更新日： 集計期間:2026年01月07日～2026年02月03日
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半導体用にEPDM製吸着パットがリリース！
従来のシリコン、クロロプレン製カップに、新たに半導体用EPDM製の材質でリリースをしました。 小さくて薄いワークをはがすための動作に好適で、高さ調整に適しています。 また、導電性シリコンのサクションカップは、静電気対策が必要なワークの取扱いに適しており、透明のシリコンは、FDAに適応しています。 ※詳しくはPDFダウンロード、またはお問い合わせください。
本体およびノズル材質がオールステンレス！半導体製造装置で使用可能
株式会社妙徳では、本体およびノズル材質がオールステンレスの 耐薬品･耐ガス用CVコンバムをオーダーメイドにて提供しています。 材質はSUS303,SUS316を準備しております。 薬品・ガスなどの吸引に適しており、半導体製造装置で使用可能。 耐薬品性に優れるPTFEタイプ、さらにノズルと本体を PTFE溶接したタイプも製作いたします。 【特長】 ■本体およびノズル材質がオールステンレス ■半導体製造装置で使用可能 ■オールPTFEタイプも製作 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
いろいろな用途で使用できる多彩な形式
半導体・液晶関連製造装置など、高いクリーン度が要求される環境下での使用に最適な位置決めテーブルです。
•豊富なバリエーション → 用途にあわせて最適な機種を選択可能 •日本国内のみならず、全世界でサービス対応可能
真空 (圧力) の程度を計測する計測器です。 全圧真空計と分圧真空計に別けられますが、ここでは全圧真空計を取り扱います。
接ガス部フッ素樹脂ライニング施工！ハロゲン系ガスや強酸性ガスの吸入に好適
『ルーツ式ドライ真空ポンプ』は、接ガス部にフッ素樹脂ライニングを 施工している製品です。 フッ素樹脂ライニング厚さは300μm以上で、ハロゲン系ガスや強酸性 ガスに対する耐久性があります。 精密仕上げ加工により、厚膜ライニングと極小クリアランスを実現。 半導体、製薬、化学、高機能材等の用途でご活用いただけます。 【特長】 ■接ガス部フッ素樹脂ライニング施工 ■フッ素樹脂ライニング300μm以上 ■ハロゲン系ガス、強酸性ガスの吸入に好適 ※詳しくは、お気軽にお問い合わせください。
スキャニングRHEEDを標準装備！モーター駆動コンビナトリアルマスクを2枚を装着
『MC-LMBE』は、操作性の高いコンパクトな超高真空レーザーMBE（PLD） システムです。 1200℃まで加熱可能な半導体レーザー基板加熱ユニットを搭載。 モーター駆動コンビナトリアルマスクを2枚を装着しています。 また、ロードロック室ユニットにより、真空中でターゲットや基板を 簡単交換できます。 【特長】 ■操作性が高くコンパクト ■到達真空度：6.7×10^-7Pa（5×10^-9Torr）以下 ■モーター駆動コンビナトリアルマスクを2枚を装着 ■1200℃まで加熱可能な半導体レーザー基板加熱ユニット ■6種類のターゲットが使用可 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
扱いやすいデザインで各種成膜条件の制御が容易！6種類のターゲットが使用できます
『PAC-LMBE』は、拡張性の高い超高真空レーザーMBE（PLD）システムです。 基板加熱ユニットとして、赤外線ランプ加熱と半導体レーザー加熱の いずれかを選択可能。6種類のターゲットが使用できます。 また、ロードロック室ユニットにより、真空中でターゲットや基板を 簡単交換いただけます。 【特長】 ■拡張性が高い ■到達真空度：6.7×10^-7Pa（5×10^-9Torr）以下 ■6種類のターゲットが使用可 ■ロードロック室ユニットにより、真空中でターゲットや基板を簡単交換 ■オプションポート：各種コンポーネント取付可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
再現性がよく低価格で、取付方向の制約はなし！ハードプロセス装置に対応したモデル
ピラニゲージ『M-351PG』はNiフィラメントを採用し、耐蝕性を 向上させ、RIE、CVDなどのハードプロセス装置に対応したモデルです。 再現性がよく低価格で、取付方向の制約はなし。 半導体や電子デバイス製造装置、食品・医薬品製造装置など さまざまな装置にお使いいただけます。 【特長】 ■耐食性の向上（Niフィラメント採用など） ■再現性がよく低価格 ■5×10^-2Paから大気圧 ■取付方向の制約がない ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
