純水を用いたスピン式スチーム剥離（洗浄）装置です。 薬液を使用せず純水のみでレジスト剥離やリフトオフが可能です。（膜付け条件によって異なります） 生産コストと環境負荷の大幅減少が期待出来ます。

ボンベの内壁に付着している不純物を加熱真空引きにより取り除きます ボンベサイズ、同時処理本数はカスタマイズにて対応します 自動機、手動機など予算に合わせご提案します 【特長】 ■ボンベの均一な加熱が可能です（Max200℃）。炉内温度±約1％ 。 ■ボンベ加熱と同時にボンベの安全弁への冷却も可能です（熱による安全弁の破損防止の為） ※詳しくはPDF（カタログ）をダウンロード頂くか、お気軽にお問い合わせください

ベーパー発生槽底面の研磨技術と特殊表面加工をしたプレートヒーターを使用することにより、ベーパー発生槽内のHFEを均一に沸騰させ、槽内に均一なベーパーを発生させることができます。 ※詳しくはPDF（カタログ）をダウンロードいただくか、お気軽にお問い合わせください

少量から大容量、及び各種薬液により設計製作いたします。 詳しくはお問い合わせ下さい ※詳しくはPDF（カタログ）をダウンロードいただくか、お気軽にお問い合わせください

陽極酸化装置は従来、電流を流し酸化膜を形成させる装置でしたが、さらに応用したポーラスシリコン形成装置は使用薬液・電流密度を変えることで多孔質シリコンを形成する装置です。 ※詳しくはPDF（カタログ）をダウンロードいただくか、お気軽にお問い合わせください

大型治具の洗浄も設計製作できます。カセット洗浄の場合は、ブラシ組込による精密洗浄付もご用意できます ※詳しくはPDF（カタログ）をダウンロードいただくか、お気軽にお問い合わせください

・多彩な揺動機構を準備しています。手動タイプから全自動タイプまで、仕様やご予算に合わせてご提案します。 【オプション機能】 ○漏洩センサー ○排気圧センサー ○非常停止スイッチ ○一時停止スイッチ（自動メカ付） ○扉センサー（自動メカ付） ○圧力スイッチ ○温度センサー（恒温度仕様） ○自動消火システム ○パトライト ○網入りガラス又は強化ガラス ○爆圧ハッチ ○各種インターロック 等 ※装置により一部機器は取付できない場合もございます ※当社の東京テストセンター（東京都墨田区）にて、テストを実施頂けます。（オンライン対応可） ※詳しくはPDF（カタログ）をダウンロード頂くか、お気軽にお問い合わせください

ウェットエッチングならではの低コスト、高生産性を実現します ご要望に応じて様々な搬送位置や方式に対応し、追加機構の付加、カスタマイズも可能です 【特長】 ■全自動酸・アルカリエッチング（洗浄）装置 ■手動酸・アルカリエッチング（洗浄）装置 ■RCA洗浄装置 ■前面搬送機タイプ・背面上部搬送機タイプの他に、お客様のニーズに合わせ上部搬送機タイプ・背面搬送機タイプにも対応できます ■キャリアレス搬送式、キャリア搬送式、キャリアハンガー搬送式等、コストに合わせてお選びいただけます ■前後装置との受け渡し機構や外部通信機能の追加が可能 ■自動扉や自動蓋、自動薬液供給、秤量、回収装置を装備可能 ■エッチング液の濃度管理機構の装備が可能。対象薬液はご相談ください（例：TMAH、KOH、HF、HCLなど） ■出荷前検査としてエッチング処理槽内の温度分布の計測が可能 ■上下揺動機構の他、ウエハー回転機構の追加が可能 ※当社の東京テストセンター（墨田区）にて、テストを実施頂けます。（オンライン対応可） ※詳しくはカタログをダウンロード頂くか、お気軽にお問い合わせください。

ダルトンのリフトオフ装置は６種のラインナップと６種類のオプションを有し、用途やウエハーの性質に合わせて使用をご選定頂けます 【ラインナップ】 ・HU型（量産向け）…バッチ、枚葉の併用仕様。より早く、確実な仕上がり ・HM型（研究開発・量産向け）…Jet処理のみで剥離が可能なウエハーに好適 ・CHU型（研究開発向け）…HU型の特長を受け継ぎながら、コンパクト化を実現 ・MJ型（研究開発向け）…Jetチャンバーのみを有し、ウエハー投入・排出は手動操作 ・SL型（量産向け）…ディップ槽のみでリフトオフ処理を行なうシャワードレン式リフトオフ装置 ・ML型（研究開発・量産向け）…SL型からローダー、搬送機、アンローダーを削除した装置 上記６種類のラインナップに、５種類のオプションをつけられます。 オプションの詳細は、下へスクロールしご覧ください 当社東京テストセンターにて、テストを実施頂けます。 ※詳しくはカタログをダウンロード頂くか、お気軽にお問い合わせください

