粉体用大気圧プラズマ処理装置
改質Revolution！
・本装置は、大気圧プラズマを用いて、粉体の表面改質を行う装置です。 ・容器内の粉体にグロープラズマを当て、回転揺動による撹拌で均一な処理が可能です。 ・危険な溶媒を用いない､完全なドライプロセスでの処理を可能とし､環境に優しく生産性に優れた装置です｡ ・冷却機構を搭載しており、低融点の粉体にも対応できます。
- 企業：株式会社ジェイ・サイエンス・ラボ 本社
- 価格：応相談
プラズマ処理装置 - 企業14社の製品一覧とランキング
更新日： 集計期間:2025年03月26日～2025年04月22日
※当サイトの各ページの閲覧回数を元に算出したランキングです。
企業ランキング
更新日： 集計期間:2025年03月26日～2025年04月22日
※当サイトの各ページの閲覧回数を元に算出したランキングです。
- 株式会社アルス 大阪府/産業用機械
- 株式会社電子技研 大阪府/産業用機械
- 株式会社日立ハイテク 東京都/産業用機械
- 4 神港精機株式会社 東京都/産業用機械 東京支店
- 5 株式会社ジェイ・サイエンス・ラボ 京都府/試験・分析・測定 本社
製品ランキング
更新日： 集計期間:2025年03月26日～2025年04月22日
※当サイトの各ページの閲覧回数を元に算出したランキングです。
- ハンディタイプ大気圧プラズマ処理装置『ピエゾブラッシュPZ3』 株式会社アルス
- 大気圧プラズマ処理装置 Arc Jet式 株式会社日立ハイテク
- 巻取式プラズマ処理装置（RtoRプラズマ装置 評価テスト受付中） 神港精機株式会社 東京支店
- 粉体用大気圧プラズマ処理装置 株式会社ジェイ・サイエンス・ラボ 本社
- 4 ロールtoロール式 減圧プラズマ処理装置『PR Series』 株式会社電子技研
製品一覧
1～15 件を表示 ／ 全 28 件
表示件数
ガス不要！有機物を除去可能な小型のプラズマ処理装置
面状の大気圧プラズマで表面クリーニング！直径50mm内の平面で均一に処理可能！
卓上大気圧アッシャーとは、水や洗剤を使わず、大気圧プラズマにより有機物を除去可能な小型のプラズマ処理装置です。 搬送機で動かすことなく、直径50mm内の平面で均一に処理可能です。 大気圧での有機物除去とクリーニング用途等【面】状のワークに適しています。 【特徴】 ■点でもなく線でもなく『面』を一気に処理可能 ■実験に適している小型卓上サイズ ■ガス供給と真空排気設備が不要 【用途】 ■接着・コーティング前処理 ■機械用品の洗浄 ■光学部品（レンズ・ミラー）の洗浄 ■細胞培養容器などの前処理 ※詳細はカタログのダウンロードもしくはお気軽にお問い合わせください。
- 企業：株式会社魁半導体
- 価格：応相談
バレルタイププラズマ処理装置 ＰＢシリーズ
等方性プラズマを利用 微細なパターンやチューブ形状内面の洗浄、改質に最適！
バレルタイププラズマ処理装置「ＰＢシリーズ」は、等方性真空プラズマを利用して有機物の除去（Ashing）や油分の除去（Cleaning）、珪素化合物（ＳｉＯ2，ＳｉＮ）のEtching、濡れ性改善等の処理が溶液（Ｗｅt）を使用すること無く行える装置です。良環境性（クリーンな作業環境、無廃液）と低ランニングコストを実現します。 全方向から処理が進行し、対象物の形状に問わず、ナノレベルの処理、洗浄、改質の効果を発揮します。 【装置特徴】 ■サンプル形状を選ばない自由な処理（円筒形処理室／等方性プラズマ） ■多様なプロセス：Ａｓｈｉｎｇ（洗浄）、Ｅｔｃｈｉｎｇ、表面改質等 ■部品は全てクリーンルーム対応（半導体製造装置として使用可能） ■廉価、小フットプリント設計 ■量産装置としてお使い頂ける安全仕様 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
- 企業：株式会社電子技研
- 価格：応相談
ロールtoロール式 減圧プラズマ処理装置『PR Series』
ロール状フィルム基材の処理に対応。 減圧プラズマ処理により、アッシング・エッチングの他、表面改質処理（官能基付与）が可能。
『PR Series』は、減圧下でプラズマ処理が可能なロールtoロールタイプの処理装置です。 レジストアッシング、絶縁膜エッチングをはじめ、 用途に応じた様々な官能基（親水 親油 密着性向上 など）を 基材表面に強固に付与することができます。 本社にデモ機を完備し、随時プロセス評価処理をお請けしております。 詳しくはお問い合わせください。 【特長】 ■ロールtoロールタイプ ■減圧下でプラズマ処理 ・大気圧装置と比べて有機物除去効果や表面改質効果が高い ・大気圧装置では出来なかったプロセスも対応（各種官能基修飾など） ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：株式会社電子技研
