更新日： 集計期間:2025年10月01日～2025年10月28日
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半導体用にEPDM製吸着パットがリリース！
従来のシリコン、クロロプレン製カップに、新たに半導体用EPDM製の材質でリリースをしました。 小さくて薄いワークをはがすための動作に好適で、高さ調整に適しています。 また、導電性シリコンのサクションカップは、静電気対策が必要なワークの取扱いに適しており、透明のシリコンは、FDAに適応しています。 ※詳しくはPDFダウンロード、またはお問い合わせください。
本体およびノズル材質がオールステンレス！半導体製造装置で使用可能
株式会社妙徳では、本体およびノズル材質がオールステンレスの 耐薬品･耐ガス用CVコンバムをオーダーメイドにて提供しています。 材質はSUS303,SUS316を準備しております。 薬品・ガスなどの吸引に適しており、半導体製造装置で使用可能。 耐薬品性に優れるPTFEタイプ、さらにノズルと本体を PTFE溶接したタイプも製作いたします。 【特長】 ■本体およびノズル材質がオールステンレス ■半導体製造装置で使用可能 ■オールPTFEタイプも製作 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
いろいろな用途で使用できる多彩な形式
半導体・液晶関連製造装置など、高いクリーン度が要求される環境下での使用に最適な位置決めテーブルです。
•豊富なバリエーション → 用途にあわせて最適な機種を選択可能 •日本国内のみならず、全世界でサービス対応可能
真空 (圧力) の程度を計測する計測器です。 全圧真空計と分圧真空計に別けられますが、ここでは全圧真空計を取り扱います。
接ガス部フッ素樹脂ライニング施工！ハロゲン系ガスや強酸性ガスの吸入に好適
『ルーツ式ドライ真空ポンプ』は、接ガス部にフッ素樹脂ライニングを 施工している製品です。 フッ素樹脂ライニング厚さは300μm以上で、ハロゲン系ガスや強酸性 ガスに対する耐久性があります。 精密仕上げ加工により、厚膜ライニングと極小クリアランスを実現。 半導体、製薬、化学、高機能材等の用途でご活用いただけます。 【特長】 ■接ガス部フッ素樹脂ライニング施工 ■フッ素樹脂ライニング300μm以上 ■ハロゲン系ガス、強酸性ガスの吸入に好適 ※詳しくは、お気軽にお問い合わせください。
スキャニングRHEEDを標準装備！モーター駆動コンビナトリアルマスクを2枚を装着
『MC-LMBE』は、操作性の高いコンパクトな超高真空レーザーMBE（PLD） システムです。 1200℃まで加熱可能な半導体レーザー基板加熱ユニットを搭載。 モーター駆動コンビナトリアルマスクを2枚を装着しています。 また、ロードロック室ユニットにより、真空中でターゲットや基板を 簡単交換できます。 【特長】 ■操作性が高くコンパクト ■到達真空度：6.7×10^-7Pa（5×10^-9Torr）以下 ■モーター駆動コンビナトリアルマスクを2枚を装着 ■1200℃まで加熱可能な半導体レーザー基板加熱ユニット ■6種類のターゲットが使用可 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
液体窒素の取り出し・搬送トラブルを防止！分析機器への補充作業を不要にする！新機能『ECOモード』搭載！
「EMPシリーズ」は、液体窒素の取り出しや搬送時のトラブルを防ぎ、 分析機器等への補充作業を’’不要’’にできる液体窒素ジェネレーターです。 ワンタッチで自動運転をスタートできる上、 必要なタイミングで、必要な量だけを取り出せるため、 その圧倒的な利便性で、半導体工場や大学・研究機関等での数多くの採用を頂いております。 【製品特徴】 ・液体窒素の取り出し・搬送のトラブルを防止。 ・必要な時に、必要な量だけを手軽に取り出し可能。 ・分析機器への補充作業を不要に。 ・半導体工場、大学研究機関、分析センターで多数の採用実績。 ■新機能『ECOモード』 従来のEMPシリーズでは窒素ガス発生装置が常時運転状態でした。 EMPシリーズはECOモード搭載により、液体窒素の残量に応じて運転を停止し、 消費電力の削減を実現しています。 ※製品の詳細は、下記よりカタログをダウンロードしてご覧下さい。
扱いやすいデザインで各種成膜条件の制御が容易！6種類のターゲットが使用できます
