アールエムテックの製品・サービス一覧

エッチャー内のプロセスによる発光をリアルタイムに モニタリングすることができます。 CCDセンサを搭載し、200-800nmの波長領域をサポート、 UV領域の感度が高く、 検出困難だった微細な変化でも捉える分光計を備えています。 さらに、真空フィードスルーオプションで イオンミリングプロセスにも対応します。 Verity社製光学式エンドポイントモニターは 真空中のサンプル近傍にフレキシブルチューブによる測定受光部を設置。 エッチング/ミリングプロセス中の材料発光を計測することで、 膜厚と膜種の経時変化を取得します。 【特徴】 ◼ 強力な終点決定能力 ◼ 専用高機能 SpectraViewTM ソフトウェアを使用 ◼ 終点検出、障害検知、プロセス診断が可能 ◼ 200 – 800 または 900nm の波長範囲 ◼ 更に広帯域の波長計測オプションあり ◼ RoHS 指令対応

• その他検査機器・装置

『光ファイバー温度計』は、従来の温度計(熱電対、測温抵抗体)では、 測定困難な高周波、マイクロ波、強磁場、高電圧環境下も電界磁界の影響を受けずに 正確な温度測定が可能です。 Lsens光ファイバープローブ･センサーは、直径φ500μmの高速サンプリングタイプ、PTFEで覆われた耐腐食性タイプ、 硬質ポリイミドタイプによりあらゆる環境に対応します。 温度計ユニットは持ち運びに便利なコンパクトタイプ、パネルマウントタイプ、DINレール装着タイプを取り揃えています。

• 温度計

『Thermal Shock ETSシリーズ』は、5G通信用デバイス、半導体、チップ、 センサー、マイクロエレクトロニクスなど幅広い分野にて使用されている 環境信頼性試験装置です。 短時間にて冷熱衝撃をかけたテストサンプルの化学的・物理的・ 時間変化を確認可能。 研究開発及び生産効率の向上に好適です。 ・温度変化範囲 ETS-210-10S：-55℃～+180℃ ETS-310-10S：-65℃～+220℃ ETS-410-10S：-80℃～+220℃ ・温度変化時間 -55℃⇒+125℃　10秒 +125℃⇒ -55℃　16秒 【特長】 ■自社開発コントロールシステム ■大型タッチスクリーン ■超低騒音 55dB(A) ■省エネ30％以上 ■長時間低温テストでも霜発生無し ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 環境試験装置

・温度変化範囲 ETS-210-10S：-55℃～+180℃ ETS-310-10S：-65℃～+220℃ ETS-410-10S：-80℃～+220℃ ・温度変化時間 -55℃⇨+125℃　10秒 +125℃⇨ -55℃　16秒 最短時間内に冷温熱衝撃を与え、テストサンプルの化学的・物理的・電気的時間変化を確認でき、研究開発および生産効率の向上に最適です。

• センサ
• 恒温水槽
• 2次電池・バッテリー

地球環境にやさしい企業様に提案 モントリオール議定書キガリ改訂により、2019年より段階的にHFCの使用量を減らして、2029年には70%削減を義務付けられております。 Coolteq ZEROシリーズはこの削減義務も問題ありません。 Coolteq ZERO冷凍機はHFCガス無使用です。 カタログ内容ご確認願います。 お問い合わせ お待ちしております。

• 蒸着装置

Supcold社は2011年に創業した新しい会社ではありますが、この分野では経験豊富なスタッフが事業に携わっています。基本設計は米国で、使用している主要部品の多くは米国、ヨーロッパ製を使用し、中国製ではありますが冷凍能力とその品質は、米日の水蒸気ポンプメーカー製と同等以上の性能を有しています。装置価格のみならず、メンテナンス（修理）費用も安価で迅速なサービス体制を有しています。 また、新冷媒を採用し温暖化係数を低減しています。 すでに、中国国内では200台以上の納入実績を持ち、その信頼性とサービス体制はお客様を十分満足していただけるようになりました。

