薄膜コーティングのメーカーや取扱い企業、製品情報、参考価格、ランキングをまとめています。
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薄膜コーティング(薄膜) - メーカー・企業と製品の一覧

更新日: 集計期間:2025年10月08日~2025年11月04日
※当サイトの各ページの閲覧回数を元に算出したランキングです。

薄膜コーティングの製品一覧

31~45 件を表示 / 全 61 件

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スパッタ・蒸着源複合型 薄膜装置 【nanoPVD-ST15A】

真空蒸着(金属・有機蒸着源)、スパッタリングカソードの混在設置が可能な「複合型」薄膜実験装置 nanoPVD-ST15A

nanoPVD-ST15Aは、抵抗加熱蒸着源、有機蒸着源、Φ2inchマグネトロンスパッタリングカソードを同時に設置可能な複合型薄膜実験装置。ベンチトップサイズ・省スペース、限られたラボスペースを有効活用いただけます。 顕微鏡用試料作成用コーターではありません、電子回路基板、電池、MEMS、新素材開発などの研究開発用途で求められる高品質な薄膜を作成することができます。 ガス系統最大3系統(プロセス圧力APC自動制御)、連続自動製膜(最大20層)、2源同時成膜など豊富な機能を備え、更に基板加熱ヒーター(500℃)、ドライスクロールポンプなど豊富なオプションも用意。 真空引き・成膜制御・ベント、レシピ作成、更に故障解析、ログ等全て前面の7"タッチパネルで操作、操作の一元管理が可能です。 IntelliLinkソフトウエア付属:Windows PCとUSBケーブルで接続しリモート監視、オフラインレシピ作成・ダウン&アップロード、ログ保存 新素材・新材料開発、及び半導体・電子部品・燃料電池・大陽電池などの先端基礎技術開発部門でのさまざまなアプリケーションに対応致します。

  • スパッタリング装置
  • 蒸着装置

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【刃物表面処理事例】薄膜コーティング 刃物粘着課題スパっと解決 

刃物の切れ味を損なわない離型コーティングをご提案!コーティングで解決できた刃物の粘着トラブル解決事例集を進呈中です。

包装フィルムの接着剤によるカッター刃への付着を防止した事例をご紹介します。 ■お悩み ある包装工程で、実際の生産時に、粘着剤の付いた包装フィルムがカッター 刃にくっつくことで切れなくなったり、位置ずれが生じたりと、ライン停止 をよぎなくされることが頻発。このせいで、タクトタイムから算出した生産 計画の数量を達成することができませんでした。 ■コーティングの効果 そこで当社の提供する「MRS-003」を採用。これにより、処理温度が250℃ 以下に抑えられ、刃物なまりの懸念がなくなりました。さらに1ミクロンとい う薄膜のため、刃先の切れ味も維持できました。 【注目ポイント】 ■表面処理の目的:品質・稼働安定化、スピードアップ、安全性・環境要求対応 ■求められる機能:非粘着・離型性、長寿命 ■採用された処理:MRS-003 ※刃物やカット工程の粘着トラブルカイゼン事例を進呈中です。  詳しい内容は吉田SKT公式サイトをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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  • 加工受託

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□■□【MiniLab-026】フレキシブル薄膜実験装置□■□

小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合わせてフレキシブルに構成

必要最小限のモジュール・コントローラをPlug&Play感覚で19"コンパクトラックに組込む事により無駄が無く、小型省スペース・シンプル操作・ハイコストパフォーマンスを実現した、フレキシブルR&D用薄膜実験装置です。 マグネトロンスパッタ(最大3源)もしくは抵抗加熱蒸着(金属源 最大4、有機材料x4)に対応します、又基板加熱ステージを設置しアニール装置、プラズマエッチングも製作可能。 グローブボックス収納タイプもございます(*要仕様協議)。 フレキシブルにカスタマイズが可能な豊富なオプション部品を揃えております。 ◉ 最大基板サイズ:Φ6inch ◉ 抵抗加熱蒸着源フィラメント、ルツボ、ボート式(最大4源) ◉ 有機蒸着ソース:1cc or 5cc ◉ Φ2inchマグネトロンカソード(最大3源) ◉ ドライエッチング ◉ グローブボックス搭載可能(オプション 要仕様協議) ◉ その他オプション: 2源同時成膜、HiPIMS、自動薄膜コントローラ、特注基板ホルダ、基板回転/昇降、基板加熱などオプション豊富。 ※ まずはご要求の仕様をご連絡下さい、ご要望に合わせシステム構成致します。

  • 蒸着装置
  • スパッタリング装置
  • アニール炉

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□■□【MiniLab-090】フレキシブル薄膜実験装置□■□

グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570mmトールチャンバー採用 蒸着時の均一性向上に寄与

