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ズース・マイクロテック株式会社

設立1988年1月1日
資本金3000万
従業員数10名
住所神奈川県横浜市港北区新横浜3丁目20−8 ベネックスS-3 5F
電話045-475-3556
  • 公式サイト
最終更新日:2023/12/04
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全自動ウエハボンダー XBS200

先端MEMS,LED,小型電子部品など,各種用途の多様なプロセスに対応した,量産向け全自動ウエハボンダー。

【特長】 ■金属拡散接合,共晶接合,TLP接合,接着剤接合,フュージョン接合,陽極接合,ガラスフリット接合など,あらゆるウエハ接合プロセスに対応 ■直径100mm~200mmまでのウエハおよび基板,6mmまでの積層厚みに対応 ■高精度ボンドアライナーモジュールXBS200と革新的な搬送機構の組み合わせにより,高精度のポストボンドアライメント精度を実現 ■真空またはガス雰囲気の制御による接合環境の制御

  • センサ
  • メモリ

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高荷重ウエハボンダー XB8

200mm対応,最大荷重100kNの高性能高荷重ウエハボンダー

ズース・マイクロテックの高荷重ウエハボンダー XB8は,最大荷重100kNの最新ウエハボンダーで,200mmまでの各種サイズ,材質のウエハおよび基板の処理に対応します。 金属拡散接合,共晶接合/TLP接合,接着剤接合,フュージョン接合などの各種接合プロセスに柔軟に対応し,先端MEMS,LED,3Dインテグレーションなど,幅広いアプリケーションに最適なウエハボンダーです。

  • ボンディング装置
  • ウエハ加工/研磨装置

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汎用ウエハ接合装置 SB6/8 Gen2

先端MEMS,LED,小型電子部品など,各種用途の多様なプロセスに対応した,研究開発から試作・小量産向けウエハ接合装置。

【特長】 ■金属拡散接合,共晶接合,TLP接合,接着剤接合,フュージョン接合,陽極接合,ガラスフリット接合など,あらゆるウエハ接合プロセスに対応 ■直径200mmまでのウエハおよび基板,6mmまでの積層厚みに対応 ■クランプ固定機構を備えた搬送フィクスチャとSUSS BA6/8 ボンドアライナの組み合わせにより,高精度のポストボンドアライメント精度を実現 ■真空またはガス雰囲気の制御による接合環境の制御

  • その他加工機械

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ウエハ剥離装置 DB12T

3”~300mmまでのウエハサイズに対応可能な,室温・機械式ウエハ剥離装置。

■ 薄ウエハ搬送/プロセスに必要なウエハ剥離装置です。 ■ 3”~300mmまでの各種ウエハサイズに対応可能な,室温・機械式ウエハ剥離。

  • ウエハ加工/研磨装置
  • ボンディング装置

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エキシマレーザー剥離装置 LD12

300mmまでのウエハサイズに対応可能な,室温・レーザー式ウエハ剥離装置

■ 薄ウエハ搬送/プロセスに必要なウエハ剥離装置です。 ■ 300mmまでの各種ウエハサイズに対応可能な,室温・レーザー式ウエハ剥離。

  • センサ
  • メモリ

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露光装置 MA/BA8 Gen4 Pro

R&D小ロット生産に最適

自社開発の回折光減小光学系、WECシステム採用

  • その他加工機械

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露光装置 MJB4

研究用途に最適

自社開発の回折光減小光学系、WECシステム採用

  • その他加工機械

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露光装置 MA300 Gen2

再配線の加工に最適な300mmウエハ用両面マスクアライナ

自社開発の回折光減小光学系、WECシステム採用

  • その他加工機械

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塗布・現像装置 ACS200

全自動最大200mm対応

全面一括露光方式の当社製マスクアライナ・モジュールをドッキングさせることにより、リングラフィ・クラスタLithoFab200として使用可能

  • その他加工機械

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塗布・現像装置 ACS300 Gen2

最大300mmまでタイプ スピンコーティング/現像クラスタ

量産用ウエハレベルパッケージング及び3次元集積向け

  • その他加工機械

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