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レーザ光スキャニングに適しています
■大径ミラーにもカスタム対応 駆動源のピエゾ素子は高い発生力（数百Nクラス）を持っているため、重量のある大径ミラーでも安定して高精度に位置決めが可能です。 ■角度制御も容易 角度を数値指定して移動させる「静的動作」も、連続的に往復振動させる「振動動作」も、コントローラ／ドライバを介して簡単に行えます。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
対物レンズの焦点調整用に専用設計したピエゾステージ
■各メーカの対物レンズが取り付け可能 ・各メーカのレンズねじ径に適合できるよう4種類のねじサイズから選択できます。 ・別売で“ねじ径変換アダプタ”も用意しています。 ・規格外のレンズの取り付けもご相談ください。 選べる4つのタイプ 【横型タイプ】 ・本体の厚みを抑えた構造です。 ・ストロークのバリエーションが豊富で、長い移動量を必要とする場合はこのタイプから選定します。 【縦型タイプ】 ・剛性が高く応答性を重視したタイプです。 ・重いレンズや鏡筒の長いレンズを使用する場合、あるいは高速フォーカスを求める場合に適しています。 【箱型タイプ】 ・対物レンズを中心とした対称形両持ち構造とし、高重量のレンズでも安定したフォーカスが行えます。 ・4本のねじで確実に設置固定でき、製造装置や検査装置への組み込み搭載に適しています。 【鏡筒用】 ・顕微鏡の鏡筒を取り付けてフォーカス方向に微調できます。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
最高1nmの分解能を備えたステージや、±20nmの繰り返し再現性を実現したステージを提供。1台からカスタムにも対応可能
製品の微細化が進む半導体分野やシリコンフォトニクス等の光学分野において 位置決め精度への要求はますます高まっていますが、ナノメートルオーダーの 超精密位置決めの実現には、機構と制御のマッチが不可欠です。 当社は、超精密位置決めに適した製品『ピエゾステージ』の専門メーカーとして 20年以上の実績があり、カタログ規格品を豊富にラインアップしています。 さらに、カスタム設計にも積極的に対応しており、 規格品からでは選定が難しい場合にも用途に合った製品を提供可能です。 【ラインアップ】 ＜超精密ピエゾステージ＞ ■800μm以下の微小な領域において最高1nmの分解能と高速応答の超精密位置制御が可能 ■ミラー用チルトや対物フォーカス用など種類が豊富 ＜精密ピエゾモータステージ＞ ■25mmまでの移動量において±20nmの繰り返し再現性で信頼性の高い位置制御を実現 ■電源オフの状態でもセルフロッキングにより位置を保持 ※詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。
超ロングストロークピエゾステージ1軸（組み合わせ次第で多軸可能）
超ロングストローク・ピエゾステージのMT-53-PMは、ケーブルの引き出し方向変更可能です。複数個の組み合わせにより、多軸ステージ構築可。真空対応可。Ｎｏｎ－ｍａｇｕｎｅｔｉｃオプション可。クリーンルーム納品仕様可。また、MT84は、高真空対応、クリーンルーム仕様納品ができ非磁性オプションが可能です。さらにMT105は、アダプタープレートを使用せずにXYステージ組立ができ、取付金具でZ方向も組立可能です。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。
長ストロークと3nm微動を両立し、高倍率観察時の位置ズレやドリフトを抑制
・トラベルレンジ：25mmと50mmタイプ ・75 N のアクティブフォース ・3 nm ミニマムインクリメンタルモーション ・電源オフ時のセルフロッキング ・多軸セットアップ対応：XY、XZ、XYZ ・真空対応
±250µm＋±26.2mradの6自由度補正で、ファイバーアライメント時の光軸ズレを低減
NanoCube P-616.65S は、X・Y・Z の直線移動に加え、θX・θY・θZ の回転まで含む 6軸ナノポジショニングを実現する多自由度ピエゾステージです。 パラレルキネマティクスとフレクシャガイド構造により、従来ステージでは達成できない 高剛性・低クロストーク・高ダイナミクス動作を提供します。 ±250 µm の移動レンジと ±26.2 mrad の回転レンジを持ち、ナノメートル単位の微細位置決めが可能。フォトニクス、ファイバーアライメントなど、サブミクロン精度が求められる環境で威力を発揮します。
250μm行程 X向运动 电压信号驱动 250μm travel in X, controlled by voltage
P60.X250 pieozステージは、薄型のピエゾナノポジショニングステージであり、その移動範囲はXで200μmに達することができ、閉ループフィードバックセンサーを選択してより高い精度を得ることができます。 カスタム低温真空バージョンが利用可能です。 P60.X250 pieoz stage is a low-profile piezo nanopositioning stage, its travel range can reach 200μm in X, and a closed-loop feedback sensor can be selected to obtain higher precision. Custom low temperature vacuum versions available.
