更新日： 集計期間:2025年05月21日～2025年06月17日
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【販売20周年キャンペーン実施中！】1台で「乳化・分散・破砕」の3役こなす湿式メディアレス微粒化実験機をご紹介！
『L-ES』は、1台で乳化・分散・破砕の3役をこなす卓上型実験機です。 湿式メディアレス微粒化実験機のスタンダードモデルとなっています。 【特長】 ■卓上型 ■1台で3役（乳化・分散・破砕）をこなす ■湿式メディアレス微粒化実験機のスタンダードモデル ★ナノヴェイタ販売20周年キャンペーン実施中★ 販売20周年を記念し、すべてのお客様へ感謝の気持ちを込めて 限定仕様でお求めやすい価格にてご提供しております。 （キャンペーン期間：2025年9月30日まで） ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
【販売20周年キャンペーン実施中！】「定吐出・倍吐出・異種吐出」3種類のモードを搭載した卓上実験機をご紹介
『L-ED』は、電動タイプの卓上実験機です。 定吐出モードや倍吐出モードに加え、各軸に異種試料を投入し、 任意の割合で吐出できる異種吐出モードを装備しています。 【特長】 ■電動タイプの卓上実験機 ■定吐出モード ■倍吐出モード ■異種吐出モード ★ナノヴェイタ販売20周年キャンペーン実施中★ 販売20周年を記念し、すべてのお客様へ感謝の気持ちを込めて 限定仕様でお求めやすい価格にてご提供しております。 （キャンペーン期間：2025年9月30日まで） ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
【販売20周年キャンペーン実施中！】電源不要で防塵に対応！エア駆動型の卓上実験機をご紹介
『L-AS』は、当社ナノヴェイタシリーズ卓上実験機、電動型「L-ES」に 対する、エア駆動型のスタンダードモデルです。 電源不要、防爆対応となっています。 【特長】 ■ナノヴェイタシリーズ卓上実験機(電動型)「L-ES」のエア駆動型 ■スタンダードモデル ■防爆対応 ■電源不要 ★ナノヴェイタ販売20周年キャンペーン実施中★ 販売20周年を記念し、すべてのお客様へ感謝の気持ちを込めて 限定仕様でお求めやすい価格にてご提供しております。 （キャンペーン期間：2025年9月30日まで） ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
【販売20周年キャンペーン実施中！】従来品を2台並列接合し処理量を拡大！脈動低減運転が可能なエアタイプ卓上実験機
『L-AD』は、当社ナノヴェイタシリーズ卓上実験機「L-AS」を 2台並列接続した処理量拡大モデルです。 単軸使用、複軸使用が任意に操作可能なほか、 非吐出速度の調整による脈動低減運転が可能です。 【特長】 ■ナノヴェイタシリーズ卓上実験機「L-AS」の処理量拡大モデル ■単軸使用、複軸使用が任意に操作可能 ■非吐出速度の調整による脈動低減運転が可能 ★ナノヴェイタ販売20周年キャンペーン実施中★ 販売20周年を記念し、すべてのお客様へ感謝の気持ちを込めて 限定仕様でお求めやすい価格にてご提供しております。 （キャンペーン期間：2025年9月30日まで） ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
紫外線(UV)光源を使う、卓上型光化学反応実験装置です。
UV光源には、高圧水銀ランプと低圧水銀ランプがあります。標準の反応容器には、容量が約500mリットルと1 500mリットルのものがあります。
【テスト可】卓上にてインラインによる混合・分散・乳化プロセスの研究開発が可能です。
最終更新日：2025年5月1日 IKA magic LABはモジュール交換により、乳化や分散、粉液混合、湿式粉砕等の様々なプロセスが一台で可能なインライン実験機です。 ■スケールアップ可能：すべてのモジュールが、同じ構造を持つインライン生産機へのスケールアップが可能です。 ■テスト可・デモ機あり：弊社テスト場でのご来社テストやデモ機の貸し出しを行っております。ご希望の方は以下のお問い合わせフォームからご連絡ください。 ■イプロス医薬食品技術サイトにより詳しい画像・動画などがございます。 画像、動画、カタログダウンロードはこちら https://ls.ipros.jp/company/detail/123616?hub=40+IKA ・豊富なモジュールとオプションで、あらゆるプロセスに対応 ・卓上ラボスケールにてインライン式や連続式プロセスの研究開発が可能 ・生産機へのスケールアップを前提とした研究開発や、少量しか使用できない高価な原料の研究に適しています
CMP部材開発、研究開発に最適！研究開発を身近に出来る卓上型CMP実験装置です。