さまざまな用途に対応したストッカーをご用意しております。 ※詳しくはPDF（カタログ）をダウンロードいただくか、お気軽にお問い合わせください

自動酸・アルカリ洗浄装置 対応ワークサイズ　φ2～12インチ。角型基板などの特殊サイズもご相談ください 2流体混合ノズルにより直接2種類の原液を使用した洗浄処理を実現。混合比率を調整することにより反応熱で狙いの温度に昇温することが可能 【その他特長】 ■ブラシ洗浄機能付き装置の製作が可能 ■フォトマスク洗浄装置の製作が可能 ■薬液供給、回収ユニットの装置本体組込みが可能 ■オプションでオゾン水洗浄が可能 ■オプションでナノバブル洗浄が可能 当社東京テストセンターにて、テストを実施頂けます。（オンライン対応可） ※詳しくはPDF（カタログ）をダウンロード頂くか、お気軽にお問い合わせください

液晶ガラスやタッチパネルなどに用いられる枚葉基盤を処理する装置です 【特長】 ■対応ワーク　100mm角～1000mm角まで対応可能（他のサイズ、形状は別途相談） ■揺動機構（水平揺動・スプレーノズル首振り）を付けることにより、処理効率を向上させます ■カセットtoカセット対応も可能 ※詳しくはPDF（カタログ）をダウンロード頂くか、お気軽にお問い合わせください

薬液によって、SUS仕様、塩ビ仕様にも対応し、お客様の操作性と安全性を両立したドラフトチャンバーです。 ※詳しくはPDF（カタログ）をダウンロードいただくか、お気軽にお問い合わせください

大型治具の洗浄も設計製作できます。カセット洗浄の場合は、ブラシ組込による精密洗浄付もご用意できます ※詳しくはPDF（カタログ）をダウンロードいただくか、お気軽にお問い合わせください

陽極酸化装置は従来、電流を流し酸化膜を形成させる装置でしたが、さらに応用したポーラスシリコン形成装置は使用薬液・電流密度を変えることで多孔質シリコンを形成する装置です。 ※詳しくはPDF（カタログ）をダウンロードいただくか、お気軽にお問い合わせください

自動機組込可能 ※割れ易い（GaAsなど）ワーク用も有ります。 ※詳しくはPDF（カタログ）をダウンロードいただくか、お気軽にお問い合わせください

さまざまな用途に対応したストッカーをご用意しております

さまざまな用途に対応したストッカーをご用意しております。 ※詳しくはPDF（カタログ）をダウンロードいただくか、お気軽にお問い合わせください

さまざまな用途に対応したストッカーをご用意しております。 ※詳しくはPDF（カタログ）をダウンロードいただくか、お気軽にお問い合わせください。

・エッチング、洗浄装置などの装置に合せて設置が可能です。 ・酸・アルカリなどのガスを適切に処理します。 ・スクラバーで適切に処理することで後工程のダクト、装置への影響がありません。また、室外へ排気された場合でも周辺環境や人体への心配もありません。 ※詳しくはPDF（カタログ）をダウンロードいただくか、お気軽にお問い合わせください。

連続式：廃液の発生量が30～250ℓ/日の程度の場合 蒸留再生したい成分以外の物（残渣物）が液状、または固形状であっても残渣物の量が少ない場合 （連続式は、自動運転が可能です。） ※詳しくはPDF（カタログ）をダウンロードいただくか、お気軽にお問い合わせください

バッチ式：廃液の発生量が10～150ℓ/日程度の場合 蒸留再生したい成分以外の物（残渣物）が、液状・固体状のどちらにも対応 （バッチ式は、連続自動運転は出来ません。）

スピンコーターに必要なユーティリティ取合いをドラフト背面側へコンパクトにまとめることで、作業場の安全性と作業性が向上します

【環境負荷低減】 ・洗浄液は純水のみ使用 ・他社製品に比べ純水の使用量が少ない 【高い洗浄能力】 ・独自の洗浄処理で残渣とパーティクルの洗浄が可能 ・温風を瞬時に発生可能。（常温→65℃まで3秒）　 ・FOUP BOXと蓋を別々に洗浄することが可能 ・瞬間加熱式の採用で頑固な接着剤や粒子を迅速に洗浄可能 ・高圧洗浄によりレジストなどの高い付着力を持つ汚染物の除去が可能 *Max 約10MPa（1500psi）recipeにて調整可能

2流体洗浄との併用により、強固な付着物や微細なパーティクル除去が可能です。 主にCMP後の洗浄で使用します。 装置内構成例：ローダー ⇒ 1.ブラシ洗浄チャンバー ⇒ 2.リンス乾燥チャンバー ⇒アンローダー 1.ブラシ洗浄チャンバー ⇒薬液シャワー → 両面ブラシ洗浄 → 純水リンス 2.リンス乾燥チャンバ― ⇒2流体(N2+純粋)洗浄 → MSシャワー(オプション) → N2ブロー乾燥