加熱装置の製品一覧
- 分類：加熱装置
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【重量物の取り扱いによる作業負担を軽減！】お客様の課題を解決した導入事例5選を収録！ワークに応じた無料相談、テストも受付中！
- その他搬送機械
パウダー状の乾燥結晶を得る研究用フィルタードライヤーです。加圧濾過器・棚式乾燥機のような製品固化・ロスをなくし工程を減らします。
- その他粉体機器
- 加熱装置
GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケーションに応用頂けるアニール炉です【テスト可】
- はんだ付け装置
- 加熱装置
マイクロ波および高周波誘電加熱の加熱方式の違いを整理するとともに、これらの技術が応用されたプロセスの具体的な実用例をご紹介！
- 高周波・マイクロ波部品
- 加熱装置
卓上小型サイズ実験炉・省スペース 最高使用温度2000℃！ 還元雰囲気用メタル炉も製作致します。
- 加熱装置
- 電気炉
- アニール炉
4元マルチスパッタ装置 【MiniLab-S070】
Φ2inchカソード x 4搭載 同時成膜：3元同時成膜（RF150W or DC780W）+ HiPIMS（PulseDC 5KW） x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリング RIEエッチングステージRF150W（メインチャンバー） + <30Wソフトエッチング（LLチャンバー） 基板加熱：Max500℃, 800℃, 又は1000℃（C/C、又はSiCコート） 基板回転・上下昇降（ステッピングモーター自動制御） APC自動制御：アップストリーム（MFC流量調整）又はダウンストリーム（排気側バルブ自動開度調整） デポレート・膜厚レート制御 寸法：1,120(W) x 800(D) ●抵抗加熱蒸着・有機材料蒸着・EB蒸着・PECVDなどの混在仕様も構成可能です。
最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉（カーボン炉、タングステンメタル炉） 小型・省スペース実験炉
- 加熱装置
- アニール炉
- 電気炉
4元マルチスパッタ装置 【MiniLab-S070】
Φ2inchカソード x 4搭載 同時成膜：3元同時成膜（RF150W or DC780W）+ HiPIMS（PulseDC 5KW） x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリング RIEエッチングステージRF150W（メインチャンバー） + <30Wソフトエッチング（LLチャンバー） 基板加熱：Max500℃, 800℃, 又は1000℃（C/C、又はSiCコート） 基板回転・上下昇降（ステッピングモーター自動制御） APC自動制御：アップストリーム（MFC流量調整）又はダウンストリーム（排気側バルブ自動開度調整） デポレート・膜厚レート制御 寸法：1,120(W) x 800(D) ●抵抗加熱蒸着・有機材料蒸着・EB蒸着・PECVDなどの混在仕様も構成可能です。
最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉（カーボン炉、タングステンメタル炉） 小型・省スペース実験炉
- 加熱装置
4元マルチスパッタ装置 【MiniLab-S070】
Φ2inchカソード x 4搭載 同時成膜：3元同時成膜（RF150W or DC780W）+ HiPIMS（PulseDC 5KW） x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリング RIEエッチングステージRF150W（メインチャンバー） + <30Wソフトエッチング（LLチャンバー） 基板加熱：Max500℃, 800℃, 又は1000℃（C/C、又はSiCコート） 基板回転・上下昇降（ステッピングモーター自動制御） APC自動制御：アップストリーム（MFC流量調整）又はダウンストリーム（排気側バルブ自動開度調整） デポレート・膜厚レート制御 寸法：1,120(W) x 800(D) ●抵抗加熱蒸着・有機材料蒸着・EB蒸着・PECVDなどの混在仕様も構成可能です。
卓上小型サイズ実験炉・省スペース 最高使用温度2000℃！ 還元雰囲気用メタル炉も製作致します。
- 加熱装置
- 電気炉
- その他ヒータ
4元マルチスパッタ装置 【MiniLab-S070】
Φ2inchカソード x 4搭載 同時成膜：3元同時成膜（RF150W or DC780W）+ HiPIMS（PulseDC 5KW） x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリング RIEエッチングステージRF150W（メインチャンバー） + <30Wソフトエッチング（LLチャンバー） 基板加熱：Max500℃, 800℃, 又は1000℃（C/C、又はSiCコート） 基板回転・上下昇降（ステッピングモーター自動制御） APC自動制御：アップストリーム（MFC流量調整）又はダウンストリーム（排気側バルブ自動開度調整） デポレート・膜厚レート制御 寸法：1,120(W) x 800(D) ●抵抗加熱蒸着・有機材料蒸着・EB蒸着・PECVDなどの混在仕様も構成可能です。
建材、車載、空調機器用に！900℃の電気式空気加熱装置による 『ろう付け工法』！火炎レス装置で脱CO2ろう付けを達成！
- 加熱装置
1日100トンの処理能力を確立！ 90年以上にわたる実績と独自の熱処理技術で、様々なニーズに応じたご提案・ご対応が可能です。
- 加熱装置
加熱工程の導入前に読んでおきたい、導入の流れやポイントを6つのチェックリスト形式で解説した技術資料！
- 加熱装置
- その他ヒータ
- 乾燥機器
高効率でコンパクトな電気ヒーター式過熱水蒸気発生器！焼成、乾燥、炭化、焙煎、殺菌等食品等様々な用途で利用可能です！
- 加熱装置
湯煎などによる「固形油脂」の溶解に時間が掛かり、お困りではないでしょうか？そんな時間のロスを解決します。
- 加熱装置
- その他 加熱機器
- その他ヒータ
ハロゲンランプヒーターより放射される光（近赤外線）を照射し、高温・急速加熱が出来る近赤外線ヒーターユニットです
- 加熱装置
- その他機械要素
- その他加工機械
高い電力密度、高効率反射鏡により高速加熱が可能な近赤外線ヒーターです。ライン速度アップ、加熱時間短縮といった課題を解決致します。
- その他機械要素
- その他加工機械
- 加熱装置
ハロゲンランプヒーターより放射される光（近赤外線）を照射し、高温・急速加熱が出来る近赤外線ヒーターユニットです
- 加熱装置
- その他機械要素
- その他加工機械
赤外線ヒーター選定に重要な五項目をまとめた小冊子「赤外線ヒーター選定における重要な五項目～五輪書～」を無料進呈中です！
- 加熱装置
- その他機械要素
- その他加工機械
ハロゲンランプヒーターより放射される光（近赤外線）を線状に照射し、高温・急速加熱が出来る近赤外線ヒーターユニットです
- 加熱装置
- その他機械要素
- その他加工機械
近赤外線ヒーターの性能がわかる実験室へご招待！加熱・乾燥・接合・溶着・硬化・真空加熱までお試しできます！
- その他機械要素
- その他加工機械
- 加熱装置
