CVD装置の製品一覧
- 分類：CVD装置
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Φ3inch、Φ4inch ウエハーサイズ対応プラズマCVD 装置。不純物を抑制し清浄・高品質なグラフェンを高速合成。
- CVD装置
★☆★☆【MiniLab-026】R&D開発用 小型薄膜実験装置★☆★☆
モジュラー式コンポーネント・制御機器設計による豊富なバリエーション。様々な薄膜プロセス実験への応用が可能になります。小型省スペース・シンプル操作・ハイコストパフォーマンスを実現した、フレキシブルR&D用薄膜実験装置です。 マグネトロンスパッタ（最大3元）もしくは抵抗加熱蒸着（金属源 最大2、有機材料x4）に対応します、又基板加熱ステージを設置しアニール装置、RFエッチングも製作可能。 グローブボックス収納タイプもございます（*要仕様協議）。 フレキシブルにカスタマイズが可能な豊富なオプション部品を揃えております。 ◉ Φ2inchマグネトロンカソード（最大3元） ◉ 抵抗加熱蒸着源フィラメント、ルツボ、ボート式（最大4極 コントローラで自動切替） ◉ 有機蒸着セル：1cc or 5cc ◉ グローブボックス搭載可能（オプション 要仕様協議） ◉ その他オプション： 同時成膜、HiPIMS、自動成膜コントローラ、特注基板ホルダ、ロードロック、基板回転/加熱・冷却などオプション豊富。 ※ まずはご要求の仕様をご連絡下さい、ご要望に合わせシステム構成致します。
【ホットウオール式熱CVD装置】基礎研究に最適なコンパクトサイズ高性能CVD装置
- CVD装置
- アニール炉
- 加熱装置
4元マルチスパッタ装置 【MiniLab-S070】
Φ2inchカソード x 4搭載 同時成膜：3元同時成膜（RF150W or DC780W）+ HiPIMS（PulseDC 5KW） x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリング RIEエッチングステージRF150W（メインチャンバー） + <30Wソフトエッチング（LLチャンバー） 基板加熱：Max500℃, 800℃, 又は1000℃（C/C、又はSiCコート） 基板回転・上下昇降（ステッピングモーター自動制御） APC自動制御：アップストリーム（MFC流量調整）又はダウンストリーム（排気側バルブ自動開度調整） デポレート・膜厚レート制御 寸法：1,120(W) x 800(D) ●抵抗加熱蒸着・有機材料蒸着・EB蒸着・PECVDなどの混在仕様も構成可能です。
独自のLIA方式プラズマ源を採用し、樹脂フィルムや金属箔に超高速、高品質な真空成膜を実現！
- CVD装置
独自のLIA方式プラズマ源を採用し、ガラス、金属などの平板基材に超高速、高品質な真空成膜を実現！
- CVD装置
省スペース設計で、バキュームポンプ・モジュールはプロセス・モジュールから最大18ｍ離して設置することができます。
- CVD装置
弊社にてデモ可能！ 市場初投入の新技術。大気圧プラズマでＣＶＤ。 少量多品種に対応できます。
- CVD装置
- その他塗装機械
- その他加工機械
耐熱性があり、かつ耐熱衝撃性にも優れている『窒化珪素』は、機械的強度も強くバランスの良い素材です。
- ファインセラミックス
- CVD装置
- 加熱装置
パッシベーション用MBE装置は、レーザーファセットパッシベーション等のために特別設計された各種チャンバーで構成されております。
- 蒸着装置
- CVD装置
真空配管設備の不安を解消！プラズマや熱によるセンターリングの劣化対策の事例を進呈中
- その他半導体製造装置
- バルブ
- CVD装置
半導体材料メーカー様 必見！固体材料供給における高温化の課題への提案の事例を進呈中
- その他半導体製造装置
- バルブ
- CVD装置
耐熱300℃以上！各種スーパーエンプラのご提案が可能です 半導体業界から「高耐熱樹脂の材料枯渇」への代替提案として問合せ増！
- CVD装置
- バルブ
- プラスチック
センサー・回路部・ディスプレイが一体型のコンパクトな熱陰極電離真空計です。16種類のガスに対応し、金属製センサーも使用！
- CVD装置
【特に人気のある3事例をまとめて進呈中！】「バルブを変える」ことでトラブル発生率低下も。作業者を危険から守る安全対策のヒント集
- その他半導体製造装置
- バルブ
- CVD装置
『流路まるごと事例集』半導体材料メーカー様 必見！分解洗浄を可能としたダイヤフラムバルブの事例を進呈中
- その他半導体製造装置
- バルブ
- CVD装置
『流路まるごと事例集』錠やタグ付きワイヤーでバルブをロック！バルブ誤操作対策の事例を進呈中
- その他半導体製造装置
- CVD装置
- 酸化/拡散装置
『流路まるごと事例集』バルブ半開によるヒヤリハット事例がある方、狭所での閉止確認にお困りの方必見！ 安全対策の事例を進呈中。
- CVD装置
- 酸化/拡散装置
- その他半導体製造装置
『流路まるごと事例集』半導体ガス供給装置輸送時のリスクに先手を打つ。安全対策の事例を進呈中
- その他半導体製造装置
- CVD装置
- 酸化/拡散装置
除害装置前段やCVD排気ラインの副生成物対応にお困りの方必見！ 高温（180℃）バルブで副生成物を抑制した事例を進呈！
- CVD装置
- 酸化/拡散装置
- その他半導体製造装置
『流路まるごと事例集』ワイヤーや錠の取付け不要！ヒューマンエラーによるバルブの誤作動を防止するロック付きバルブの事例を進呈中
- CVD装置
- その他半導体製造装置
- バルブ
内径わずか1mmのパイプの内側にも施工可！潤滑、耐蝕、離型に優れているので用途は厨房機器から宇宙機器に至るまで様々です。
- その他表面処理装置
- CVD装置
排気を上方向に排出する機構を採用。周囲のチップを噴出気体により吹き飛ばすことなく非接触でつかみ移載します。
- ウエハー
- CVD装置
- ウエハ加工/研磨装置
フッ素樹脂チューブライニングとは、金属パイプ内面にフッ素樹脂チューブ（内径3mm～）を焼付して接着させるライニング技術です。
- 印刷機械
- ろ過装置
- CVD装置
デバイスメーカーの求める装置の価値基準とは？ KITZSCTは排気系ラインの省スペース化設計/施工性向上をお助けします。
- その他半導体製造装置
- CVD装置
- 酸化/拡散装置
液漏れを早期に発見し事故を最小限に防止！油、有機溶剤検知器にＲｏＨＳおよびＣＥ対応のＯＤ－７が加わりました。
- CVD装置
Agnitron社にて独自開発された、高性能、高スループット先端化合物半導体向けMOCVD装置を提供します。
- CVD装置
最新の制御機能とデータロギング機能を有する、WindowsベースのSCADAパッケージMOCVD装置制御ソフトウエアです。
- CVD装置
Agnitron社で開発されたAgniTemp-MOCVD In-situ温度モニターは高精度、高安定である温度モニターです。
- CVD装置
各種真空装置内でのウエハ応力、反り、曲率、異方性等をリアルタイム、高精度に測定するIn-situモニター。
- CVD装置
高温アンモニアに耐性があり、容易に高温が得られる機能部品、高温用ヒータ、構造材。窒化物の単結晶成長からウェハプロセスまで対応。
- CVD装置
