電気容量の計算を行うことで炉内の温度を正確に制御することができ、ご希望通りの製品の出来ばえや特性を得ることができます。サンファーネスでは、AMS規格（米国航空宇宙規格）にも対応可能な技術で、お客様に合わせてオーダーメイドで対応してきました。自動搬送など周辺領域も含めて最適な焼鈍炉を提案いたします。 【特長】 ■ 急冷、徐冷時の精密な温度コントロールが可能 ■ 各種雰囲気ガスを入れることが可能 ■ 焼鈍、焼準兼用炉の製作が可能 【おもな焼鈍炉】 ■ 竪型焼鈍炉 ■ ピット型焼鈍炉 ■ 台車式焼鈍炉 ■ ローラーハース式焼鈍炉 ■ メッシュベルト式焼準炉 ■ ストランド式光輝焼鈍炉 ■ ステンレスパイプ光輝焼鈍炉 ■ 台車式アニール炉 ■ 真空焼鈍炉 ■ アルミ軟化焼鈍炉 小ロット生産 ・ 熱処理試験・ 少量サンプル製造などご相談ください。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
焼成炉の放熱ロス抑制と夏場の作業環境改善を実現！設備側面の表面温度を約135℃から約50℃に低減した事例をご紹介
エネルギー関連工場のお客様に、当社の遮断熱マット「SL-G8」を 導入いただいた事例をご紹介いたします。 お客様は、焼成炉の放熱ロス抑制と、夏場の作業環境改善を 目的として導入を検討されていました。 施工後、設備天面および側面の表面温度が大幅に低下しました。 これにより、当初の目的である放熱ロス抑制と環境改善に 貢献しています。 【事例概要】 ■施工先設備：焼成炉 ■製品：遮断熱マット SL-G8 ■数量：127本(1,270平米相当) ■お客様導入目的：焼成炉の放熱ロス抑制、夏場の作業環境改善 ■温度比較(設備天面)：施工前 約90℃→施工後 約35～40℃ ■温度比較(設備側面)：施工前 約135℃→施工後 約50℃ ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
真空・還元雰囲気で、材料開発や高温熱処理をサポート
研究開発や試作評価では、材料ごとに温度・雰囲気・処理時間を細かく検討できる高温炉が必要です。 特に、セラミックスと金属の接合、ろう付け、アニール、焼成、還元雰囲気処理では、炉内の清浄性や雰囲気制御が品質に影響します。 弊社のメタル炉は、Mo・Wなどの金属ヒーターを用いた高温雰囲気炉で、真空・N2・Ar・H2などの雰囲気に対応可能です。 大学・研究機関・企業研究所での材料評価、試作、量産前検討まで、処理物の材質・サイズ・温度・雰囲気に応じてカスタム設計します。 ■ 研究開発用の高温炉を探している ■ セラミックスと金属の接合・封着を検討したい ■ ろう付け、アニール、焼成条件を評価したい ■ 真空・N2・Ar・H2雰囲気で処理したい ■ 既製炉では温度、炉内寸法、雰囲気条件が合わない
工業炉内の温度計測の設定、安全装置などカスタマイズも可能です
設計時に熱計算のシミュレーションや電気容量の計算を行うことで炉内の温度を正確に制御することができます。また、安全対策をはじめとしたお客様のニーズに合った仕様での製作が可能です。 サンファーネスでは設計、製作、据付、メンテナンスまでトータルでサポートします。また、ヒーターや熱電対などの消耗品は長く御使用いただける高品質なものを選定いたします。 【特長】 ● 帯鋼や線材などの光輝熱処理が可能です。 ● 線材を熱処理する『ストランド式線材焼鈍炉』の取扱いがあります。 ● 工業炉内の温度計測の設定、安全装置などカスタマイズも可能です 【ステンレス鋼の鋼種による熱処理方法】 ● オーステナイト系：固溶化（溶体化）、安定化、応力除去、時効 ● フェライト系 ：焼きなまし ● マルテンサイト系：焼きなまし、焼きならし、焼入れ、焼戻し 【課題事例】こんな課題を解決しました ■ ステンレス板のプレスと焼鈍を行いたい ■ テンションアニール炉（張力焼鈍炉） ■ ステンレス鋼板の焼鈍で水素ガスシール性を向上させたい ステンレス熱処理のお悩みがございましたらお気軽にご相談ください。