レーザー干渉計の高速レンズ位置決めや大口径ミラー位置決めに最適！
変位センサー内蔵タイプはクローズドピエゾコントローラーと組合せることで、 高精度な位置決めが可能です。 その他詳細はカタログをダウンロード、もしくはお問い合わせください。
半導体製造における高精度位置決めを実現。素早く正確な整定動作
半導体業界では、製造プロセスの微細化に伴い、高精度な位置決めが不可欠です。特に、ウェーハの検査や露光工程においては、わずかな位置ずれが製品の品質を大きく左右します。P-620.1/629.1は、これらの課題に対応し、高精度な位置決めを実現します。内臓の静電容量型センサーにより、リニアリティエラー0.02%を達成し、半導体製造における歩留まり向上に貢献します。 【活用シーン】 ・ウェーハ検査 ・露光工程 ・光学アライメント ・干渉計測 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる品質向上 ・歩留まりの向上 ・製造プロセスの効率化 詳細な製品仕様についてはカタログからご確認いただけます。ご質問などございましたら、ぜひお問い合わせください。
0.1nm分解能と高リニアリティで、ナノレベル計測を安定化。
ナノテクノロジー分野の計測において、正確な位置決めは極めて重要です。微細構造の観察、精密な加工、高度な実験には、ナノメートルレベルの精度が求められます。位置決めの誤差は、計測結果の信頼性を損ない、研究の進捗を妨げる可能性があります。PI社の0.1nm分解能ナノポジショナは、内蔵静電容量型センサーとフレクシャガイドにより、高精度な位置決めを実現し、これらの課題を解決します。 【活用シーン】 ・顕微鏡試料走査 ・光学アライメント ・干渉計測 【導入の効果】 ・高精度な計測データの取得 ・実験の再現性の向上 ・研究開発の効率化
0.1nm分解能と高安定制御でやさしいナノ位置決め。
バイオテクノロジー分野、特に細胞操作においては、細胞へのダメージを最小限に抑えつつ、正確な位置決めが求められます。細胞培養、顕微鏡観察、マイクロインジェクションなど、ナノレベルの精度が生命現象の解明に不可欠です。不正確な位置決めは、実験の失敗やデータの信頼性低下につながる可能性があります。PI社の0.1nm分解能ナノポジショナは、細胞操作における精密な位置決めを可能にし、研究の効率化と精度の向上に貢献します。 【活用シーン】 ・細胞培養 ・顕微鏡観察 ・マイクロインジェクション ・細胞の選別 【導入の効果】 ・細胞へのダメージを最小限に抑え、実験の成功率を向上 ・正確な位置決めにより、実験データの信頼性を向上 ・研究の効率化と、より詳細な観察を実現
100 µmストローク、サブナノ分解能、210 g負荷時560 Hzの高応答フォーカススキャナ
バイオテクノロジー分野における細胞観察では、微小なフォーカス変動が画像品質に影響を与えます。P-726 PIFOCは、100 µmのZストロークとサブナノメートル分解能を備えた高荷重対応フォーカススキャナです。静電容量センサーによる直接位置フィードバックとフレクシャガイド構造により、高い位置決め精度と再現性を実現します。 さらに、210 g負荷時で560 Hzの共振周波数を持ち、高NA対物レンズ搭載時でも高い動的性能を維持。高速セットリング（約6ms）により、Zスタック取得やフォーカススキャンを効率化します。 【活用シーン】 ・共焦点顕微鏡 ・超解像顕微鏡 ・ライブセルイメージング ・Zスタック取得を伴う3Dイメージング 【導入の効果】 ・高精度フォーカス制御による画像安定性向上 ・高速Z応答による測定効率改善 ・高荷重対応による光学系設計自由度向上 ・再現性の高いフォーカス位置決め
最大1800µmの長ストロークとナノ精度。独自の静電容量センサーで、物理的接触をせずに位置測定