『PAC-LMBE』は、拡張性の高い超高真空レーザーMBE（PLD）システムです。 基板加熱ユニットとして、赤外線ランプ加熱と半導体レーザー加熱の いずれかを選択可能。6種類のターゲットが使用できます。 また、ロードロック室ユニットにより、真空中でターゲットや基板を 簡単交換いただけます。 【特長】 ■拡張性が高い ■到達真空度：6.7×10^-7Pa（5×10^-9Torr）以下 ■6種類のターゲットが使用可 ■ロードロック室ユニットにより、真空中でターゲットや基板を簡単交換 ■オプションポート：各種コンポーネント取付可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
再現性がよく低価格で、取付方向の制約はなし！ハードプロセス装置に対応したモデル
ピラニゲージ『M-351PG』はNiフィラメントを採用し、耐蝕性を 向上させ、RIE、CVDなどのハードプロセス装置に対応したモデルです。 再現性がよく低価格で、取付方向の制約はなし。 半導体や電子デバイス製造装置、食品・医薬品製造装置など さまざまな装置にお使いいただけます。 【特長】 ■耐食性の向上（Niフィラメント採用など） ■再現性がよく低価格 ■5×10^-2Paから大気圧 ■取付方向の制約がない ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
ターボ分子ポンプのオーバーホール・修理を行います。
当社は創設以来、時代の要請に応える高機能商品の開発導入に努め、お客様の製造コストの低減、品質の改善向上、新商品の開発等に寄与することを目指して参りました。ターボ分子ポンプのオーバーホール・修理においては多くの実績を有しており、お客様のご要望にも柔軟に対応できるノウハウがございます。 詳しくはカタログをダウンロード下さい。 カタログ内に対応機種一覧の記載が御座います。
真空装置のサポート・真空プロセス製品を広くご紹介しております。
メンテナンス・リサーチ株式会社は、米国Materia Is Research Corporation製造スパッタリング装置のメンテナンスを目的に2008年に設立しました。 メンテナンス・リサーチは新しい真空プロセス設備のご紹介とともに、ご使用設備を長く安定して稼働して頂くよう、製造中止パーツの置き換え、電源、ロボット等の修理代替え品等を用意し、信頼のあるパーツと技術サービスのご提供を通してお客様のデバイス生産活動に貢献いたします。 【事業内容】 ○海外真空プロセス設備の販売、各社中古真空プロセス装置販売 ○各社半導体用真空設備の修理 ○真空搬送ロボット修理 ○各社電源修理 ○半導体装置のパーツ設計販売 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
高精度、低真空領域において優れた再現性！大気圧から超高真空まで広い圧力領域をこの1台で測定
『M-336MX』は、低真空領域の測定には優れた再現性と応答性をもつ クリスタルゲージを、高真空領域には長年の実績を誇るミニチュア B-Aゲージを採用したコンビネーションゲージです。 大気圧から超高真空まで、広い圧力領域をこの1台で測定が可能。 真空装置の粗引き・到達圧力測定、半導体・電子部品製造装置の 圧力測定などにお使いいただけます。 【特長】 ■クリスタルゲージとミニチュアB-Aゲージを組み合わせた コンビネーションゲージ ■超高真空から大気圧 ■高精度、低真空領域において優れた再現性 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
チャンバー真空の後、不活性ガスの注入を行いますので、高純度のガス置換包装が期待できます
ガス封入により製品の変形を防ぎますので、菓子、お茶、コーヒー豆、削り鰹節類及び半導体などの工業製品の包装に最適です
消費電力の省力化、効率化を追及、長い寿命。さらに安全性、環境にも配慮。
PISCOロータリー真空ポンプ「RPV06」は、様々な用途に対応する環境配慮性能商品です。省エネルギー化、環境負荷低減化の動きが強まっている昨今、消費電力の 費用対効果が高い真空ポンプの使用が一部で始まっています。 既存の真空ポンプに比べ小形化・低運転音の弊社真空ポンプは、真空エアを使う様々な設備・業種に対応します。また、少数多品種生産・製品ライフサイ クル短縮などに伴う工程ラインの頻繁な組替・セル生産化を進める工場にも最適です。低真空90Lタイプ「RPV063-90」・低真空60Lタイプ「RPV062-60」・中真空40Lタイプ「RPV06A-40」がございます。詳しくはカタログをダウンロードしてください。
