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プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

住所神奈川県横浜市西区みなとみらい4丁目4番2号 横浜ブルーアベニュー12階
電話045-274-8089
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最終更新日:2022/07/25
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光化合物半導体 プラズマ加工装置

光化合物半導体 プラズマ加工装置

当社で取扱っている「光化合物半導体のプラズマ加工装置」をご紹介いたします。

光化合物半導体 プラズマ加工装置

長年の経験と蓄積された加工ノウハウ!化合物半導体加工向けに1300台以上の納入実績

「プラズマ加工装置」は、光化合物半導体のプラズマ・エッチング・ 成膜装置です。 研究・開発から量産とシーンに適したシステムの提供が可能。 また、光電子デバイス製造に必要な幅広い材料を扱うように設計されています。 ご用命の際は、お気軽にお問い合わせください。 【用   途】 VCSEL、LED、μLED、Micro Lens、Wave Guide 【エッチング】 サファイア、GaN、GaAs、Si3N4、SiO2など 【成   膜】nSiO2、Si3N4、a-Si、SiCなど ※英語版カタログをダウンロードいただけます。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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プラズマ技術~バイオ・医療への応用

a-SiC:H(堅牢膜)等のパッシベーション膜形成が可能!高密度プラズマによる表面除染

当社で取り扱う『Corial D250L/Kayen HDRF』により、 プラズマ技術のバイオ・医療への応用が可能です。 人体埋め込み型センサーや医療機器のパッシベーション膜を形成。 複雑な形状のインプラント用セラミック、金属物の 表面除染も対応可能です。 【パッシベーション膜の特長】 ■現在、業界で注目されている、以下4種の膜形成が可能  ・a-SiC:H(堅牢膜)  ・a-C:H(不活性で耐摩耗性膜)  ・SiN(ストレスと堅牢制御膜)  ・SiO2:BioMEMS(低ストレスで高い絶縁破壊膜) ※詳しくは、お気軽にお問い合わせ下さい。

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