半導体製造のウェーハやマスクの位置決めにおいて、高い精度と安定性が求められます。ナノメートルレベルの位置決め精度が製品の品質を左右します。位置決めの誤差は、歩留まりの低下や製品不良につながる可能性があります。P-620.2〜P-629.2 PIHera(R)シリーズは、長寿命のPICMA(R)アクチュエータを採用したXY軸ピエゾナノポジショニングステージです。静電容量式センサーを用いたクローズドループ制御により、優れた直線性と安定性を両立し、1nm以下の高分解能、±0.2nmの双方向再現性を提供します。 【活用シーン】 ・半導体製造装置 ・ウェーハ検査 ・マスクアライメント ・プロービング 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる歩留まり向上 ・安定した動作による生産性の向上 ・小型筐体による装置への組み込みやすさ ・長寿命アクチュエータによるメンテナンス性の向上
最大1800µmの長ストロークと、静電容量センサーによる優れた精度で顕微鏡のサンプル位置決めに最適
顕微鏡分野では、観察対象を高精度に走査し、鮮明な画像を得ることが求められます。特に、微細構造の観察や、細胞などの生体試料の観察においては、位置決めの精度が観察結果を大きく左右します。位置決め精度が低いと、ピントが合わず、正確な観察が困難になる可能性があります。小型XY軸ピエゾステージは、1nm以下の高分解能と±0.2nmの双方向再現性により、高精度な走査を実現します。 【活用シーン】 ・顕微鏡観察における試料の走査 ・高倍率観察時の微調整 ・細胞イメージング 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる鮮明な画像取得 ・観察時間の短縮 ・実験の再現性向上
細胞操作・ライブセル観察に最適。サブナノ精度で安定したXY位置決めを実現。
バイオテクノロジー分野、とくに細胞操作やライブセル観察では、試料の微小な位置ずれが観察結果に大きな影響を与えます。細胞へのダメージを最小限に抑えながら、滑らかで高精度な位置決めを行うためには、サブナノメートル分解能と高い再現性が不可欠です。本製品は、1nm以下の高分解能と±0.2nmの双方向再現性を提供し、細胞操作における高い信頼性と効率性を実現します。 【活用シーン】 ・バイオセンサ評価 ・マイクロ流体デバイスへの組み込み 【導入の効果】 ・実験の再現性向上 ・研究効率の向上 ・詳細な製品仕様については、カタログよりご確認ください。
高倍率観察を支えるナノレベル走査。66mm開口のZ・チップチルトピエゾステージ
顕微鏡走査では、試料や対物レンズのわずかな位置ずれや傾きが、画像の解像度やコントラストに大きく影響します。特に高倍率観察や微細構造解析では、ナノメートルレベルのZ制御と角度補正、そして高い安定性が不可欠です。 P-518／P-528シリーズは、Z軸100µm／200µmストロークとチップチルト制御を組み合わせた高精度ピエゾステージです。66mmの大開口設計により透過観察にも対応。高いリニアリティと再現性により、ブレや歪みを抑えた高品質な画像取得を実現し、顕微鏡システムの性能向上に貢献します。 【活用シーン】 ・共焦点顕微鏡 ・蛍光顕微鏡 ・走査型プローブ顕微鏡（SPM） ・細胞・ライブセル観察 ・材料／微細構造解析 【導入の効果】 ・ナノレベルの高精度Z走査 ・チップチルト補正による像の安定化 ・透過観察に対応する66mm開口 ・高分解能画像取得と再現性向上 ・研究開発効率の向上
ナノレベルのZ・チップチルト制御を実現。66mm開口の高精度ピエゾステージ
精密測定分野では、わずかな位置ずれや角度誤差が測定結果に大きく影響します。特に微細構造の評価や透過光を用いた計測では、ナノレベルの分解能と高い安定性、さらに十分な開口径が求められます。 P-518／P-528シリーズは、Z軸ストローク100µm／200µmとチップチルト制御を組み合わせた高精度ピエゾステージです。66mmの大開口設計により透過光計測にも対応し、高いリニアリティと再現性を実現。精密測定やアライメント工程における信頼性向上に貢献します。 【活用シーン】 ・半導体検査・評価装置 ・フォトニクス／光学計測 ・顕微鏡・干渉計システム ・高精度アライメント用途 【導入の効果】 ・ナノレベルでの高精度Z・角度調整 ・66mm開口による透過光計測対応 ・高い直線性と安定性による測定信頼性向上
ナノレベル動作と大開口で、フォトニクス分野のアライメントを最適化