最高3000℃の高温焼成と低酸素雰囲気で、航空宇宙向け耐熱部品の開発・製造をサポート
航空宇宙分野では、高温環境で使用される耐熱部品や複合材料の品質安定性が重要です。 タービン部品、ロケット関連部材、C/Cコンポジット、セラミックス系材料などの焼成では、温度条件だけでなく、酸化を抑えるための真空・不活性雰囲気制御が求められます。 弊社のカーボン炉は、最高3000℃クラスの高温加熱に対応し、真空引き後にAr・N2などへ置換することで、低酸素雰囲気での高温焼成が可能です。 耐熱部品の焼成、炭化、黒鉛化、焼結、熱処理条件の検討など、処理物の材質・サイズ・温度・雰囲気に応じてカスタム設計します。 ■ 航空宇宙向け耐熱部品の焼成条件を検討したい ■ 2000℃以上の高温処理を行いたい ■ C/Cコンポジットやセラミックス系材料を処理したい ■ 酸化を抑えた真空・不活性雰囲気で焼成したい ■ 研究開発から試作、量産前評価まで相談したい
温度・流量・圧力・排気を同期記録し、触媒活性化条件を見える化
当社では、触媒活性化や反応挙動評価に適した「管状炉」を取り扱っております。 触媒処理では、温度、圧力、ガス流量、雰囲気切替のわずかな違いが活性や再現性に影響します。 汎用管状炉では焼成前後の分析に留まり、反応開始・終了やガス発生挙動を把握しにくい場合があります。 本設備では、MFC、圧力計、物温熱電対、サンプリングラインなどを用途に応じて組み込み、温度・流量・圧力・排気データを同期ロギングできます。 【特長】 ■ 温度・流量・圧力・排気データを同時記録 ■ 反応開始、終了、ガス発生のタイミングを把握 ■ MFC、圧力計、物温熱電対を用途に応じて実装 ■ サンプリングポート、排気分析ラインを設計可能 ■ 触媒活性化条件の比較・再現性確認に好適 ※詳しくは資料ダウンロードまたはお問い合わせください。
高真空・高純度雰囲気で、半導体部品の気密封止と信頼性向上をサポート
半導体部品では、長期信頼性を確保するため、封止工程における気密性や酸化・汚染の抑制が重要です。 特に、セラミックスと金属の封止、ろう付け、アニール、焼成では、炉内の清浄性や真空・雰囲気制御が品質に影響します。 弊社のメタル炉は、炉内を金属部材で構成しているため、断熱材由来の粉じんや不純物の影響を抑えやすく、清浄な高純度雰囲気での熱処理に適しています。 また、一般的な断熱材炉に比べて高真空まで減圧しやすく、真空・N2・Ar・H2などの雰囲気で、半導体部品の気密封止、ろう付け、酸化防止、アニールに対応可能です。 ■ 半導体部品の気密封止条件を検討したい ■ セラミックスと金属の接合・封止品質を安定させたい ■ 酸化や汚染を抑えた高純度雰囲気で処理したい ■ 高真空、N2、Ar、H2雰囲気で熱処理したい ■ 既製炉では真空度、清浄度、炉内寸法が合わない
管径・加熱ゾーン・雰囲気・計装まで、用途に合わせて設計する特注管状炉
当社では、お客様の用途に合わせて仕様を設計する「カスタム管状炉」を取り扱っております。 標準品の管状炉では、管サイズ、加熱ゾーン長さ、昇温速度、処理温度、雰囲気ガス、計装構成などが合わず、目的の試験条件を再現できない場合があります。 当社の管状炉は、約1200℃の安定運転を基本に、加熱ゾーン、管サイズ、ガスライン、計測器、サンプリングポートなどを用途に応じて個別設計できます。 N2/Arなどの不活性ガス、H2など各種ガスにも対応可能です。ご希望の炉内寸法、温度条件、雰囲気条件に合わせて仕様をご提案します。 【特長】 ■ 管サイズ・加熱ゾーン長さを用途に応じて設計 ■ 昇温速度、温度分布、処理量に合わせた炉構成を検討 ■ N2/Ar/H2など各種ガス雰囲気に対応 ■ 物温熱電対、MFC、圧力計、O2計など計装を選定可能 ■ サンプリングポートや排気ラインもカスタム対応 ※標準品では仕様が合わない場合も、お気軽にご相談ください。
