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■ファイバーコリメート用アライメントシステム 特長１．ファイバーの挿入と取り外しを簡単にするスロット付き 特長２．360度自由回転 特長3．一体型ステッピングモータードライブ 特長３．最高速度18°/秒（360°の場合は20秒） 特長４．応力可変V溝クランプでファイバーを保持（同心度誤差が1µm未満） 特長５．自動回転調整用のLabVIEWドライバーで利用可能なステッパーコントローラー 特長６．125 / 250µm用の標準V溝が付属 ■ファイバーローテーターとV溝ファイバーホルダー 超小型マイクロポジショナーシリーズ専用のファイバーオプション：精密位置合わせやアライメントに最適なファイバーローテーションとV溝ファイバーホルダーです。 ■高分解能用オプション ピエゾアジャスター自動ステージシステムを使用すれば分解能10nmの超高精度のアライメントシステムに。 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
■1軸超小型マイクロポジショナー 極小アリ溝機構のステージで非常に滑らかで、内蔵のばねによりバックラッシュのない動きができるステージです。 ■3軸XYZ超小型マイクロポジショナーステージ 極小アリ溝機構のステージで非常に滑らかで、内蔵のばねによりバックラッシュのない動きができるステージです。 ■ファイバーローテーターとV溝ファイバーホルダー 超小型マイクロポジショナーシリーズ専用のファイバーオプション：精密位置合わせやアライメントに最適なファイバーローテーションとV溝ファイバーホルダーです。 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
■45°を超える画角を高精度に再現可能。 直交した2軸の回転ステージとMonolithic XYステージを組み合わせることにより、任意に規定した回転中心で制御が可能です。2軸の回転ステージを使用しているので、大きな角度の制御が高速に行うことが可能です。 ■ユーザーフレンドリーなコントローラーメソッド 2軸の回転とXYステージの同期演算をコントローラーに埋め込んでいる為、ユーザーは座標制御でコントロールが可能。動作軸の同期だけではなく、レーザーのOn/Off、Powerコントロールの高速同期制御によりハイスピード、高精度のレーザー加工機の制御を実現します。 ■高性能モーター/光学エンコーダー採用 欧米製の一流メーカー品の採用で精度だけでなく、高い信頼性を実現。MTBF>100,000h。 ■様々なステージとダイレクトアッセンブリー可能。 400種を超えるステージとアダプタープレートを介さずにダイレクトに取り付けることが可能です。6D Point Precision準拠の多軸ステージシステムとなります。 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
■3枚板の薄型高剛性デザイン 中板の両面に高精度クロスローラーを直交させることにより、薄型デザインで高精度、高剛性を実現。ストロークは問わず、±30nmの繰り返し精度を次世代規格6D Point Precisionで実現。 ■Ultra/Nanoオプションで標準アップグレード 多数のアップグレードオプションを用意。レーザーマッピングや構造部材の精度向上により精度向上。 ■高性能モーター/光学エンコーダー採用 欧米製の一流メーカー品の採用で精度だけでなく、高い信頼性を実現。MTBF>100,000h。 ■様々なステージとダイレクトアッセンブリー可能。 400種を超えるステージとアダプタープレートを介さずにダイレクトに取り付けることが可能です。6D Point Precision準拠の多軸ステージシステムとなります。 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
■長ストロークのパラレルキネマティック 技術的にはメーターストロークのXYが可能(スタンダードでも400mm)。Z: <205mm, θx, θy:<40°, θz: 360°のストロークを誇るTrue nanoステージ。組み合わせで小型タイプから大型タイプまでラインナップ。 ■ユーザーフレンドリーなコントローラーメソッド キネマティックな演算をコントローラーに埋め込んでいる為、ユーザーは座標制御でコントロールが可能。起動中に回転軸(TCP)をソフトウエアから任意の座標に設定可能、これにより動作を止めることなく、自由度の高い動作が可能。 ■高性能モーター/光学エンコーダー採用 欧米製の一流メーカー品の採用で精度だけでなく、高い信頼性を実現。MTBF>100,000h。 ■様々なステージとダイレクトアッセンブリー可能。 400種を超えるステージとアダプタープレートを介さずにダイレクトに取り付けることが可能です。6D Point Precision準拠の多軸ステージシステムとなります。 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