【製品PR】 ケメット・ジャパンの「BC-15」は、CMP部材開発や部材スクリーニング、デバイス開発など幅広くご活用頂ける卓上実験装置です。 定盤径は15インチで、定盤回転数は5～100RPMです。 最大加工物径はφ152mmです。 チップサイズ～φ6インチのウエハサイズまで対応可能です。 【特徴】 ◆ベースプレートの裏面がマグネットのため、着脱が容易です。 ◆タッチパネルが搭載されています。 ◆自動運転が可能で、セットしたらスタートを押すだけで加工可能です。
リチウムイオン 電解液 注液実験機 小型電池用
i-ion（リチウムイオン）、Ni-MH（ニッケル水素）電池用の各種生産設備および実験装置の設計製作いたします。 円筒型、角型、ラミネートタイプ各種対応します。 工程によっては、デモ機・実験機がありますのでお気軽にお問い合わせください。
研究開発現場のためのカスタム薬液槽。透明・耐薬品・耐久性を兼備
株式会社清水工業所が製作する「薬液反応槽」は、塩ビ（PVC）透明材を使用した実験・研究向けの特注反応槽です。薬液反応中の様子を外観からリアルタイムで観察できるため、工程確認や反応条件の検証に最適です。 耐薬品性・耐衝撃性に優れた材質を使用し、接着・曲げ・溶接など各種加工に対応。 用途や設置場所に応じたサイズ・形状・継手位置・排出口の仕様変更も柔軟に対応可能です。1点もの・試作・小ロット製作も承ります。
種々の実験条件で、薬物や毒物の正味の膜透過速度を測定出来ます。
各セル内部液は攪拌子の回転によって完全混合を可能にしました。膜表面に形成される静止境界層厚みは種々の攪拌条件下で明らかにされており、正味の膜透過速度が得られます。 攪拌駆動装置は長時間連続操作可能なマグネティックスターラーで、ＰＥＲＭＣＥＬＬ３セットを同時に操作できるとともに、攪拌回転数を膜の種類により広範囲（約500rpm～2000rpm）に変化できます。膜装着部は、平板膜用と球面膜用の２種類があり、サンプル口ストッパーは閉鎖型の他 に流通型ストッパーも使用可能です。
安全な作業環境を確保！
『ASM401N』は、設置が簡単な卓上型のUV/オゾン洗浄改質 実験装置です。 特殊形状の低圧水銀ランプを採用し、高出力・高均斉を可能にし、 10mm刻みで照射距離が調整できるので、正確なデータ取りとスピーディな 処理が可能です。 オゾン漏れや紫外線漏れの心配が無い紫外線安全対策機能付き。 コンパクトな箱型設計なので、省スペース、低価格を実現しました。 【特長】 ■卓上型 ■コンパクトな箱型設計 ■省スペース ■低価格 ■正確なデータ取りが可能 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
渦巻ポンプ実験装置
渦巻ポンプの動作特性を広範囲に実験するための装置です。 速度可変モータが内部観察可能なポンプを作動し、水槽から水を汲み上げ、ストレーナとバルブ、ベンチュリ管を経由して水槽へ戻る循環式装置です。羽根車（インペラ）部は観察できるように透明カバー仕様になっています。 ポンプの回転速度（rev/min）とトルク（N.m）、出力（W）、ベンチュリ管の差圧（△P）、ポンプ出入り口圧力がデジタル表示され、バルブ調整により動作条件を変えた幅広い実験が可能です。 また、オプションのデータ自動収集システムVDAS（別売）を利用して、各種データをリアルタイムにPC（別売）に収集・解析することができます。
直列と並列渦巻ポンプ実験装置
渦巻ポンプを1台又は、2台（直列又は並列に接続）使用し、動作特性を広範囲に実験、研究するための装置です。 速度可変モータ2台が内部観察可能なそれぞれのポンプを作動し、水槽から水を汲み上げ、ストレーナとバルブ、ベンチュリ管を経由して水槽へ戻る循環式装置です。羽根車（インペラ）部は観察できるように透明カバー仕様になっています。ポンプの回転速度（rev/min）とトルク（N.m）、出力（W）、ベンチュリ管の差圧（△P）、ポンプ出入り口圧力がデジタル表示され、バルブ調整により動作条件を変えた幅広い実験が可能です。 また、オプションのデータ自動収集システムVDAS（別売）を利用して、各種データをリアルタイムにPC（別売）に収集・解析することができます。
管摩擦損失実験装置
横型小口径パイプ（φ3xL524mm）の摩擦損失を計測し、層流と乱流の範囲を通して臨界流量遷移点と臨界レイノルズ数の決定を行います。 低流量実験では高架タンクとマノメータを使用し、高流量実験では装置へ直接給水管を接続してデジタル差圧計によって差圧を計測します。 流量は試験パイプ下流端のニードルバルブによって制御され、H1Fハイドロリックベンチ（別売）を使用して水を供給しますが、既存の水道等を使用することもできます。
ヘルショウ実験装置
ポテンシャル流と類似した流れを可視化するための実験装置で、着色した水流によってフローパターンを作り出し、各種形状周りの流れを観察します。 また4つのバルブは、中央付近に配置された2つの給水穴と2つの排水穴を制御して流線境界を作り出すことができます。 ※装置への水供給は、高架タンク等からの安定した水供給を推奨します。
