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顕微鏡の試料位置決めをナノ精度で実現するPIMars XYZナノステージ
電子顕微鏡（SEM / TEM）による高分解能観察では、試料の位置決め精度が画像品質を左右します。わずかな振動やクロストークが測定精度に影響を与えるため、高剛性かつ高応答なポジショニングステージが不可欠です。 P-561・P-562・P-563・PIMars Nanopositioning Stages は、静電容量式センサーにより高精度と位置決め安定性を実現。動作量は、XYZ 各100／200／300 µm（モデル別）で再現性は±2nm、リニアリティ：0.03％をもちます。 【活用シーン】 ・電子顕微鏡観察における試料の位置決め ・半導体検査 ・超解像顕微鏡 ・フォトニクス調整 【導入の効果】 ・ナノオーダーでの精密な位置決めにより、観察精度が向上 ・高分解能と高速応答により、効率的な観察が可能 ・高信頼性と長寿命により、安定した運用を実現
10 kHzの高速応答。高分解能2軸Tip/Tiltで光通信のビーム制御を高度化
光通信分野では、光ファイバー結合や自由空間光通信において、ビームの角度制御精度と応答速度が通信品質を左右します。わずかなズレや振動でも結合効率の低下やリンク不安定化につながるため、高速かつ高分解能な補正機構が不可欠です。 S-331は、最大10 kHzの高い共振周波数と±5 mradの動作角を備えた2軸Tip/Tiltピエゾステージです。優れたダイナミクス性能によりリアルタイムなビーム補正を実現し、光信号の安定化と高効率な結合をサポート。次世代光通信システムの高信頼化に貢献します。 【活用シーン】 ・光ファイバー高精度アライメント ・自由空間光通信（FSO） ・レーザービームステアリング ・光リンクの安定化制御 【導入の効果】 ・高速・高精度なビーム角度制御 ・結合効率の向上と損失低減 ・リアルタイム補正による通信安定化 ・システム全体の性能向上
共振周波数10 kHz。高速・高分解能を両立するフォトニクス向けTip/Tiltステージ
フォトニクス分野では、レーザービームの角度制御や位置安定性が、結合効率やシステム性能を大きく左右します。特に光ファイバー結合やビームステアリング、高速補正制御では、高い応答性と分解能、そして優れたダイナミクス特性が不可欠です。 S-331は、最大10 kHzの高い共振周波数を誇る高速Tip/Tiltピエゾステージです。高分解能かつ高速応答を両立し、リアルタイムでのビーム補正や精密な角度制御を実現。フォトニクスシステムにおける集光効率向上と安定動作に貢献します。 【活用シーン】 ・レーザービームステアリング ・光ファイバーへの高効率結合 ・高速ビーム補正制御 ・光学アライメント／安定化用途 【導入の効果】 ・高速かつ高精度なビーム角度制御 ・結合効率の向上と損失低減 ・リアルタイム補正による安定化 ・フォトニクス装置の性能最大化
高速ステアリングミラー用途に最適な高ダイナミクスチップチルトステージ
光学システムでは、光ビームの微細な角度調整や光軸制御が性能を左右する重要な要素です。特に、レーザー加工や光通信、ビーム制御などの分野では、高速かつ高精度な角度制御が求められます。 S-330 ピエゾチップ／チルトプラットフォームは、ピエゾアクチュエータによる高速応答と高分解能を実現したTip/Tiltステージです。サブミリ秒の応答と優れた位置安定性により、高速ステアリングミラー用途や精密な光学アライメントに最適です。 【活用シーン】 ・レーザービームの精密な角度制御 ・光ファイバーアライメント ・光学顕微鏡の光軸調整 ・ビームステアリング／ビーム安定化 【導入の効果】 ・高速応答による調整時間の短縮 ・高分解能による光学システムの高精度化 ・ダイナミック制御による装置性能の向上
顕微鏡試料のナノ精度走査に。0.1nm分解能と高リニアリティで安定した位置決めを実現
顕微鏡分野では、試料の精密な走査が求められます。特に、高倍率での観察や微細構造の解析においては、正確な位置決めが不可欠です。位置ずれは、観察像の劣化や測定精度の低下につながる可能性があります。PIHera P-620.1/629.1 シリーズは、0.1 nm分解能と高精度な位置決めにより、これらの課題を解決します。 【活用シーン】 ・顕微鏡試料走査 ・光学アライメント ・干渉計測 【導入の効果】 ・高精度な観察と測定 ・微細構造の正確な解析 ・実験効率の向上 詳細な製品仕様についてはカタログからご確認いただけます。ご質問などございましたら、ぜひお問い合わせください。
44mm角の筐体で、高さ計測をナノレベルで実現。
精密測定の分野では、正確な高さ計測が不可欠です。特に、微細な構造物の測定や、表面形状の精密なプロファイリングにおいては、ナノレベルの精度が求められます。従来の測定方法では、振動や温度変化の影響を受けやすく、正確な測定が困難な場合があります。P-611.Zは、最大0.2nmの分解能と0.1%のリニアリティを実現し、高さ計測における課題を解決します。 【活用シーン】 ・半導体デバイスの高さ測定 ・MEMSデバイスの形状測定 ・光学部品の厚さ測定 ・表面粗さ測定 【導入の効果】 ・ナノレベルでの高さ測定が可能 ・測定時間の短縮 ・測定精度の向上 ・製品品質の向上