フォトニクス分野のアライメント作業では、光ファイバーやレンズなどの精密な位置調整が求められます。特に、光軸のずれは、測定精度や効率を大きく左右するため、ナノレベルでの精密な位置決めが重要です。Z・チップ・チルト開口部付ピエゾステージ P-5x8は、これらの課題に対し、高精度な位置決めと広い開口部による透過光測定の実現で貢献します。 【活用シーン】 ・光ファイバーアライメント ・レンズアライメント ・干渉計測 ・透過光アプリケーション 【導入の効果】 ・ナノレベルでの精密な位置決めによるアライメント精度の向上 ・66mm×66mmの開口部による透過光測定の効率化 ・高信頼性PICMAピエゾセラミックスによる長寿命化 ・静電容量センサーによる高いリニアリティ
100 µm × 3軸。光学アライメントをナノ精度で実現するコンパクトXYZピエゾステージ
光学システムにおいて、ビーム位置や光軸のわずかなずれは、結合効率や測定精度に大きく影響します。特に干渉計測、レーザー集光、ファイバーアライメントなどの用途では、サブミクロン以下の位置制御が不可欠です。 P-616 NanoCubeは、各軸100 µmの動作範囲を備えたコンパクトなXYZピエゾナノポジショナーです。フレクシャガイド構造によりバックラッシュのない高直線性動作を実現。ナノメートル分解能での微細位置決めと高い機械的安定性により、光学系の精密アライメントを高い再現性でサポートします。 研究用途から装置組込みまで対応可能な設計で、フォトニクス分野の高度な位置制御ニーズに応えます。 【活用シーン】 ・光ファイバーアライメント（結合効率最適化） ・レーザー集光位置の微調整 ・干渉計・ホログラフィー装置 ・顕微鏡ステージ微動制御 ・フォトニクス研究装置への組込み 【導入の効果】 ・ナノ分解能による光軸調整精度向上 ・バックラッシュレス構造による高再現性 ・高剛性フレクシャ設計によるドリフト低減 ・コンパクト設計による装置内組込み容易化
微細レーザー加工の焦点・位置制御を支える、100 µm × 3軸ナノポジショナー
レーザー微細加工では、ビーム位置や焦点のわずかなずれが加工品質に直結します。特にマイクロ加工や高アスペクト比加工では、サブミクロンレベルでの精密な位置制御が不可欠です。P-616 NanoCubeは、各軸100 µmストロークを備えたコンパクトなXYZピエゾナノポジショナーです。高剛性フレクシャガイド構造によりバックラッシュのない高直線性動作を実現し、ナノメートル分解能での微細位置調整が可能です。 レーザー加工装置に組み込むことで、 ・ビーム位置の微調整 ・焦点位置の高精度制御 ・加工位置の補正用途 に対応し、微細加工の安定性向上をサポートします。 【活用シーン】 ・レーザー微細加工装置への組込み ・フォーカス位置の精密制御 ・マイクロ穴あけ加工の位置補正 ・薄膜加工・精密パターニング 【導入の効果】 ・ナノメートル分解能による焦点位置の高精度制御 ・バックラッシュレス構造による高再現性 ・コンパクト設計で装置内組込みが容易 ・微細加工品質の安定化
高倍率観察をナノメートル分解能で支える、100 µm × 3軸コンパクトXYZピエゾステージ
高倍率顕微鏡観察では、わずかな位置ずれが像の鮮明さや再現性に大きく影響します。特に共焦点顕微鏡や蛍光顕微鏡、ライブセル観察では、サブミクロン以下の精密なXYZ制御が不可欠です。P-616 NanoCubeは、各軸100 µmの動作範囲を持つコンパクトなXYZピエゾナノポジショナーです。高剛性フレクシャガイド構造によりバックラッシュのない滑らかな動作を実現し、ナノメートル分解能での微細位置決めが可能です。 Z軸フォーカス制御やXYスキャン用途にも対応し、研究用途から装置組込みまで幅広く活用できます。 【活用シーン】 ・共焦点顕微鏡のZ軸フォーカス制御 ・蛍光顕微鏡での多点観察 ・ライブセルイメージング ・高倍率対物レンズ下での微動位置決め ・ナノスケール材料観察 【導入の効果】 ・ナノメートル分解能による高精度フォーカス制御 ・バックラッシュレス構造による高再現性 ・高剛性設計による安定したスキャン動作 ・コンパクト設計で既存顕微鏡への組込みが容易