80ℓ大容積MiniLab-080チャンバーをグローブボックスベンチ内に収納可能な構造にしたMiniLab-080のグローブボックスモデル。作業ベンチを最大限活用できるスライド開閉式チャンバー、メンテナンス性を考慮した背面開閉ドアを採用。プロセス処理後の試料を大気・水分に露出せずグローブボックス内の管理された環境内で一貫した処理ができます。GB, ガス精製機はGBモデルの仕様を参照下さい。 ・最大基板サイズ:Φ10inch ・抵抗加熱蒸着源 x 最大4源 ・有機蒸着源 x 最大4源 ・マグネトロンスパッタリングカソード x 4源 ・電子ビーム蒸着 ・基板加熱ステージ(標準500℃, Max1000℃) ・プラズマエッチング/<30Wソフトエッチング

  • 蒸着装置
  • スパッタリング装置
  • エッチング装置

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『薄膜コーティング』加工技術紹介

ほとんどの金属・金属酸化物・誘電体膜をコーティングできる薄膜コーティング!

当社では、PVDに属する、抵抗加熱真空蒸着、EB加熱真空蒸着、 スパッタリング法での成膜加工ができます。 これらの加工技術を使い分けることで、ほとんどの金属、金属酸化物、 誘電体膜をコーティングできます。 ご要望の際は、お気軽にご相談ください。 【特長】 ■抵抗加熱真空蒸着、EB加熱真空蒸着、スパッタリング法での  成膜加工が可能 ■ほとんどの金属、金属酸化物、誘電体膜をコーティング可能 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • 技術開発

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薄物切断刃用DLC『ジニアスコートHA』

優れた耐溶着性!PVDによる超高硬度(>40GPa)水素フリーDLC

当社で取り扱う、薄物切断刃用DLC『ジニアスコートHA』をご紹介いたします。 超薄膜仕様(0.1μm)により、刃先形状を損なう事無く被膜が可能。 アルミ等軟質金属の耐凝着性に優れ切削工具、金型として広く適用します。 また、超硬・スチール共に除膜でき、再研磨・再コートが可能です。 ご用命の際は、当社までお気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■PVDによる超高硬度(>40GPa)水素フリーDLC ■アルミ等軟質金属の耐凝着性に優れ切削工具、金型として広く適用 ■超薄膜仕様(0.1μm)により、刃先形状を損なう事無く被膜が可能 ■超硬・スチール共に除膜可能、再研磨・再コートが可能 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

  • コーティング剤

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株式会社ソルテック 事業紹介

特注対応可能!経験豊富なスタッフが解決のための分析、方法の提案などをお手伝いします

ソルテックは、国内・国外に幅広いネットワークを持っています。 特に中国・韓国には関連会社を置いており当社が直接製造していない 製品類についても調査・調達・供給が可能。 また、ユーザー様からの各種ご要望にお応えするため、技術部門では 関連各社と提携し製品の改良や新製品の開発を行っています。 それらの中から実際に採用された製品については厳密な管理の下、製品化を 行っています。 【事業内容】 ■蒸着(薄膜)材料の開発、製造、販売 ■薄膜用材料、工業薬品、硝子製品、石英製品の加工・販売、輸出入、  委託加工及びそれらの仲介、斡旋 ■光学機械器具、化学機械器具、真空機械・装置・周辺機器、部品、  消耗品及び原材料の販売、輸出入、委託加工及びそれらの仲介、斡旋 ■医療用機材及び医療用消耗品の販売、輸出入 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • 分光分析装置
  • その他計測・記録・測定器

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多機能スパッタリング装置 【MiniLab-S060】

コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの薄膜モジュールを組込み、様々な用途に対応するマルチ薄膜装置

Φ2inchカソード x 4基搭載 同時成膜:3元同時成膜(RF500W or DC850W)+ HiPIMS(PulseDC 5KW) x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統(Ar, O2, N2)反応性スパッタリング RIEエッチングステージRF300W(メインチャンバー) + <30Wソフトエッチング(LLチャンバー) 基板加熱:Max500℃, 800℃, 又は1000℃(C/C、又はSiCコート) 基板回転・上下昇降(ステッピングモーター自動制御) APC自動制御:アップストリーム(MFC流量調整)又はダウンストリーム(排気側バルブ自動開度調整) 寸法:1,120(W) x 800(D) ●プラズマエッチングはメインチャンバー、ロードロックチャンバーのいずれへも設置可能です。 ●抵抗加熱蒸着・有機材料蒸着・EB蒸着・PECVDなどの混在仕様も構成可能です。