- 価格：応相談
枚葉式プラズマ処理装置 WLP-611S、WLP-600S
価格は低廉であり、搭載されたシーケンサにより各エッチング条件の管理を行う事が出来る高性能でコストパフォーマンスに優れた装置。
ＷＬＰは多様化したアプリケーションに対応する為、ＲＦパワーを下部電極に印加（ＲＩＥ方式）又は、上部電極に印加（ＤＰ方式）を実現しております。 ６～８インチのＳｉ、Ｐｏｌｙ-Ｓｉなどのエッチングやポリミド系樹脂のエッチング及びフォトレジストのアッシングなど多種多様なプロセスに御利用頂けます。
- 企業：株式会社エスクラフト
- 価格：応相談
大気圧プラズマ処理装置 ダイレクト式
アジア有力企業において多数の実績あり。
対抗電極下で安定したプラズマを発生させます。 さらに、誘電体を電極間に入れることにより、安定したプラズマを 発生、維持させることが出来ます。 ■処理対象 対象ワーク表面の改質／粗化(接合強度の向上、密着性の向上） 対象ワーク表面の有機物除去 【特徴】 ■幅広対応: ～2 250mm ■優れた表面改質性能 ■物理的、化学的に処理が可能 ■メンテナンスフリー ■各種反応ガスの使用が可能: CDA(Clean Dry Air) N2 Ar O2等 詳しくはカタログをダウンロード、もしくはお問い合わせください。
- 企業：株式会社日立ハイテク
- 価格：応相談
大気圧プラズマ処理装置 Arc Jet式
アジア有力企業において多数の実績あり。
極小箇所をピンポイント処理します。 ■処理対象 対象ワーク表面の改質／粗化(接合強度の向上、密着性の向上） 対象ワーク表面の有機物除去 【特徴】 ■処理幅の狭い面積に最適: 10/20/35mm ■ロボット機構との組み合わせにより立体物への処理が可能 ■各種反応ガスの使用が可能: CDA(Clean Dry Air) N2 Ar O2 等 詳しくはカタログをダウンロード、もしくはお問い合わせください。
- 企業：株式会社日立ハイテク
- 価格：応相談
【2019年モデル】ロールｔｏロール方式 プラズマ処理装置
【タクト比較約50%削減※】LCP、PTFE等の貼付け前処理、デスミア・ドライフィルムの除去に。（※自社従来製品比）
「ロールｔｏロール方式 プラズマ処理装置」が2019年モデルとしてアップグレードしました。 主な製品特長は下記を参考にしてください。 ＜製品特長＞ １．新電極採用 ・プラズマ密度のＵＰにより電極1枚辺りの処理効率が上昇 ・高速、高均一（面内均一性±15%以内）な処理を提供 ・Max 550mm幅対応可 ２．処理時間の短縮 ・プラズマ照射長を約50%削減（電極数：旧タイプ12枚 ⇒ 19年モデル7枚） ・両面処理にも対応（両面・片面処理選択可） ３．冷却性能ＵＰ ・冷却性をＵＰ、熱による基板のダメージを抑制 ※詳しくはPDFダウンロード、またはお問い合わせください。
- 企業：株式会社日立ハイテク
- 価格：応相談
卓上型真空プラズマ処理装置『SL-0600』
洗浄・表面処理・表面改質・接着強化に対応！ タイマー機能付！
『PCシリーズ』は、プラズマ放電にさらすことで、従来の洗浄方法では 難しかった表面汚物物質の除去ができる真空プラズマ処理装置です。 セラミック、プラスチック、PDMSなど多くの材質処理に対応可能。 また、洗浄以外にもポリマーへの薄膜形成、表面接着力強化、細胞培養の 前処理などあらゆる試料のプラズマ処理に対応します。 低価格でコンパクト設計なので、実験・研究・開発に適しております。 【特長】 ■表面汚物物質の除去が可能 ■セラミック、プラスチック、PDMSなど多くの材質処理に対応 ■あらゆる試料のプラズマ処理に対応 ■低価格 ■コンパクト設計 ■2～60秒までのタイマー機能付き
- 企業：ストレックス株式会社
- 価格：50万円 ~ 100万円
ハンディタイプ大気圧プラズマ処理装置『ピエゾブラッシュPZ3』
驚くほど小型！低温大気圧プラズマ装置！広範な用途に使用可能です。
『ピエゾブラッシュPZ3』は、研究や開発、少量生産用に開発された小型で ハンディタイプの大気圧プラズマ処理装置です。 圧電素子による直接放電(PDD)技術を使って、最大消費電力18Wで50℃以下の低温プラズマを発生させます。 プラズマ発生部の高圧トランスにはTDK社のCelaPlas圧電素子を使用しています。 【特長】 ■研究や開発、少量生産用 ■小型のハンディタイプ ■最大消費電力18Wで50℃以下の低温プラズマを発生 ■高圧トランスにはTDK社のCelaPlas圧電素子を使用 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：株式会社アルス