液体窒素の取り出し・搬送トラブルを防止！分析機器への補充作業を不要にする！新機能『ECOモード』搭載！
「EMPシリーズ」は、液体窒素の取り出しや搬送時のトラブルを防ぎ、 分析機器等への補充作業を’’不要’’にできる液体窒素ジェネレーターです。 ワンタッチで自動運転をスタートできる上、 必要なタイミングで、必要な量だけを取り出せるため、 その圧倒的な利便性で、半導体工場や大学・研究機関等での数多くの採用を頂いております。 【製品特徴】 ・液体窒素の取り出し・搬送のトラブルを防止。 ・必要な時に、必要な量だけを手軽に取り出し可能。 ・分析機器への補充作業を不要に。 ・半導体工場、大学研究機関、分析センターで多数の採用実績。 ■新機能『ECOモード』 従来のEMPシリーズでは窒素ガス発生装置が常時運転状態でした。 EMPシリーズはECOモード搭載により、液体窒素の残量に応じて運転を停止し、 消費電力の削減を実現しています。 ※製品の詳細は、下記よりカタログをダウンロードしてご覧下さい。
ターボ分子ポンプのオーバーホール・修理を行います。
当社は創設以来、時代の要請に応える高機能商品の開発導入に努め、お客様の製造コストの低減、品質の改善向上、新商品の開発等に寄与することを目指して参りました。ターボ分子ポンプのオーバーホール・修理においては多くの実績を有しており、お客様のご要望にも柔軟に対応できるノウハウがございます。 詳しくはカタログをダウンロード下さい。 カタログ内に対応機種一覧の記載が御座います。
真空装置のサポート・真空プロセス製品を広くご紹介しております。
メンテナンス・リサーチ株式会社は、米国Materia Is Research Corporation製造スパッタリング装置のメンテナンスを目的に2008年に設立しました。 メンテナンス・リサーチは新しい真空プロセス設備のご紹介とともに、ご使用設備を長く安定して稼働して頂くよう、製造中止パーツの置き換え、電源、ロボット等の修理代替え品等を用意し、信頼のあるパーツと技術サービスのご提供を通してお客様のデバイス生産活動に貢献いたします。 【事業内容】 ○海外真空プロセス設備の販売、各社中古真空プロセス装置販売 ○各社半導体用真空設備の修理 ○真空搬送ロボット修理 ○各社電源修理 ○半導体装置のパーツ設計販売 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
高精度、低真空領域において優れた再現性！大気圧から超高真空まで広い圧力領域をこの1台で測定
『M-336MX』は、低真空領域の測定には優れた再現性と応答性をもつ クリスタルゲージを、高真空領域には長年の実績を誇るミニチュア B-Aゲージを採用したコンビネーションゲージです。 大気圧から超高真空まで、広い圧力領域をこの1台で測定が可能。 真空装置の粗引き・到達圧力測定、半導体・電子部品製造装置の 圧力測定などにお使いいただけます。 【特長】 ■クリスタルゲージとミニチュアB-Aゲージを組み合わせた コンビネーションゲージ ■超高真空から大気圧 ■高精度、低真空領域において優れた再現性 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
"ランニングコストを従来の半分以下に抑えました。 また、特許構造により、水蒸気の処理も可能になりました。"
オイル不使用のスクロール真空ポンプ、 課題であったメンテナンスコストを半分以下に抑えることを実現 しました。 従来１年に１回必要であったメンテナンスが、チップシールの磨耗 を抑えることで、2年半に1回でＯＫ。 インバータ搭載型のため、回転数を制御することで、ランニングコストを抑えることもできます。 また、特許構造により、従来のスクロールポンプでは処理できなかった水蒸気の排気も行えます。 騒音値も従来の1/20に抑えました。
チャンバー真空の後、不活性ガスの注入を行いますので、高純度のガス置換包装が期待できます
ガス封入により製品の変形を防ぎますので、菓子、お茶、コーヒー豆、削り鰹節類及び半導体などの工業製品の包装に最適です
消費電力の省力化、効率化を追及、長い寿命。さらに安全性、環境にも配慮。
PISCOロータリー真空ポンプ「RPV06」は、様々な用途に対応する環境配慮性能商品です。省エネルギー化、環境負荷低減化の動きが強まっている昨今、消費電力の 費用対効果が高い真空ポンプの使用が一部で始まっています。 既存の真空ポンプに比べ小形化・低運転音の弊社真空ポンプは、真空エアを使う様々な設備・業種に対応します。また、少数多品種生産・製品ライフサイ クル短縮などに伴う工程ラインの頻繁な組替・セル生産化を進める工場にも最適です。低真空90Lタイプ「RPV063-90」・低真空60Lタイプ「RPV062-60」・中真空40Lタイプ「RPV06A-40」がございます。詳しくはカタログをダウンロードしてください。
