【その他の特長】 ■リフトオフプロセスにも対応 ■トレイ搬送にも対応 ■マルチチャンバ仕様やバッチ式も製作可能 ■各種オーダーメイドも製作可能 ■デモ機にてサンプル処理を実施 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

【その他の製作実績】 ■排ガス切替装置 ■フィルム巾390mm対応R to Rプラズマ処理装置 ■低温グロープラズマ実験装置 ■HW式表面改質装置（CAT） ■排気セット（TMP+RP） ■ロードロック室プラズマCVD装置（当社デモ機） ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

【ラインアップ】 ■□650×550mm対応量産用セル評価装置 ■有機EL用Ag蒸発源 ■□100mm対応プラズマCVD室 ■□100mm対応透明電極用スパッタ室 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

【仕様】 ■基板サイズ：最大φ12インチ ■基板加熱温度：700℃（基板表面） ■蒸着材料：金属または酸化物 ■真空排気：CP+DP ■膜厚コントロール：水晶式膜厚センサ ■制御操作 　・制御：PLC 　・操作：タッチパネルまたはPC ■データロギング：外部メモリまたはPC ■基板搬送：真空搬送ロボット ■オプション：基板加熱900℃（基板表面）、基板冷却、基板バイアス、基板回転 　抵抗加熱蒸発源（最大6台）、反応ガス供給ユニットなど ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。