■フリースペースオプティカルアイソレーター Isowaveのオプティカルアイソレーターはシングルユニットで40db、デュアルユニットでは75dbのアイソレーションによって、幅広い波長に対応しております。 ほとんどのモデルはユーザーに合わせたカスタムに対応しているのでご希望にそったチューンが可能です。ファラデーローテーター単体のお取り扱いもございます。 ■小型アイソレーター 小型アイソレーターは小型の製品の一部としてパッケージが可能なほど小型され、なおかつ耐久性を兼ね備えています。ステージはシングル、セミダブル、トゥルーダブルからお選びいただけ、63dbのアイソレーションでお使いいただけます。 波長は780,800,1064,1310,1550nmモデルがありこちらもカスタムに対応しています。 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
■Altechna社のビームエキスパンダーは、一般的なレンズが回転しながら動く機構ではなく、リニアにスライドする機構で、ビームのポインティングがほとんどずれません。 また、ビーム径を変えながらビーム拡がり角も変えることが可能なので、光学系の微調整に最適です。 ◯手動タイプ 固定倍率モデル ◯手動タイプ 可変倍率モデル ◯自動可変タイプ ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
■負ベッセルビーム領域 入射光の偏光は凹型アクシコンレンズよりも右回り円偏光が大きくなります。 ■正ベッセルビーム領域 入射光の偏光は凹型アクシコンレンズよりも左回り円偏光が大きくなります。 ■正負ベッセルビーム領域 入射光の偏光は正負両方のアクシコンレンズを同時に使用した時よりも直線偏光が大きくなります。 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
■高い損傷閾値 63,4 J/cm @1064 nm, 10ns 2,2 J/cm @1030 nm, 212fs ■高い透過率 1030nmで94％、515nmで92％、343nmで85％という高い透過率。 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
■デーフォーマブルミラー(アクチュエーター100個以下) レーザー、顕微鏡用途や眼光学(OCT)等に最適なデフォーマブルミラー。ボイスコイルモーターにより、高速、高ダイナミックレンジな波面コントロールを実現。オープンループの際でも、高安定にするオプションがあります。 ■デフォーマブルミラー(アクチュエーター100個以上) 標準品最大アクチュエーター数3228個を誇るデフォーマブルミラー。 高速Settling time、高精細で天体望遠鏡、空間伝送通信のアプリケーションに最適です ■デフォーマブルミラー用ソフトウエア Aceシリーズ MATLAB上で開発されており、ユーザーサイドでのカスタマイズ性を高くなってます。 通常バージョンに加え、リアルタイムコンピューター用のACE RTCも用意しています。 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
■世界各国で数々の実績 HilaseやLLNL等、世界有数の高出力レーザー施設で長年使用されているデフォーマブルミラー。最大20cm角のデフォーマブルミラーまで出荷実績があります。 ■ゼルニケ5次の項までの補正が可能 標準の製品でゼルニケ5次の項までの補正可能です。最大アクチュエーター数124個対応可能です。 ■広帯域対応、高い損傷閾値 紫外30nm～10.6μmまでの帯域に対応し、ＣＷ光源で4kW、パルス光源は> 50J/cm2 (ns)、> 2J/cm2 (fs)という損傷閾値。 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
■透過型波面コントロールレンズ 小型に製造され、組込みに最適な波面コントロールデバイス。顕微鏡対物レンズにダイレクトに取り付けも可能な形状になっています ■波面センサー 同社のAOシステムに簡単に組み合わせて使用が出来るシャックハルトマン方式の波面センサー。＜1kHzの高速モデルもあります。 ■波面コントロールソフトウエア ソフトウエア内で簡単に波面をコントロール可能。波面センサーと組み合わせることでクローズドループが可能で、AOシステムが構築できます。 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
■圧倒的に高い回折効率 独自のマスクベースの全領域露光製造プロセスと、卓越した設計知識によって、99.5%という圧倒的に高い回折効率を実現しました。 ■高い損傷閾値、低い波面収差 高純度のフューズドシリカと高品質の誘電体多層膜コーティングによって高い損傷閾値、スティッチングエラーのない製造方法で、低い波面収差を実現します。 ■幅広い対応波長 450nm～1975nmと幅広い標準品のラインナップ。メーカー在庫品も多数あります。 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