10 kHzの高速応答でビームを精密制御。レーザー加工向けTip/Tiltステージ
レーザー加工では、ビームの角度や位置のわずかな変動が、加工精度や仕上がり品質に直結します。特に微細加工や高速スキャニング工程では、高速応答性と高分解能を兼ね備えたビーム制御機構が不可欠です。 S-331は、最大10 kHzの高い共振周波数と±5 mradの動作角を備えた高速Tip/Tiltピエゾステージです。優れたダイナミクス性能によりリアルタイムでのビーム補正を実現し、焦点ずれや加工ムラを低減。高精度かつ安定したレーザー加工プロセスの構築に貢献します。 【活用シーン】 ・レーザービームの高速ステアリング ・微細穴あけ／溝加工などの精密加工 ・加工中のリアルタイムビーム補正 ・高精度アライメント制御 【導入の効果】 ・加工精度と再現性の向上 ・高速応答による加工効率の改善 ・加工ムラ低減と歩留まり向上 ・装置性能の高度化
44mm角の筐体で、光学系の焦点調整をナノレベルで実現
光学業界では、高精度な焦点調整が求められます。特に、顕微鏡やレーザー加工機など、微細な操作が要求される場面では、正確な位置決めが不可欠です。わずかなズレが、測定結果の誤差や加工精度の低下につながる可能性があります。当社の小型Z軸ピエゾステージ P-611.Zは、2nm分解能での精密な焦点調整を実現し、光学系の性能を最大限に引き出します。 【活用シーン】 ・顕微鏡の対物レンズの焦点調整 ・レーザー加工機の焦点調整 ・光学測定器の精密位置決め 【導入の効果】 ・高精度な焦点調整による測定精度向上 ・微細加工における歩留まり向上 ・装置の性能向上と安定化
ピエゾステージの選定に！最高1nmの分解能と優れた応答性！応用例も掲載中
最高1nmの分解能をもった超高分解能・高速応答のピエゾステージです。 内蔵変位センサによるフィードバック制御で信頼性の高い位置決めを行うことが出来ます。 【使用例】 ■半導体･液晶検査装置、干渉計機器、分析装置、顕微鏡レンズフォーカス、超精密加工、レーザー関連機器、ナノメータポジショニングなど・・・ 【ここが選ばれる理由】 ■1品からのカスタム対応 ■真空・非磁性対応可 ■組み合わせユニット対応 豊富なラインナップ、応用例を多数掲載中！ 詳しくはカタログをダウンロード、もしくはお問い合わせください。
ナノレベルの調整を実現する、開口部付きピエゾステージ
光学系の調整において、光軸のわずかなズレは分解能や測定精度に大きく影響します。特に干渉計や高分解能顕微鏡、精密アライメント用途では、ナノレベルでのZ制御とチップ・チルト調整が不可欠です。 P-518／P-528シリーズは、Z軸100µm／200µmストロークとチップチルト1mrad／2mradの高精度制御を実現。66mmの大開口設計により、透過光アプリケーションにも最適です。高剛性フレクシャガイド構造により安定した再現性を確保し、光学調整作業の精度向上と効率化に貢献します。 【活用シーン】 ・顕微鏡の対物レンズ・サンプル調整 ・光ファイバーアライメント ・干渉計・波面計測システム ・半導体検査装置 【導入の効果】 ・ナノレベルのZ・角度調整 ・透過光光学系への柔軟な対応 ・安定した光軸維持による測定精度向上 ・調整時間短縮による作業効率改善
半導体装置の微細位置補正に。100 µm × 3軸ナノポジショナー
半導体プロセスや検査装置では、サブミクロンレベルでの位置補正や焦点調整が品質安定化の鍵となります。特に検査工程や微細加工工程では、ナノメートル分解能での高精度位置制御が求められます。P-616 NanoCubeは、各軸100 µmのストロークを備えたコンパクトなXYZピエゾナノポジショナーです。高剛性フレクシャガイド構造によりバックラッシュのない滑らかな動作を実現し、ナノメートル分解能での微細位置調整が可能です。 半導体製造装置内の微動補正ステージや検査装置への組込み用途に適しています。 【活用シーン】 ・ウェーハ検査装置の微細位置補正 ・マスク検査工程 ・レーザーアニール装置の焦点調整 ・プロービング装置の微動制御 ・半導体研究開発用途 【導入の効果】 ・ナノメートル分解能による高精度位置補正 ・バックラッシュレス構造による高再現性 ・コンパクト設計で装置組込みが容易 ・微細工程の安定化に貢献