オリオン機械/真空ポンプ。到達圧力(8kPa以下)での連続運転可能。
■到達圧力(8kPa以下)での連続運転可能。 ■運転真空度が高く、電子部品等の小部品の自動機(装着機等)に最適です。
多様化するニーズに応えて［低断面構造］新登場！
U字形のトラックレールの内側にスライドテーブルを配置した、コンパクトでスリムな位置決めテーブルです。
オリオン機械/真空ポンプ。高真空1.3kPa[abs]の連続運転をドライで実現。
■到達圧力1.3kPa[abs]以下の状態で連続使用ができ、高真空を必要とする各種業界に最適です。 ■モータフランジ直結のコンパクトタイプです。 ■運転音が小さく長寿命です。
あらゆるプロセスに対応する高耐久ドライ真空ポンプ！プロセス性能に特化
『SDEシリーズ』は、半導体や液晶の製造分野などの幅広い分野で 高い信頼を得ている樫山工業のドライ真空ポンプです。 耐デポ性能に優れた縦型スクリューを採用し、構造材料や温度設定による 高い耐食性を発揮します。 独自のスクリュー形状で省エネを実現(X) 【ハーシュプロセス対応例】 ■Metal-Etch ■SA-CVD ■Metal-CVD ■PE-CVD ■LP-CVD ■ALD
オリオン機械/真空ポンプ。精密空調機サイド調整不要のフリーロータ方式を採用。
■サイド調整不要のフリーロータ方式を採用。 ■メンテナンスが容易。 ■無給油方式で油分を含まない為、作業環境や製品を油で汚さない。 ■ゴムまたはビニールホースを直接接続することが可能。
半導体業界に最適。ドライスクリューポンプのご紹介
スクリューロータ式の為、排気パスが短いドライスクリュー式真空ポンプです。 ブッシュのドライポンプは重負荷から軽負荷プロセスまで幅広く対応できるドライポンプです。 真空ポンプ・ドライポンプに関してはお問い合わせください。 スクリューロータ式の為、排気パスが短いドライスクリュー式真空ポンプ 【特徴】 ○耐久性がありメンテ間隔が長くコスト低減を実現 ○コンパクト設計の為移動に便利 ○省スペースの真空ポンプ ○ポンプ内温度コントロールが可能
ウエハー・FPDの大口径化に対応する大排気量ポンプ
『SDLシリーズ』は、半導体や液晶の製造分野などの幅広い分野で 高い信頼を得ている樫山工業のドライ真空ポンプです。 ウエハー、FPDの大型化に対応します。 組合せにより大排気量化が可能で、15万L/min以上のご要望にもお応え。 さらに、大気側排気速度の確保による、大型ロードロックチャンバーの 高速排気によりタクトタイムを短縮します。 溶剤排気仕様もありますのでお問い合わせ下さい。 【特長】 ■ウエハー、FPDの大型化に対応 ■タクトタイムの短縮
【モータ 一体型】低騒音で耐久性に優れた、小型液封式（水封式）真空ポンプです。
ニクニの液封式（水封式）真空ポンプは安全性＆経済性に優れています。 ■安全性 羽根車の各セルにおいて水がピストン運動することによりガスの吸引・圧縮を行うため、ミストや水蒸気を含んだガスの移送も全く支障はありません。ポンプ内部には金属接触がなく、液膜により完全にシールされているためモレがなく、爆発性のあるガスや腐食性の高いガスの吸引・圧縮に適します。 ■経済性 高効率設計により経済性を追求、大幅に消費動力を削減します。（2作動型に比べ30％の省エネが可能）液封構造によりガスのリークはありません。高価なガスの圧送、圧縮に効果的です。 ■低騒音 シャフト1回転で羽根車のセルの数だけの吸引・圧縮が連続的に行われるため、脈動・振動がありません。また消音セパレータとの組合せにより騒音は極めて低く押えられます。 ■耐久性 シンプル構造と堅牢構造に加え、ポンプ内にシール部以外の摺動部や機械的接触がないため、耐久性に優れています。側気口構造のため磨耗に強く、内気口型のものに比べて長期間高性能を維持します。 ■清浄性 油回転式のようなオイルミス卜の発生がなく、清浄な環境を守ります。
オリオン機械/真空ポンプ。安心設計・低運転音を実現。環境対応次世代ポンプ。
■安心設計・環境対応、CEマーキング対応。 ■低運転音、静音化設計により、3dBの低減(従来比)。 ■長寿命、新材質ブレードの採用により10％アップ(従来比)。 ■RoHS指令対応。
オリオン機械/真空ポンプ。安全設計・低運転音・長寿命を実現。環境対応次世代ポンプ。
■安心設計・環境対応、CEマーキング対応。 ■低運転音、静音化設計により、3dBの低減(従来比)。 ■長寿命、新材質ブレードの採用により30％アップ(従来比)。 ■RoHS指令対応
オリオン機械/真空ポンプ。2シリンダー2機能(真空ポンプ・ブロワ並列)方式。
■2シリンダー2機能(真空ポンプ・ブロワ並列)方式により、真空度60kPa以下の真空源、排気圧力60kPa以下の空気源として同時に独立して使用することができます。 ■従来のコンビネーションポンプに比べ、小型・軽量(当社比)。 ■また取扱いが容易です。