【ラインナップ】 ◯1064nm(1020-1090nm) ◯532nm(510-550nm) ◯465nm(460-470nm) ◯405nm(397-423nm) ◯355nm(345-365nm) ◯1550nm(1510-1580nm) など ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
【ラインナップ】 ◯可視光用反射ミラー ◯近赤外用反射ミラー ◯YAG用反射ミラー ◯高出力YAG用ミラー 基本波、２倍波、３倍波、４倍波 ◯フェムト秒用低分散ミラー 1030nm/800nm/343nm/257nm ◯赤外用反射ミラー ◯銀コートミラー ◯YAGレーザー用3波長対応ミラー(1064,532,355nm) ◯YAGレーザー用3波長対応ミラー(532,355,266nm) など ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
【ラインナップ】 ○ゼロオーダー波長板 ○アクロマティク波長板 ○IBS偏光ビームスプリッター ○広帯域偏光ビームスプリッター ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
■離型剤処理不要 樹脂表面に移行した防汚成分が、硬化後に離型剤としての機能を果たします。そのため転写毎に離型剤処理をする手間を省けます。また離型剤残りによる転写物の形状変化も防げます。 ■優れた転写性能 離型剤処理をしないので、離型剤の膜による転写材料の微細な形状変化も防げます。また、レプリカモールド上の防汚成分は化学的に結合しているので長寿命です。※転写回数は転写物の構造、転写材料の性質、その他の条件により異なります。 ■マイクロインプリントからナノインプリントまで µmオーダー～数100nmサイズの微細構造に適したモデルから、数10nmの超微細構造に適したモデルまであります。 ※詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。
■高硬度、耐擦過性 平膜の状態では鉛筆硬度>9H、耐擦過性(スチールウール)>1kg。インプリント転写でモスアイ構造にしても鉛筆硬度：3～4H、耐擦過性(スチールウール)>700g。 ■防汚性、撥水・撥油性 樹脂表面に移行した防汚成分が、防汚性能、撥水・撥油性能を発揮します。油性マジックでも弾き、拭き取り可能回数は1,000回以上。水の接触角は平膜の状態で>100°、インプリント転写でモスアイ構造にすると超撥水の>150°。 ■微細構造の転写も インプリントで微細構造を転写することもできます。これにより高硬度の微細構造を作製できます。幅：数100nm、アスペクト比：2以上のいわゆるモスアイ構造も転写でき、高硬度高耐久性のモスアイ構造を作成できます。 ※詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。
■UV+後加熱タイプ 硬化反応はUVで、後加熱により接着強度を向上させるタイプです。低硬化収縮、高接着、高耐久性、アルミ接着性良好です。 ■ファイバー、キャピラリー等の固着に最適 ■レンズ、光学部品等の固着に最適 ※詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。
基材を室温に戻してから剥離させる事が可能！ 硬化した接着層を加熱し、加熱時並びに、基材を室温に戻す事により接着界面に変化（剥離現象）を起こし接着力が急激に低下します。 基材が硝子同士の接着の場合、両基材とも界面から剥離するので、樹脂層がフィルム状に綺麗に剥がれます。基材の状態によっては洗浄工程が不要となります。 ※詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。
【製品ラインアップ】 《可視光硬化タイプ》 ■有害な紫外線を使わず硬化できる ■硬化波長は～565nm ■光のみで固まる ■アフターベーキング不要 ■硬化時間が短い 《UV硬化タイプ》 ■光のみで固まる ■アフターベーキング不要 ■硬化時間が短い ※詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。
ストローク 20mm-50mm 分解能 2nm 最大速度 8mm/s(無負荷時) 最大荷重 <0.5kg サイズ 45×45×14mm
最新マスクレスリソグラフィーシステム：Smart Print UV ハードマスクを必要とせずにミクロンの分解能で任意の2D形状を生成できます。マイクロ流体、バイオテクノロジーおよびマイクロエレクトロニクスなど表面マイクロパターニングを必要とする応用分野のために設計されています。 デジタルマイクロミラーデバイス（DMD）を使用して、標準的なフォトマスク加工を使用することなくデザインからパターン化されたサンプルに直接移行でき、とても簡単な方法でご利用できます。マスクが不要なため、より柔軟性があり全体的の製作時間を大幅に短縮することができます。