ナノスケール位置制御を支える、100 µm × 3軸コンパクトXYZピエゾステージ
ナノテクノロジー分野では、試料やプローブの位置制御精度が実験結果の再現性を左右します。走査型プローブ顕微鏡（SPM）やナノリソグラフィー用途では、ナノメートル分解能での安定したXYZ制御が求められます。P-616 NanoCubeは、各軸100 µmのストロークを備えたコンパクトなXYZピエゾナノポジショナーです。高剛性フレクシャガイド構造によりバックラッシュのない滑らかな動作を実現し、ナノメートル分解能での高精度位置決めが可能です。 研究用途から装置組込みまで対応し、ナノスケール計測・加工・評価を支える位置制御プラットフォームとして活用されています。 【活用シーン】 ・走査型プローブ顕微鏡（SPM／AFM／STM） ・ナノリソグラフィー装置 ・ナノ材料評価 ・ナノデバイス研究開発 ・高精度試料位置決め 【導入の効果】 ・ナノメートル分解能による高精度位置制御 ・バックラッシュレス構造による高再現性 ・高剛性設計による安定したスキャン ・コンパクト設計で真空装置や研究装置への組込みが容易
顕微鏡の試料位置決めをナノ精度で実現するPIMars XYZナノステージ
電子顕微鏡（SEM / TEM）による高分解能観察では、試料の位置決め精度が画像品質を左右します。わずかな振動やクロストークが測定精度に影響を与えるため、高剛性かつ高応答なポジショニングステージが不可欠です。 P-561・P-562・P-563・PIMars Nanopositioning Stages は、静電容量式センサーにより高精度と位置決め安定性を実現。動作量は、XYZ 各100／200／300 µm（モデル別）で再現性は±2nm、リニアリティ：0.03％をもちます。 【活用シーン】 ・電子顕微鏡観察における試料の位置決め ・半導体検査 ・超解像顕微鏡 ・フォトニクス調整 【導入の効果】 ・ナノオーダーでの精密な位置決めにより、観察精度が向上 ・高分解能と高速応答により、効率的な観察が可能 ・高信頼性と長寿命により、安定した運用を実現
10 kHzの高速応答。高分解能2軸Tip/Tiltで光通信のビーム制御を高度化
光通信分野では、光ファイバー結合や自由空間光通信において、ビームの角度制御精度と応答速度が通信品質を左右します。わずかなズレや振動でも結合効率の低下やリンク不安定化につながるため、高速かつ高分解能な補正機構が不可欠です。 S-331は、最大10 kHzの高い共振周波数と±5 mradの動作角を備えた2軸Tip/Tiltピエゾステージです。優れたダイナミクス性能によりリアルタイムなビーム補正を実現し、光信号の安定化と高効率な結合をサポート。次世代光通信システムの高信頼化に貢献します。 【活用シーン】 ・光ファイバー高精度アライメント ・自由空間光通信（FSO） ・レーザービームステアリング ・光リンクの安定化制御 【導入の効果】 ・高速・高精度なビーム角度制御 ・結合効率の向上と損失低減 ・リアルタイム補正による通信安定化 ・システム全体の性能向上
共振周波数10 kHz。高速・高分解能を両立するフォトニクス向けTip/Tiltステージ
フォトニクス分野では、レーザービームの角度制御や位置安定性が、結合効率やシステム性能を大きく左右します。特に光ファイバー結合やビームステアリング、高速補正制御では、高い応答性と分解能、そして優れたダイナミクス特性が不可欠です。 S-331は、最大10 kHzの高い共振周波数を誇る高速Tip/Tiltピエゾステージです。高分解能かつ高速応答を両立し、リアルタイムでのビーム補正や精密な角度制御を実現。フォトニクスシステムにおける集光効率向上と安定動作に貢献します。 【活用シーン】 ・レーザービームステアリング ・光ファイバーへの高効率結合 ・高速ビーム補正制御 ・光学アライメント／安定化用途 【導入の効果】 ・高速かつ高精度なビーム角度制御 ・結合効率の向上と損失低減 ・リアルタイム補正による安定化 ・フォトニクス装置の性能最大化
