難しい材料、様々な基板形状、用途にも！非常に幅広い基板サイズに対応可能
当社では、研究・試作から量産まで対応可能な「オーダーメイド型 スパッタリング成膜装置(PVD)」を取り扱っております。 フレキシブルエレクトロニクス、光通信技術、薄膜太陽電池や バッテリー等の薄膜デバイスの研究開発から量産まで装飾や 表面保護のためのコーティングにも対応。 サンプルサイズ、成膜対象マテリアル、バッチプロセス等、お客様の 用途に応じて組み立てることが可能です。 【特長】 ■独自の技術で全ての金属、酸化物ターゲットに対応 ■面サイズは1mmx1mmから300mmx560mm、厚さは25mmまで対応可能 ■異なるサイズへの成膜でも、ハードウェア・ソフトウェアの変更が不要 ■ヨーロッパ各国の研究機関から推薦状をいただいたThin Film Equipment ※英語版資料をダウンロードいただけます。 詳しくは、お気軽にお問い合わせ下さい。
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基本情報
【仕様】 ■基板サイズ：1mmx1mm～300mmx560mm、厚さ<25mm ■Horizontal(横型)、Vertical(縦型)選択可能 ■対応ターゲット：Al、Cu、Au、Ag、Ti、W、Cr等、全ての金属、酸化物に対応 (仕様はお客様の用途、要望に応じて異なります) ※英語版資料をダウンロードいただけます。 詳しくは、お気軽にお問い合わせ下さい。
価格帯
納期
用途／実績例
【用途】 ■センサー、LEDs、OLEDs、MEMS、ハイブリッドデバイス、半導体デバイスから バッテリー、装飾・補強用コーティング等、幅広いアプリケーションに対応 ※英語版資料をダウンロードいただけます。 詳しくは、お気軽にお問い合わせ下さい。
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この製品に関するニュース（2）
企業情報
当社は、プラズマ技術を応用したエッチング、成膜、切断装置に加え、 ICP, RIE, DSE, IBE, IBD, PECVD, HDPCVD, HDRF F.A.S.T.-ALD装置の販売、 並びに、当該装置に関するカスタマーサービスの提供しております。 米国フロリダ州に本社を構える、Plasma-Therm LLCは、1974年に設立。 設立以来、48年間プラズマ技術を応用した半導体製造装置の製造・販売を 行っています。 ご用命の際はお気軽にお問い合わせください。 ▼グループ会社Corial 公式サイト https://corial.plasmatherm.com/en