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微流量用超小型ガスフィルターです。
POUガスフィルター050は室温型ガス精製器で、窒素、希ガス、水素、アンモニア等を含めた様々なガス中から不純物を除去します。 ほとんどの場合、これらのガス中に含まれる不純物は1ppb未満にまで除去されます。用途に合わせて柔軟に対応できるよう設計され、流量を基準に各サイズに加えて、多種多様な形状となっています。 特徴： 〇 超小型で取り付けが簡単 〇 内蔵パーテクルフィルター選択が可能 〇 寿命 は定格流量で標準的な５N５を基準に1年 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。
高純度ガス溶接時のバックシールドガス（Ar)精製に最適なガスフィルターです！
NuPure ガス精製器 Cシリーズは、高純度ガス溶接時のバックシールドガス精製に最適なガスフィルターです。実績あるガス精製技術と濾過テクノロジーを組み合わせて、一体・小型化した、ガスピュリファイアーです。 ArガスよりH2OとO2を1ppb以下*まで除去いたします（*5N5グレードのガスを使用した場合）。 電源不要の為、現場作業での使用などで好評をいただいております。
20"と40"の長さが選択可能！LCD及び半導体産業のバルクガスアプリケーション向けに設計
『HF170シリーズ』は、PTFEろ材を採用し、直径を 大きく設計したフィルターです。 高い捕捉効率が保証できると同時に、大流量を実現し、 フィルター交換時間の短縮も可能。 更に、PPコアセンターとポリエステルネットカバーと 組み合わせた設計のため、フィルターの変形を避けられます。 【特長】 ■PTFEろ材を採用 ■直径を大きく設計 ■高い捕捉効率を保証 ■大流量を実現し、フィルター交換時間の短縮も可能 ■フィルターの変形を避けられる ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
広いろ過面積！当社の高精度ガスフィルターをご紹介
『GTFシリーズ』は、PTFE メンブレンと超高密度プリーツ技術を 採用した製品です。 広いろ過面積で、大流量と低圧力損失を実現。 最小のろ過精度は0.003μmであり、ガス中の粒子を高い捕捉効率で 確実に除去します。また、全品出荷前に完全性試験を行います。 【特長】 ■PTFE メンブレンと超高密度プリーツ技術を採用 ■大流量と低圧力損失を実現 ■最小のろ過精度は0.003μm ■ガス中の粒子を高い捕捉効率で確実に除去 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
半導体ガスフィルター用、ろ過精度0.003ミクロンの高性能インラインガスフィルターです。
GasProフィルターは、半導体ガスフィルター用として特別に設計されています。全溶接構造になっており、大流量が必要でスペースが限られているところでも0.003ミクロンのろ過精度を実現しています。 メディア材質はPTFE、溶接ハウジングには電解研磨されたSUS316Lが使用されております。清浄度を確保するためにろ過した窒素でパージされ出荷されます。 様々な接続タイプをご用意しており、容易に取り付けられるようになっています。
半導体ガスフィルター用、ろ過精度0.003ミクロンの高性能インラインガスフィルターです。
GasProフィルターは、半導体ガスフィルター用として特別に設計されています。全溶接構造になっており、大流量が必要でスペースが限られているところでも0.003ミクロンのろ過精度を実現しています。 メディア材質はPTFE、溶接ハウジングには電解研磨されたSUS316Lが使用されております。清浄度を確保するためにろ過した窒素でパージされ出荷されます。 様々な接続タイプをご用意しており、容易に取り付けられるようになっています。
半導体ガスフィルター用、ろ過精度0.003ミクロンの高性能インラインガスフィルターです。
GasProフィルターは、半導体ガスフィルター用として特別に設計されています。全溶接構造になっており、大流量が必要でスペースが限られているところでも0.003ミクロンのろ過精度を実現しています。 メディア材質はPTFE、溶接ハウジングには電解研磨されたSUS316Lが使用されております。清浄度を確保するためにろ過した窒素でパージされ出荷されます。 様々な接続タイプをご用意しており、容易に取り付けられるようになっています。
半導体ガスフィルター用、ろ過精度0.003ミクロンの高性能インラインガスフィルターです。
GasProフィルターは、半導体ガスフィルター用として特別に設計されています。全溶接構造になっており、大流量が必要でスペースが限られているところでも0.003ミクロンのろ過精度を実現しています。 メディア材質はPTFE、溶接ハウジングには電解研磨されたSUS316Lが使用されております。清浄度を確保するためにろ過した窒素でパージされ出荷されます。 様々な接続タイプをご用意しており、容易に取り付けられるようになっています。
常に安定した状態で0.003μmの高濾過精度を有するガスフィルターを開発
半導体製造ガスラインなどに用いられる（株）ピュアロンジャパン製インラインセラミックガスフィルターです。水や酸素などの不純物の除去を確実に行うための、200℃の高温ベーキングが可能です。
ハロゲン系反応性腐蝕性特殊ガスに対し、耐蝕性が非常に高く極めて優れた性能を発揮いたします。
半導体製造ガスラインなどに用いられる（株）ピュアロンジャパン製セラミックガスフィルターです。 フィルター構成部材には、フィルターハウジングにハステロイC-22を、そしてフィルターエレメントにはセラミックスを使用しております。これら全ての部材は、HBr、HClなどのハロゲン系反応性腐蝕性特殊ガスに対し、耐蝕性が非常に高く極めて優れた性能を発揮いたします。
安定した濾過性能
濾過膜はＰＴＦＥ製２層構造で経年や振動などでの伸びが殆どなく、安定した濾過性能を有します。全数疑縮核式パーティクルカウンターによって０.００３μｍのパーティクル捕捉試験を実施しております。
半導体ガスフィルター用、ろ過精度0.003ミクロンの高性能インラインガスフィルターです。
GasProフィルターは、半導体ガスフィルター用として特別に設計されています。全溶接構造になっており、大流量が必要でスペースが限られているところでも0.003ミクロンのろ過精度を実現しています。 メディア材質はPTFE、溶接ハウジングには電解研磨されたSUS316Lが使用されております。清浄度を確保するためにろ過した窒素でパージされ出荷されます。 様々な接続タイプをご用意しており、容易に取り付けられるようになっています。
半導体ガスフィルター用、ろ過精度0.003ミクロンの高性能インラインガスフィルターです。
GasProフィルターは、半導体ガスフィルター用として特別に設計されています。全溶接構造になっており、大流量が必要でスペースが限られているところでも0.003ミクロンのろ過精度を実現しています。 メディア材質はPTFE、溶接ハウジングには電解研磨されたSUS316Lが使用されております。清浄度を確保するためにろ過した窒素でパージされ出荷されます。 様々な接続タイプをご用意しており、容易に取り付けられるようになっています。
【選定ガイド進呈中】4ステップで簡単選定！様々なガスフィルターからご状況に適したモデルを選定できます！
サヤマトレーディングではPorvair社の多様なガスフィルターを取り扱っています。 TEM 高性能ガスフィルターの選定ガイドの手順１～４を参照し、TEMからはじまるシリーズ名と、継手をご指定ください。 ＜選定手順＞ ・ステップ１ ガスの温度 ・ステップ２ ガスの種類 ・ステップ３ ガスの流量 ・ステップ４ 継手のサイズと形状 →ご状況に適したガスフィルターの選定が簡単4ステップで完了します！ ※詳しくはPDFダウンロード、またはお問い合わせください。