• 蒸着装置

カフマン型グリッドイオンガン 　RFICPイオン源グリッドサイズ：4cm, 10cm, 14cm, 22cm, 36cm 　DCイオン源グリッドサイズ：1cm, 4cm, 8cm, 10cm, 16cm The versatile gridded series of broad beam ion sources are available in different sizes which covers both R&D and high yield production requirements. Large ion beam sources meet critical output performance for uniform coverage over wide process zones. 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。 ※こちらのカタログは英語のカタログになります。

• 蒸着装置
• その他半導体製造装置
• エッチング装置

The compact low profi le eH series of broad beam ion sources are available in different sizes which covers both R&D and high yield production requirements. Large ion beam currents meet critical arrival ratios for high deposition rate processes. Low energy ions minimize ion bombardment damage to surfaces and interfaces. The broad divergent beam improves throughput by uniformly covering a wide deposition zone. 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。 ※こちらのカタログは英語のカタログになります。

• 蒸着装置
• エッチング装置
• プラズマ表面処理装置

本装置は、数十～数万個の気体原子や分子の集団をイオン化して適度なエネルギーに加速したビーム（GCIB）を非加工物に照射する事で表面の超平滑化や改質を低ダメージで行う事が出来ます。原子分子レベルの加工のため、すでに形状加工された微細構造物の平滑化やエッチング加工、表面加工が可能です。 【特長】 ■ナノオーダーの微細加工に適しています ■Ra 数ナノメートルの平坦化加工 ■反応性ガス処理対応 ■基板表面温度１００℃以下での加工可能 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

• その他表面処理装置
• その他加工機械

光学分野用イオンビームスパッタ装置です。 スパッタ:16cm RF Ion Source アシスト:16cm RF Ion Source ターゲット：2面　揺動機能 ステージ：自転 膜厚制御：透過型波長可変レーザー膜厚制御 主排気：クライオポンプ　又は TMP+SUPCOLD 詳しくはお問い合わせ願います。

• レーザ部品
• その他光学部品

薄膜は、レンズ類の反射防止膜、レーザーフィルター、ミラー、液晶ディスプレイパネル、建築用ガラス等々、実にさまざまな分野で利用されており、最近では特に撥水、防汚等の機能性薄膜が注目されています。一般的には、これらの薄膜は蒸着によって形成され、金属酸化物やフッ化物等の材料が蒸着材料として用いられており、多種多様な目的に応じた種類・形状・サイズのものが使用されます。弊社ではお客様のニーズにお応えする蒸着材料を提供しています。

• 蒸着装置

真空技術の専門商社として各種消耗部品を取り扱っております。

• 蒸着装置

OSIの「イオンビームスパッタリング装置」は、お客坂の使用ニーズに合わせてカスタマイズできるイオンソースを搭載した実験用装置です。Veeco社の SPECTOR 相等の能力を発揮します。 RFイオンソースをスパッタ用およびスパッタ用／アシスト用として使用し、OMSまたはOTMソフトを搭載した精密光学の超薄膜多層成膜に適しています。 【特長】 ■イオンソースを搭載した実験用装置 ■Veeco社の SPECTOR 相等の能力を備える ■OMSまたはOTMソフトを搭載した精密光学の超薄膜多層成膜に最適 ■使用ニーズに合わせてカスタマイズ可能 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

• スパッタリング装置

お客様用途に合わせて、研究開発用、量産用に装置設計いたします。 【装置特長】 ・プロセス動作圧10-2Pa台(10-4Torr台) 　高真空成膜可能 ・コンタミネーションが少ない ・無加熱成膜可能 ・高密度膜 ・反応性成膜可能 ・イオンビームアシスト追加可能 ・膜厚等の制御性良好