焼成・熱処理・脱脂・還元に適した電気炉を整理
焼成・熱処理・脱脂・還元の違いを整理できていますか？ 同じ「加熱処理」でも、目的が変われば、必要な温度域、雰囲気、排ガス対策、安全対策、温度分布、サンプル回収方法が変わります。 例えば、焼成では反応完了や温度分布、脱脂では発生ガス・タール・急反応、還元ではH₂濃度・置換管理・爆発下限、熱処理では均熱性・冷却条件・高純度雰囲気が重要になります。 本資料では、焼成・熱処理・脱脂・還元について、代表条件、主な雰囲気、重視点、向く炉種、事前確認項目を一覧で整理しています。 ■処理目的に合う電気炉・雰囲気炉の選定に ■設備導入前の条件整理に ■焼成テスト・条件探索の事前検討に ■見積依頼前の社内確認資料として活用可能
真空置換とカーボンゲッタリングで、3000℃級の高温処理を再現評価
設備導入前の極低酸素・超高温焼成テストに対応可能です。 温度、雰囲気、処理時間などが未確定の段階でも、目的に応じたテスト条件の検討からご相談いただけます。 実サンプルを用いた事前評価により、黒鉛化、再結晶化、粒成長、相形成、酸化影響などを確認し、設備仕様の検討に活用できます。 当社で取り扱う「カーボン炉」は、条件出しに時間がかかり、 短サイクルでの再現が難しいなどといった課題を解決します。 真空引きで試料内部の空気を事前に排出、置換時間を短縮。 また、トレイ自由度/棚構成で角型サヤなどを並列配置し、 厚みムラの影響評価も可能です。 当社では、テスト機もご用意いたしております。 ご用命の際は、お気軽にお問い合わせください。 【当社カーボン炉が効く理由(一部)】 ■極低酸素分圧での焼成 ・真空→Ar/N2へ段階置換 ・炉材カーボンのゲッタリング効果で残存O2/酸化性種を低減 ■超高温プロセス ・常用～2800℃、最大～3000℃クラスでの長時間安定運転 ・1200～2600℃帯の緩昇温→保持で粒成長や再配列を精密制御 ※詳しくは、お気軽にお問い合わせください。
最高3000℃の高温焼成と低酸素雰囲気で、セラミックスの高密度化・焼結をサポート
セラミックス材料の高密度化では、脱脂・仮焼・焼結・加圧焼結・雰囲気制御など、材料ごとに最適な熱処理条件の検討が必要です。 特に、酸化を抑えながら高温処理を行いたい場合や、一般的な電気炉では到達温度・雰囲気・炉内寸法が合わない場合には、カーボン炉の活用が有効です。 弊社のカーボン炉は、最高3000℃クラスの高温加熱に対応し、真空引き後にAr・N2などの不活性ガスへ置換することで、低酸素雰囲気での焼成を実現します。 セラミックスの高密度化、焼結促進、相形成、脱脂後の高温処理など、研究開発から量産設備まで目的に応じたカスタム設計が可能です。 以下のような課題に対応できます。 ■ セラミックスの密度を上げたい ■ 焼結温度を高温側まで検討したい ■ 脱脂後の焼成・高密度化を一貫して行いたい ■ 酸化や組成変化を抑えて焼成したい ■ Ar、N2、真空などの雰囲気で処理したい ■ 既製炉では炉内サイズや温度条件が合わない ■ ラボ試験から量産炉まで相談したい
黒鉛化・炭化・焼結・高温反応評価など、小型カーボン炉の用途を紹介