  • スパッタリング装置
  • 蒸着装置
  • CVD装置

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KBM処理 薄膜コーティング

PTFEを主成分とする、艶消し黒色のフッ素コーティング

KBM処理 薄膜コーティングは、PTFEを主成分とする、艶消し黒色のフッ素コーティングです。撥水性はもちろん、シンナーなどの溶剤に対しても高い接触角を得ることができます。 部品の潤滑性を上げ、すべりを良くしたい。部品の撥水性を上げたい。反射による部品不良を防ぎたい。部品を曲げても剥がれないコーティングを施したい。部品の耐薬品性を上げたい。などの用途に適しています。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをダウンロードしてください。

  • 加工受託
  • 表面処理受託サービス
  • その他半導体製造装置

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薄膜製造装置 KV-100

SPD方式小型低コスト成膜装置!最大基盤サイズは100mm x 100mm

SPD方式小型低コスト成膜装置です。 最大基盤サイズ: 100mm x 100mm ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせください。  こちらのカタログは英語版となっております。

  • 分離装置

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薄膜製造装置 KV-25

SPD方式小型低コスト成膜装置!最大基盤サイズは25mm x 25mm

SPD方式小型低コスト成膜装置です。 最大基盤サイズ: 25mm x 25mm ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせください。  こちらのカタログは英語版となっております。

  • 分離装置

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【無料進呈】生産設備の刃物トラブル防止!非粘着・薄膜コーティング

【お試しセット進呈】粘着フィルムやテープの切断など生産設備で起こる刃物への粘着トラブル。刃のための非粘着・離型コーティングで解決

生産設備の”切断刃”に粘着剤がくっついて、切れ味を損なったり、製品を汚したりするトラブルはありませんか。 べたつくものや粘着剤のついたものを切る刃物には、『くっつき防止対策』をしないと、収益に悪影響を及ぼします。 【具体的な悪影響とは】 ■自動化の妨げ 工程の自動化には、人の手を必要としないことや連続が欠かせません。 刃物に粘着物が付着するような現象が起きている場合、そのラインを自動化するのは難しくなります。 ■清掃回数の増大 刃物の清掃が頻繁に必要な場合、想定時問内に生産ができないなど生産効率の低下します。 また、作業時問の増加による残業などのコスト増、さらには作業者の安全性への懸念もふくらみます。 ■製品への付着、製品汚れ 刃物についた粘着剤や材料が次にカッ卜する製品に付着すると不良品となったり、後工程での修繕が必要になったりします。 また刃物の切れ味が悪くなることで、カット形状が乱れて問題になる場合もあります。 吉田SKTにはそのようなトラブルを解決できるコーティングがあります。 ▽カット工程カイゼンの事例集・お試しセットのお申込はこちら▽

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  • 加工受託

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『薄膜コーティングサービス』

素材に新たな特性を!各種材料による形成のニーズに応える表面処理受託加工

東邦化研株式会社では、イオンプレーティングや真空蒸着に加えて、スパッタやP-CVDによる各種表面処理の受託加工を長年行っております。 試作開発案件から、中・小ロットの生産案件までと、幅広く対応させていただいております。 単金属、酸化物、窒化物、炭化物等、各種材料による薄膜形成のニーズにお応えいたします。 【サービスの特長】 ■試作、小ロットにも対応 ■各種材料に対応 ■仕様・材料・プロセスに合った装置を使い分け ■環境に配慮 詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • 表面処理受託サービス

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東邦化研株式会社『コーティング受託加工実績』

30年を超え、受託薄膜加工一筋!豊富な経験と確かな技術に培われた加工実績

東邦化研株式会社の表面処理薄膜コーティング受託加工サービスの加工実績を紹介いたします。 単金属膜をはじめ、酸化膜、炭化膜、窒化膜、合金膜、光学膜、またこれらの多層膜(積層膜)と様々な膜種に実績を残しています。 【適用分野】 ■電気・電子部品:電極膜・絶縁膜・表面保護膜・透明導電膜など ■真空装置部品:汚染防止・絶縁膜・ボンディングメタルなど ■航空宇宙関連:軽量化・防蝕・固体潤滑など ■機械部品・金型:耐摩耗性・離型性・防蝕・表面硬化など 詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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『薄膜受託加工』

試作・開発から中小ロット生産まで!部品・素材を多機能に変身させる表面処理

東邦化研株式会社では、電子銃式真空蒸着・高周波励起方式(RF式)イオンプレーティングなどによる薄膜コーティングサービスを受託加工しております。 電子銃式真空蒸着は、膜にする材料を真空中でEBガン(電子銃)で蒸発させ、対象物へコーティングします。 その他、電子銃式真空蒸着の発展型である高周波励起方式(RF式)イオンプレーティングも行っております。様々な蒸発材料が持つ利点はそのままに、密着性の向上・条件の多様性が得られます。 【RF式イオンプレーティングの特長】 ■緻密で経時変化がない ■基板との付着力が強い ■反応性イオンプレーティングが可能 ■成膜材料の汎用性が高い ■成膜条件の多様性 詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • 表面処理受託サービス

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