・耐荷重50kgまでのモデルReactio! 非常にフラットなデザイン、簡単操作、様々なサイズのラインナップで費用対効果の高いアクティブ除振台。空気バネ式除振台からの切替に最適な価格帯！M6スレッドのオプション有。 ・耐荷重150kgまでのモデルReactio Pro! 1 Hzをはるかに下回る高精度のレベリングとアイソレーションにより、最も困難なアプリケーションに最適なアクティブ防振を提供します。簡単操作のワンボタンオペレーションアクティブ除振台。M6スレッドのオプション有。 ・驚くべきアイソレーションパフォーマンス！ 一般的な空気バネ式除振台が2Hzの共振が発生し、建物の揺れや人の歩いた振動等により＋10db振動を増大させます。Reactioは、2Hz付近で-10dB、5Hzで最大-25dBとなり、Reaction Proでは、10Hzで最大-40dBと、さらにパフォーマンスを向上させることができます。
UVC LED光源モジュールは、その高安全性、出力安定性、高寿命、低消費電力、低メンテナンスなどの理由から、UVランプ光源（水銀、キセノン、アマルガム、エキシマ）に代わり、次世代の光源として、置き換えられています。UVC LEDは有害な水銀を含まず、オゾンを生成せず、エネルギー消費量も少ないため、より環境に配慮しています。UV-C LEDの使用は、空気、ものの表面、水の浄化などの殺菌消毒（UVGI）分野でのアプリケーションで急速に成長しています。
ILT社の殺菌灯専用照度測定システムは抗菌/殺菌/UV消毒システムの光出力を検証するために必要なものがすべてそろっています。UV光の出力は装置メーカーの仕様を信用するだけでは不十分です。患者の健康を委ねているシステムが完全にウイルスや細菌を不活性化し、病原体を殺せるかどうかの殺菌効果を確認する必要があります。光源やアプリケーションに合わせて、UV-C領域全体をカバーするタイプ、中心波長254nm狭帯域タイプ、中心波長270nm広帯域タイプ、パルス光源用などの照度計をご用意しております。またUV分光放射計で各波長の光量が分かります。これは殺菌消毒に使用する機器を検証するのに非常に重要です。光源が古くなるにつれて特定の波長の光量が減少することがあります。UVC消毒システムを実測することでその装置の能力を理解することで必要な調整ができ、患者や医療スタッフの健康を確保することに繋がります。
製品仕様： 研究グレードの顕微鏡(対物レンズ4倍、10倍、40倍付き）はオプション販売しています。Cマウントで一般の顕微鏡に取り付けできます。 画素数：512 x 512 ピクセル 深さ分解能：4.5 µm (空気中）3 µm（組織中） 横分解能：対物レンズ4倍 10 µm、10倍 5 µm、40倍 2µm スキャン範囲：対物レンズ4倍 5mm、10倍 2.5mm、40倍 1mm システムサイズ： 19 x 33 x 15 cm スキャナーサイズ： 4.1 x 17.2 x 6.7 cm 重量：2.7 kg
【ラインアップ】 ■Nova-controller for 6 axes ■Nova-piezo controller for 3 axes open loop ■Nova-piezo controller for 1 axes closed loop ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
【ラインアップ】 ■AO光変調器 ■AO光偏向器 ■AOチューナブルフィルター/AOTF ■EO光変調器 ■ポッケルセルQスイッチ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
【ラインアップ】 ■ロータリーステージ ■リニアステージ ■ドライバー ■リニアシャッター ■特注ステージ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
【ラインアップ】 ■マイクロポジショナー ■ミニチュアステージシリーズ各種 ■ミニチュアXYZステージ ■ミニチュアロータリーステージ ■ウルトラファインアジャスター 分解能20nm ■ミニチュアアジャスター 100TPI ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
【ラインアップ（抜粋）】 ■ILT1700 Research Radiometer ■ILT5000 Wireless（タブレット別売） ■ILT350分光光度計 ■ILT950・ILT600 分光光度計・積分球 ■ILT1000 水処理設備用 ■内視鏡・光ファイバー用ディテクター ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
【仕様】 ■遮光用 ・半導体（赤外）帯域 ・Nd：YAG 帯域 ・CO2/エキシマ 帯域 ■作業用 ・He-Ne/Ar 帯域 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
業界の枠を超えたリニューアルでビジネスを加速！総合カタログ進呈
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