- 価格：10万円 ~ 50万円
PVAテプラ社マイクロ波プラズマ処理装置(前工程向け)
ユニークなウエハー移載機搭載のバッチ処理装置から枚葉処理装置まで、世界中のMEMSや半導体等のファブで使用されております。
2.45GHzのマイクロ波で励起された高密度のプラズマと、イオンの運動エネルギーを抑制することで、ダメージレスのプロセス結果を得ることができます。 ウエハープロセスにおけるアッシング、レジスト剥離、MEMSなどのSU-8レジストアッシング、デスカム処理、基板の表面クリーニングや表面活性化など、幅広いアプリケーションに対応できるよう設計されております。
- 企業：伯東株式会社 本社
- 価格：応相談
PVAテプラ社マイクロ波プラズマ処理装置(後工程向け)
世界中のOSATのお客様向けに多くの実績があり、信頼性のあるパフォーマンスでその地位を確立しております。
マイクロ波(2.45GHz)により高密度のプラズマを生成することで、非常に効果的な表面処理が可能となります。また、お客様の様々なパッケージング工程に対応したプロセス形態をご選択いただくことができます。 ダイアタッチ、ワイヤーボンディング、フリップチップ、アンダーフィル、 樹脂封止を含むチップパッケージングにおいて、基板のクリーニング、表面活性化の為に設計されています。
- 企業：伯東株式会社 本社
- 価格：応相談
巻取式プラズマ処理装置（RtoRプラズマ装置 評価テスト受付中）
繊維の搬送・処理に実績を持っており電子関連や先端材料まで幅広い用途に対応！
当社では、フィルムや金属箔などフレキシブルな基板のクリーニング・親水化などの 表面処理に適したRtoR式の「プラズマ処理装置」を取り扱っています。 真空プラズマにより基板や目的に合わせたプロセスガスやプラズマモードが 選択でき、大気圧プラズマでは困難なプロセスに対応しています。 実績豊富な巻取式スパッタリング装置と基本構造を共通化しており、 信頼性の向上とコスト低減を図っています。 薄膜成膜前の表面処理に有効で、有機物の除去や親水化などに 大きな効果が得られます。 【特長】 ■真空プラズマによる効果的な表面処理 ■プラズマモードが選択可能（DC・RF／イオンガン）でプロセスの最適化 ■柔軟なカスタマイズ対応 ※詳しくは、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：神港精機株式会社 東京支店
- 価格：応相談
ダメージレスで接着性＆濡れ性向上！大気圧広幅低温プラズマ処理機
デモ機有り！ 初回は無償でサンプル作成いたします。 安価なガスで低温ダメージレスな大気圧プラズマ処理をインラインで！
表面処理機でお困りの方は是非お声掛けください。 プラズマ処理機、コロナ処理機、フレーム処理機、各種処理装置を取り揃えております。 アクシス社の大気圧プラズマは樹脂、ガラスや金属などへの接着性、密着性、親水性、印刷性の向上、コーティング、塗装、接着、密着の前処理、有機物の除去や洗浄などのクリーニングとしても有効です。 金属、ガラス、樹脂の表面活性なら是非お試しください。 弊社にて濡れ性の確認テストがすぐに行えます。 N2 O2 H2といった各種ガスは常備しており、 サンプルをご持参いただければすぐに処理いたします。 小型電極は既存のラインへ設置が容易です。 ポテンシャルフリーなため対象物をダメージレスで処理が出来、 繊細な表面を持つプラスチックの光学フィルム、金属箔への処理に効果を発揮します。 裏抜けの心配もなく均一な表面処理が可能です。 プラズマ以外の様々なデモ機がございます。 詳しくは弊社HPまで！
- 企業：株式会社ケー・ブラッシュ商会 本社
- 価格：応相談
接着性＆濡れ性向上！大気圧プラズマ処理装置ULS
小型ノズルで取付場所を選びません。 狭いスペースでも処理が可能！デモ機あり！ サンプル作成可能です！
マーケット最小クラスのプラズマノズルで取付、扱いが簡単です。 その重さたったの280g！ 小型でありながら最大1000Wの出力で高速プラズマ処理が可能です。 特殊ガスを必要とせず、圧縮空気のみで動作できます。 タッチパネルで簡単操作、出力も自由に変更可能です。 最大1台の発信機で3本のノズルまで搭載可能。 デモ機でサンプル作成や貸出での現地テストも可能です。
- 企業：株式会社ケー・ブラッシュ商会 本社
- 価格：100万円 ~ 500万円