当社で取り扱う「小型カーボン炉」は、低酸素雰囲気での3000℃級高温処理に対応した電気炉です。 炉内にグラファイト部材を採用し、真空置換後にAr、N2などの不活性ガス雰囲気で処理することで、 高温域での酸化・再酸化を抑えた安定した加熱環境を形成します。 本資料では、小型カーボン炉の主な用途として、高温材料の合成・焼結、炭素材料の高結晶化、 金属材料の高温処理・還元反応、高温ガス反応評価、研究開発向けの小スケール試験をご紹介します。 【主な用途例】 ■ 高温材料の合成・焼結 ■ 炭素材料の黒鉛化・高結晶化処理 ■ 金属材料の高温処理・還元反応 ■ N2、H2、Arなどを用いた高温ガス反応評価 ■ 研究開発・試作スケールでの材料プロセス評価 ※詳しくは資料ダウンロードまたはお問い合わせください。
N₂ベースの窒化反応を、極低酸素・高温環境で事前評価
設備導入前の窒化・高温焼成テストに対応可能です。 温度、雰囲気、処理時間などが未確定の段階でも、目的に応じたテスト条件の検討からご相談いただけます。 実サンプルを用いた事前評価により、反応性などを確認し、設備仕様の検討に活用できます。 当社で取り扱う「カーボン炉」は、窒化の基礎反応試験に好適です。 N2のみでは反応開始温度が高いため、粒成長・粗大化とのバランスが難しい、 冷却時に表面再酸化し、色調・抵抗・硬度のばらつきにつながるなどといった 課題を解決します。 また当社は、小型機以外にも量産スケールの炉も製作実績があります。 ご用命の際は、お気軽にお問い合わせください。 【当社カーボン炉が効く理由】 ■極低酸素分圧をつくる ・真空引き→N2置換で酸素ポテンシャルを段階的に下げる ・炉材カーボンのゲッタリングが残存O2を吸収し、酸化側副反応を抑制 ■十分な高温域へ素早く到達 ・1400-2400℃まで短時間で到達・安定保持 ■短サイクルで条件出し ・棚構成で複数試料を同時評価、厚み・接触の影響を検証しやすい ※詳しくは、お気軽にお問い合わせください。
小スケールでは見えにくい排ガスリスクを、炉・排気・除害設計でスケールアップ対応
当社では、NH3・CO・NOxなどの有害ガス発生を伴う焼成に対応した「マルチ雰囲気炉」を取り扱っております。 有機物を含む原料、樹脂系材料、触媒担体、電池材料などの焼成では、昇温・保持中にNH3、CO、NOx、HCN、炭化水素系ガスなどが発生する場合があります。 小型管状炉や小スケール試験では問題にならなかった発生ガスも、トレイ段数や処理量が増えることで、排気濃度・発生量・腐食性・安全対策が大きな課題になることがあります。 当社のマルチ雰囲気炉は、真空置換、雰囲気制御、加熱、排気、除害設備との連携まで含めて、焼成プロセス全体を設計できます。 【特長】 ■ NH3・CO・NOxなどの発生ガスを想定した炉設計 ■ 真空置換により処理前後の炉内ガス置換が可能 ■ N2、Ar、Air、NH3など各種雰囲気に対応 ■ スクラバー、触媒酸化、熱酸化など除害方式を検討可能 ■ トレイ段数・処理量増加を見据えたスケールアップ検討に対応 ※詳しくは資料ダウンロードまたはお問い合わせください。
負圧運転・耐食設計・スクラバー連動で、Cl2/HCl処理を小型炉で安全に検討
Cl2、HClなどの腐食性ガスを用いた処理では、ガス漏洩、配管・炉材の腐食、未反応ガスの排気、除害処理など、安全面の設計が重要になります。 当社では、研究開発用の「小型塩素炉」を取り扱っております。 本設備は、塩素・塩化水素を安全かつ制御性高く扱える小型炉であり、腐食性ガスを用いた材料試験、金属不純物除去、選択塩素化、治具洗浄などの条件検討に使用できます。 耐食材料を使用した炉体・配管構成、スクラバー連動、腐食ガスモニタ、非常遮断、インターロックなどを組み合わせることで、研究用途でもCl2/HCl処理を安全に実施しやすい構成を検討できます。 【特長】 ■ Cl2/HClなど腐食性ガス処理に対応 ■ 常時負圧運転により炉外へのガス漏洩リスクを低減 ■ 耐食材料を使用した炉体・配管構成 ■ スクラバー、腐食ガスモニタ、非常遮断との連動が可能 ※詳しくは資料ダウンロードまたはお問い合わせください。