• スパッタリング装置
• その他半導体
• 磁石

オーエスアイ・インダストリーではカウフマン&ロビンソン社製の各種グリッドイオンソース取り扱っています。 各種グリッドイオンソースの仕様を細かく掲載していますので、この機会に是非ご覧ください。 【掲載内容】 ●放電/放電電流/放電電力 ●グリッド ●ビームタイプ ●ガス流量 ●ガス ●圧力 ●イオンガン高さ/イオンガン直径 ●ニュートライザー その他詳細は、カタログをダウンロード、もしくはお問合せ下さい。

• その他半導体製造装置

SIRIUS-Oは、噴流加工技術を搭載した洗浄装置です。 噴流加工とは、弾性体であるメディアを噴射し、スベリながら被加工物に アタックすることで面ダレ・梨地などが発生しない加工技術です。 被加工物へのダメージも無く、コーティング膜のみを落とすことができるので、精密部品の洗浄などに適しています。

• その他洗浄機

各メーカー品との互換性を持ち バルブには安定したMFCを搭載するオートプレッシャー・コントローラー　 【特徴】 ○互換性のあるため、ユーザー様でも設置交換が可能 ○現在使用中の真空ゲージを活用するため 　既存品ゲージを無駄にすることがない ○APCの交換をオートプレッシャー・コントローラーで代替することで 　費用を大幅に削減 ○AC85V〜AC264Vの電流に対応 ○MFCの搭載 　・導入中のガス流量をモニターすることが可能 　・最大ガス流量は200〜2000sccmまで選定可 　・両端にバルブを搭載することで徹底した防爆対策 ●その他機能や詳細については、カタログダウンロード下さい。

• 電源

「小型実験用イオンビームエッチング装置」は、DCイオンソースを使用し、基板回転冷却シングルステージを搭載した装置です。 Au、Pt、磁性材等を容易にエッチングし、テーパー加工も簡単にできます。基板表面温度80℃以下での処理が可能です。 微細加工に最適です。 【特徴】 ●有毒ガスを使用しないため、排ガス処理不要 ●エンドポイントディテクター搭載可能 ●イオンビームエッチング装置、イオン源、イオンビーム技術の 　お問合せやご質問、デモンストレーションについては 　お気軽にご相談ください。 その他詳細は、カタログをダウンロード、もしくはお問合せ下さい。

• エッチング装置

小型イオンビームエッチング装置は、DCイオンソースを使用し、基板回転冷却シングルステージを搭載したイオンビームエッチング（IBE）装置です。 微細加工、金属及び磁性体材料もエッチング可能です。 【特長】 ○Au, Pt, 磁性材等を容易にエッチング ○テーパー加工が容易 ○基板表面温度 ８０℃以下での処理が可能 ○有毒ガスを使用しないため、排ガス処理不要 ○エンドポイントディテクター搭載可能 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

• エッチング装置

【取扱い製品紹介】 ●温度信頼性試験装置 ハイタオ製サーマルショック装置は温度信頼性試験環境として －55℃→＋125℃まで10秒で昇温 ＋125℃→－55℃まで16秒で降温 急速温度変化環境を提供します。 ●サップコールド 弊社相模原サービスセンターにて全数出荷前検査を行い日本、台湾、中国、東南アジアに出荷しています。 フロン排出規制に対応した冷凍機のため、既存設備からの載替を行っています。 ●GCIB（ガスクラスターイオンビーム） 数十〜数万個の気体原子よりなるクラスターをイオン化し、適度なエネルギーに加速して照射する技術です。低エネルギーイオンエッチング、高品位成膜・表面平滑化が実証されています。 ●Multiple APC 高い安定性と幅広い互換性を兼ね備えたオート・プレッシャー・コントローラー ●DP-eco 電気代削減で環境に優しいDP用省エネ・ユニット ●イオンビームエッチング/スパッタリング装置 お客様仕様に合わせて設計致します。 小型実験機～CtoC量産装置に対応。 ●消耗品 ●薄膜材料 ●KRI社製イオンソース 　DC、RF、エンドホール

• エッチング装置
• 蒸着装置
• その他表面処理装置